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Fターム[4G072DD06]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 粒径 (1,792) | 0.1−0.01μm (419)

Fターム[4G072DD06]に分類される特許

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【課題】シリカフュームに代表されるシリカ質微粉末の分散性を効率よく改善し、コンクリートやモルタルなどの圧縮強度や流動性の改善に寄与しうるシリカ質微粉末を得ることを一の目的とする。
【解決手段】 本発明は、シリカ質微粉末に酸性ガスを接触させることを特徴とするシリカ質微粉末の改質方法を提供する。また、本発明は、シリカ質微粉末に酸性ガスを接触することにより得られたことを特徴とする改質シリカ質微粉末を提供する。また、本発明は、シリカ質微粉末に酸性ガスを接触することにより得られた改質シリカ質微粉末を含むことを特徴とするセメント組成物を提供する。 (もっと読む)


【解決手段】珪素ナノ粒子が酸化珪素中に分散した構造を有する複合粒子であって、珪素ナノ粒子のサイズが1〜100nmであり、かつ0<酸素/珪素(モル比)<1.0である複合粒子からなる非水電解質二次電池用負極材。
【効果】本発明で得られた非水電解質二次電池用負極材をリチウムイオン二次電池負極材として用いることで、初回充放電効率が高く、高容量でかつサイクル性に優れたリチウムイオン二次電池を得ることができる。また、製造方法についても簡便であり、工業的規模の生産にも十分耐え得るものである。 (もっと読む)


【課題】比誘電率及び/又は誘電正接が低く、異方性が高い板状シリカ粒子の製造方法、及び該板状シリカ粒子を提供する。
【解決手段】(1)ナノ細孔が実質的に存在しない中空状シリカ粒子を粉砕する工程を含む、比誘電率が3.5以下及び/又は誘電正接が0.01以下である板状シリカ粒子の製造方法、及び(2)その製造方法により得られた、比誘電率が3.5以下及び/又は誘電正接が0.01以下である板状シリカ粒子である。 (もっと読む)


【課題】無機ナノ粒子の分散性を改善し、また高分子膜の気体透過特性を改善する。
【解決手段】ナノオーダーの粒子径を有するシリカナノ粒子のような無機ナノ粒子の表面に、ハイパーブランチ高分子またはデンドリマー高分子を付加することにより得られた表面ハイパーブランチまたはデンドリマー修飾無機ナノ粒子をマトリクス樹脂中に分散し、製膜することにより気体分離膜を作製する。表面ハイパーブランチ修飾シリカナノ粒子は、例えば、シリカナノ粒子をアミノ基含有トリアルコキシシランで処理し、次いでこの粒子を1個のカルボキシル基および2個以上のアミノ基またはハロゲン原子を有する化合物と反応させることにより作製することができ、表面デンドリマー修飾シリカナノ粒子は、例えば、シリカナノ粒子をアミノ基含有トリアルコキシシランで処理し、次いでこの粒子を3個以上のカルボキシル基を有する化合物で処理、反応させた後、2個のアミノ基を有する化合物で処理、反応させ、これを繰り返すことにより作製することができる。 (もっと読む)


【課題】低密度シリカナノ中空粒子及びその製造方法において、塗料等を始めとする材料中に混入等をすることによって、極めて低い熱伝導率を得るために有効であること。
【解決手段】炭酸カルシウム2を結晶成長させた(S10)後に、熟成(S11)、脱水し(S12)、固体微粉末状とした後、エタノールに分散させ(S13)、シリコンアルコキシド及びアンモニアを添加して、ゾル−ゲル法によりシリカをコーティングする(S14)。このようにして作製したシリカコーティング粒子3を洗浄した(S15)後に、水に分散させて(S16)、塩酸を添加して内部の炭酸カルシウム2を溶解させて流出させることによって(S17)、流出孔を有する立方体状形態のシリカ殻からなるナノ中空粒子4が形成され、乾燥した(S18)後に、加熱工程において400℃で加熱し流出した孔を塞ぐことによって(S19)、低密度シリカナノ中空粒子1が製造される。 (もっと読む)


ナノシリカ粒子の表面が、アルデヒド官能基を含有するシロキサン置換基で修飾され、ポリマーコーティング組成物等の組成物に容易に組み込まれる粒子を提供し、引っかき抵抗性、吸塵抵抗性、非接着性を向上させる一方で、優れた膜形成特性を維持する。新規のシリカ粒子、それらを調製するための簡素で経済的なプロセス、ならびに防塵塗料およびそれらを含有するポリマー成形組成物が提供される。 (もっと読む)


本発明は、非常に低い塩含量を有し且つ少なくとも1種の沈降シリカを含有する懸濁液、その製造方法、更にその使用に関する。 (もっと読む)


【課題】本発明の主題の1つは、水溶性の孔形成剤、例えばシクロデキストリン誘導体またはサッカリドを使用することを含む多孔質シリカ粒子を調製するプロセスである。その主題はまた、このプロセスによって調製できる多孔質シリカ粒子に関し、それら種々の使用および用途に関する。
【解決手段】本発明は、水溶性孔形成剤を含むシリカ粒子を調製する工程;次いで前記孔形成剤を溶解により除去する工程で構成される工程を含む多孔質シリカ粒子の調製プロセスに関する。本発明はまた、このプロセスによって調製できる多孔質シリカ粒子、およびそれらの種々の使用および用途に関する。 (もっと読む)


【課題】例えばEtOHのように分子サイズの小さな液体からも、水分を良好に選択除去できる水分除去方法を提供する。
【解決手段】Heガス透過流量FHeとSFガス透過流量FSF6との比:FHe/FSF6が100〜10000であるとともに、SFガス透過流量FSF6が1×10−11 〜1×10−8 mol/(m・Pa・sec)である無機材質膜10を使用する。この方法は、特に液体がエタノール、イソプロピルアルコールなどの分子サイズが0.36nm以上のものである場合に効果的である。 (もっと読む)



【課題】多孔質の複合酸化物粒子の表面を多孔質のシリカ系無機酸化物層で被覆した種々の微粒子構造を提供すると共に、該微粒子を含有する被膜を基材の表面に形成して、低屈折率で、樹脂等との密着性、強度、反射防止能等に優れた被膜付きの基材を提供する。
【解決手段】微粒子は、シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる多孔質の複合酸化物粒子が、厚さが0.5〜20nmである多孔質のシリカ系無機酸化物層で被覆されてなる。前記微粒子は、珪素に直接結合した有機基を含むことが好ましく、該有機基が直接結合した珪素のモル数(SR)と全珪素のモル数(ST)の比SR/STが0.001〜0.9であることが好ましい。被膜付基材は、前記した微粒子と被膜形成用マトリックスを含む被膜が基材表面に形成されてなる。 (もっと読む)


【課題】優れた研磨性能を発揮し、かつ、長時間の研磨に供しても、研磨レートの低下が最小限に抑制された研磨用組成物を提供する。
【解決手段】水系分散媒に、真球度が0.9以上、1.0以下の範囲にある球状シリカ粒子と真球度が0.3以上、0.9未満の範囲にある非球状シリカ粒子とが分散してなり、非球状粒子に対する球状粒子の重量比が2/98〜35/65の範囲にある研磨用組成物である。球状粒子の平均粒子径が20〜150nmの範囲にあり、非球状粒子の平均粒子径が5〜100nmの範囲にある。 (もっと読む)


【課題】優れた流動性、帯電性、耐久性をトナーに付与できる疎水性無機微粒子の製造方法を提供することにある。
【解決手段】個数基準での粒度分布における平均1次粒径が5乃至25nmであり、個数基準での粒度分布における最大ピーク粒子径が20nm以下である小粒径無機微粒子と、個数基準での粒度分布における平均1次粒径が、該小粒径無機微粒子の個数基準での粒度分布における平均1次粒径の1.5乃至100倍である大粒径無機微粒子とを、同一の処理槽内で撹拌しながら疎水化処理を行う工程を有することを特徴とする疎水性無機微粒子の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】プラズマ拡散現象を最小化してシリコンナノ粒子の粒度及び品質を向上させることができるICPを用いたシリコンナノ粒子製造装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るシリコンナノ粒子製造装置は、外壁にICPコイルが巻き取られており、内部にクォーツチューブが挿入されたクォーツリアクタを含み、シリコンナノ粒子形成のためのシランガスなどの1次ガス及びシリコンナノ粒子の表面反応のための水素、ボロン化合物ガスなどの2次ガスがアルゴンガスと共に前記クォーツチューブの内側及び外側に分離供給されるようにする。 (もっと読む)


【課題】化粧料に配合されたとき、持続して優れたソフトフォーカス性を付与することができる新規な非晶質シリカ及びその製造法を提供する。
【解決手段】X線小角散乱法で測定した一次粒子径が18乃至50nmであり、電子顕微鏡で観察した個々の粒子の円形度が0.70乃至0.85であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】トナーへの分散性やトナーの流動性低下の原因となる粗大な凝集粒子を含まず、また、トナーからの脱離を抑制することができ、従って、トナーへの均一分散性と流動性の付与効果に優れ、印刷画像上の白点の発生を抑制できる、トナー外添剤として好適な微細な一次粒子径を有するシリカ微粒子を提供する。
【解決手段】気相法により得られた平均一次粒子径が20〜100nmの親水性シリカ微粒子を一般式(I)で表されるポリシロキサンで疎水化処理してなる疎水性シリカ微粒子であって、レーザー回折法による粒子の体積基準粒子径測定で粒子径1.5μm以上の凝集粒子の割合が12%未満であることを特徴とする疎水性シリカ微粒子。
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【課題】なし
【解決手段】一次元のナノ構造は、約200nm未満の均一な直径を有する。“ナノワイヤー”と呼ばれる、かかる新規のナノ構造は、異なる化学的な構成を有する少なくとも2つの単結晶の物質のヘテロ構造と同様に、単結晶のホモ構造を含む。単結晶の物質がヘテロ構造を形成するために使用されるので、結果となるヘテロ構造は、同様に単結晶となるであろう。ナノワイヤーのヘテロ構造は、一般的に、異なる物質を含むワイヤーを生成する、ドーピング及び構成が縦若しくは放射方向の何れかで制御されるか、又は両方向で制御される、半導体ワイヤーに基づく。結果となるナノワイヤーのヘテロ構造の例は、縦のヘテロ構造のナノワイヤー(LOHN)及び共軸のヘテロ構造のナノワイヤー(COHN)を含む。 (もっと読む)


【課題】従来以上に優れた紫外線遮蔽効果を有する紫外線遮蔽剤、これを含有する化粧料、及び、優れた紫外線遮蔽効果を有する微細針状酸化亜鉛を提供する。
【解決手段】平均長径が500nm以下、平均短径が100nm以下であり、平均長径/平均短径で定義されるアスペクト比が4以上で、かつBET法による比表面積が20m/g以上である微細針状酸化亜鉛からなる紫外線遮蔽剤。 (もっと読む)


【課題】新規な貫通孔を有するマイクロリング状無機酸化物粒子を提供する。
【解決手段】平均外径(DO)が10nm〜20μmの範囲にあり、貫通孔の平均径(DI)が1nm〜12μmの範囲にあり、リング幅(WR)と平均外径(DO)との比(WR)/(DO)が0.2〜0.45の範囲にあることを特徴とするマイクロリング状無機酸化物粒子。平均粒子径が3〜100nmの無機酸化物ゾルを噴霧乾燥したのち、得られた粒子を、酸または塩基で処理することで、貫通孔を形成するマイクロリング状無機酸化物粒子の製造方法。シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる複合酸化物微粒子を使用し、シリカ以外の無機酸化物を酸にて除去したのち、酸または塩基で処理するか、水熱処理して貫通孔を形成するマイクロリング状無機酸化物粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】管状構造物の内壁を完全に超疎水化することによる、洗浄不要の管状構造物、およびその簡便且つ効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】管状固体基材(X)の内壁表面が超疎水性被膜で被覆されてなる管状構造物であって、該超疎水性被膜が、シリカナノファイバー(B)に疎水性基(C)が結合してなるナノ構造体(Y)からなるものである水性溶液移動用管状構造物、及び管状固体基材(X)の内表面にポリエチレンイミン骨格を有するポリマー層を形成させ、これとシリカソース液と接触させた後、疎水化処理を行なうことで、該基材(X)の内壁を超疎水性表面にする水性溶液移動用管状構造物の製造方法。 (もっと読む)


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