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Fターム[4G072FF06]の内容

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Fターム[4G072FF06]に分類される特許

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【課題】新規なSi含有膜形成材料、殊にPECVD装置に適したアルケニル基含有有機シラン化合物から成るSi含有膜形成材料を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表される有機シラン化合物を含有するSi含有膜形成材料を用い、化学気相成長法、特にプラズマ励起化学気相成長法によりSi含有膜を形成させ、絶縁膜として使用する。
【化1】


(式中、R,Rは、炭素数1〜20の炭化水素基または水素原子を表し、nは0〜3の整数を表す。) (もっと読む)


【目的】球状シリカ粒子の従来の製造手法の中で、大粒の粒子と小粒の粒子の比率、これらの粒子の平均粒子径を特定範囲内で制御することを可能とする独立2峰性の粒径分布を有する球状シリカ粒子懸濁溶液とその製造方法、および球状シリカ粒子を提供する。
【構成】独立2峰性の粒径分布)を有する球状シリカ粒子の懸濁溶液であって、該懸濁溶液の調製が35℃以上溶媒の沸点以下で行われ、大粒粒子の平均粒子径(Dl)が900〜1800nm、小粒粒子の平均粒子径(Ds)が50〜400nmであり、DlとDsの比(Dl/Ds)が5〜20であり、小粒粒子の占める体積割合が20〜40%であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板表面にセラミック超微粒子の規則配列単粒子膜を形成する。
【解決手段】セラミック超微粒子膜を形成する基板の表面電位を、セラミック超微粒子分散溶液のゼータ電位とは逆極性でセラミック超微粒子分散溶液中のセラミック粒子と共有結合可能な電位に制御するために、基板を少なくとも2種類の有機化合物溶液中に浸漬するか、または、基板を有機化合物溶液中に浸漬した後、基板に紫外光を照射する。 (もっと読む)


【課題】 高温で硬化した後も十分な絶縁性を保持する被膜を形成可能なシリカ系被膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】 (A)シリカ粒子と、(B)加水分解性基を有するシラン化合物と、を加水分解縮合してなるシラン変性シリカ粒子を含む、シリカ系被膜形成用組成物。 (もっと読む)


【課題】 カーボンナノチューブを細孔内に有するメソ構造体の管状細孔の方向性を、基板表面の異方性に基づく配向規制力を用いて、マクロスコピックなスケールで制御されている構造体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に形成された、均一な径の管状の細孔が一軸方向に配列した構造を有するメソ構造体膜と、前記メソ構造体膜の細孔内にカーボンナノチューブを有する構造体において、前記カーボンナノチューブが一軸配向を有していることを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】 成膜試料がプラズマによるダメージを受けることなく、任意の基板に性状のよいクラスレート化合物からなる膜を簡便に効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 籠状分子集合体の結晶構造を有するクラスレート化合物薄膜を基板16上に製造する方法であって、ターゲット20をヘリコン励起スパッタ法によりスパッタし、基板16上に前記クラスレート化合物薄膜を形成することを特徴とするクラスレート化合物薄膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 高品位の結晶性を有し、優れた光・電気特性を示すβ−FeSi2を高効率で得ることができ、しかも広範囲な基板への集積が可能な低温での合成が簡便に行える、工業的に有利なβ−FeSi2の製造方法を提供する。
【解決手段】 レーザーアニーリングによりβ−FeSi2種結晶を有する薄膜からβ−FeSi2を製造する方法において、該レーザーアニーリングを、β−FeSi2種結晶を有する薄膜表面の少なくとも一部が液相状態となる条件下で行う。好ましくは、レーザーアニーリングに用いる照射レーザーフルエンスを0.3J/cm2〜1.5J/cm2、パルスレーザー光の照射回数が1〜100ショットとする。 (もっと読む)


【課題】 多孔質構造化に伴う体積収縮を防止するとともに、均一な膜厚を有する多孔質の酸化物被膜を作製できる、新規な製造方法を提供する。
【解決手段】 金属原子またはケイ素原子を含むフルオロ錯体と、このフルオロ錯体からフッ素イオンを化学的に捕捉する捕捉剤と、少なくとも1つのベンゼン環を有する有機分子とを含む処理液1に基体2を浸漬して、当該有機分子を内包した酸化物被膜を基体2上に成長させる工程と、この酸化物被膜中から焼成により有機分子を除去する工程とを備えた多孔質酸化物被膜の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】液相プロセスを用いて、均一な膜厚の膜を形成することができる高次シラン組成物、かかる高次シラン組成物を用いる膜付基板の製造方法、膜付基板を備える電気光学装置および電子デバイスを提供すること。
に関するものである。
【解決手段】高次シラン組成物は、高次シラン化合物と、液体状のシラン化合物と、該シラン化合物より沸点(常圧)の高い溶媒とを含有する。溶媒の沸点は、シラン化合物の沸点(常圧)をA[℃]とし、溶媒の沸点(常圧)をB[℃]としたとき、B−Aが10以上なる関係を満足するのが好ましい。このような高次シラン組成物は、例えば光重合性を有するシラン化合物と、溶媒を混合し、シラン化合物の一部が重合して高次シラン化合物に変化し、他の一部が未反応物として残存するような線量で紫外線を照射することによって調製することができる。 (もっと読む)


【課題】従来のマイクロフィルター濾材を支持体とし、マイクロフィルター濾材上にボトムアップ方式でナノチューブまたはナノ繊維を直接合成・成長させることにより、従来のナノ繊維製造方法では製造できない直径のナノチューブまたはナノ繊維からなるナノフィルター濾材を製造する方法およびその装置を提供する。
【解決手段】反応器内に設けられたマイクロフィルター濾材を支持体として使用し、ナノ触媒粒子を反応器内に供給して支持体上に付着させ、ナノ触媒粒子上に原料ガス及び反応ガスを供給し、反応器を加熱装置で加熱して、反応器内のナノ触媒粒子からナノチューブまたはナノ繊維を合成・成長させることにより、マイクロフィルター濾材上にナノチューブまたはナノ繊維が合成・成長されたナノフィルター濾材を製造する。 (もっと読む)


【課題】半導体膜を形成するのに際して、光重合性を有する組成物の蒸発を抑制して、均一な膜厚の半導体膜を安定して形成することができ、また、蒸発した前記組成物によるフォトマスクやチャンバー内の汚染を防止し得る半導体膜の形成方法、半導体素子基板の製造方法、かかる方法により得られた半導体素子基板を備える電気光学装置、電子デバイスおよび半導体膜形成装置を提供すること。
【解決手段】本発明の半導体膜の形成方法は、光透過性を有する基板10の一方の面側に半導体膜を形成する方法であり、基板10の一方の面側に、光重合性を有する組成物を含有する液状材料を供給して液状被膜20aを形成する工程と、液状被膜20aが形成された一方の面側を密閉容器43で蓋った状態で基板10の他方の面側から液状被膜20aに光40を照射し、前記組成物を重合させて重合体膜を得る工程と、重合体膜を加熱することにより半導体膜を得る工程とを有する。 (もっと読む)


テスト分子の分配係数を測定する方法にして、以下の工程を含むことを特徴とする方法:多孔表面を有するナノ粒子と第一の溶媒から成る組成物に、該分子を混合する工程において、第二の溶媒が多孔表面に吸収され、第一の溶媒は第二の溶媒に対して非混和性を有するものである工程;及び、該ナノ粒子と第一の溶媒とを分離する工程。第一の溶媒の中に残る分子の量は、分配係数の計算が可能となるように、決定される。分離を容易にするために、ナノ粒子は、磁性材料の芯を有していても良い。 (もっと読む)


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