水素を、四塩化ケイ素及び／又は塩化水素と、銅等の触媒材料の一種以上の化学気相成長によって表面を変性したシリコンと反応させて、水素含有クロロシランを合成する。 （もっと読む）

【課題】 ナノワイヤー及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（イ）シリコン基板の表面に規則的に、複数のマイクロキャビティ状の微細な溝を形成させる工程と、（ロ）基板上にナノワイヤーの形成のための触媒作用を行う物質を蒸着して金属層を形成させる工程と、（ハ）金属層を加熱することによって、基板の表面の微細な溝内に金属層を凝集させて触媒を形成させる工程と、（ニ）熱処理によって触媒と基板との間にナノワイヤーを成長させる工程と、を含むナノワイヤーである。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコンの鋳造に際し、安価で高品質な太陽電池用多結晶シリコンの鋳造を行うことができる鋳造装置及びこれを用いたシリコン鋳造方法を提供する。
【解決手段】内部に保持したシリコン原料を加熱溶融して得られたシリコン融液３を、底部に設けられた坩堝出湯口１ａから出湯させる溶融坩堝１と、溶融坩堝１の外側において坩堝出湯口１ａを覆うように垂下して備えられ、下端に先端出湯口４ａを有するノズル４と、内側に離型材１２が設けられ、先端出湯口４ａから出湯されたシリコン融液を内部に保持・凝固させる鋳型９と、を具備した鋳造装置であって、ノズル４は、先端に向かって細くなるように、互いに略等しいサイズを有する複数の等脚台形板１３の台形脚部同士を組み合わせて成り、先端出湯口４ａの断面積が１ｍｍ^２以上２５００ｍｍ^２以下となるようにした。 （もっと読む）

【課題】 耐候性、耐熱性、鮮明性、耐薬品性、耐溶剤性に優れた着色粉体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の着色粉体は、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウムの群から選択された１種または２種以上の元素の酸化物または水酸化物を主成分とし平均粒子径が１０ｎｍ以上かつ２０μｍ以下の粉体の内部に、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、ローダミンＢ、アゾ染料等の有機着色化合物が固定されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】新規な結晶構造を有する新規な固体結晶およびこの固体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ＣＯＫ−７と称される、特定のＸ線回折図を有する固体結晶に関する。前記固体は、無水物ベースで、酸化物のモルに関して、ＸＯ_２：ｍＹＯ_２の式（Ｘは、１種以上の４価元素を示し、Ｙは少なくとも１種の３価元素を示す）によって表される化学組成を有する。本発明はまた、前記固体を製造する方法および前記固体の炭化水素変換における用途に関する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、簡便な方法で、シリコン中の炭素濃度を３質量ｐｐｍ以下まで下げるシリコンからの炭素除去方法を提供する。
【解決手段】 ＣＯ分圧が８００Ｐａ以下の雰囲気中で、溶融状態のシリコンを３０分以上保持後、一方向凝固させることにより、炭素濃度が３質量ｐｐｍ以下のシリコンを得る方法である。 （もっと読む）

【課題】完全溶融前に出湯漏れが発生するといった問題点を解消し、特に、鋳造装置の大型化、複雑化を図ることなく簡便な手法で鋳型の温度を高温にすることができ、また、シリコン融液の出湯温度の制御を精確に行うことができる鋳造装置とこれを用いた鋳造方法を提供する。
【解決手段】内部にシリコン原料を保持して溶融させ、底部に設けられた出湯口３から出湯させる溶融坩堝１ａと、溶融坩堝１ａの外側において、出湯口３を覆うように垂下して備えられたノズル２と、ノズル２の下方に備えられた鋳型７と、溶融坩堝１ａ内のシリコン原料を加熱してシリコン融液とするための第一加熱手段４と、鋳型７を加熱する第二加熱手段と、ノズル２の内部に、縦方向に複数個配置された複数のシリコン栓５と、を具備して成る。 （もっと読む）

【課題】 無機ガスや低沸点有機化合物の分離性能に優れた均一なシリカゲル層を有するキャピラリー体を提供する。
【解決手段】 中空貫通孔を有する直径１０〜１０００μｍの筒状多孔質シリカであって、筒状体を構成する多孔質シリカの細孔直径が２〜１５ｎｍであり、且つ、該中空貫通孔の直径が０．１〜１００μｍであることを特徴とする筒状多孔質シリカである。 （もっと読む）

ガラスは、プリフォームの縦方向に対してほぼ平行に前後に動くプラズマトーチの前方で動かしてプリフォームに予備焼結組成物を堆積させることにより製造され、第１の供給ダクトはプラズマに予備焼結組成物の粒を供給し、場合により第２の供給ダクトはプラズマにキャリアガスと混合されたフッ素化合物又は塩素化合物、有利にフッ素化合物を供給し、その際、前記の予備焼結組成物は、３０〜９０ｍ²／ｇのＢＥＴ表面積、８０以下のＤＢＰインデックス、２５０００ｎｍ²より低いアグリゲート平均面積、１０００ｎｍより低いアグリゲート平均周長を有し、その際、前記アグリゲートの少なくとも７０％は１３００ｎｍより低い周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末、又は火炎加水分解法により３０ｐｐｂよりも低い金属含有量を有する四塩化ケイ素の反応により製造された０．２μｇ／ｇよりも低い金属含有量を有する熱分解法により製造された高純度の二酸化ケイ素の金属酸化物又はメタロイド酸化物の顆粒からなる。 （もっと読む）

【課題】使用済みスラリを用いて、水素ガスを製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明の水素ガスの製造方法は、（１）砥粒とそれを分散する水溶性の分散媒とからなるスラリにシリコン粒が混入した使用済みスラリを、１次遠心分離することにより、砥粒が主成分の固形分を回収し、（２）１次遠心分離により得られた液分を２次遠心分離することにより、分散媒が主成分の液分と、その残りのスラッジとに分離し、（３）２次遠心分離により得られた液分を蒸留することにより得られる固形分について粉砕及び有機物残渣の除去を行うことにより固形分を微粉化し、（４）微粉化した固形分にアルカリ性溶液を反応させて水素ガスを発生させる工程を備える。 （もっと読む）

ゾルゲル法によるモノリスの製造方法において、以下の工程：ａ）アルコキシドを水溶液中で加水分解して加水分解物を形成させ、そして場合によりこれを最適な濃度に蒸発させる工程、ｂ）熱分解経路により製造された酸化物を添加する工程、ｃ）このアルコキシドの加水分解物と、この熱分解経路により製造された酸化物とを混合してコロイドゾルを形成させる工程、ｄ）場合によりこのコロイドゾルから粗い含有物を除去する工程、ｅ）このコロイドゾルを型中でゲル化させる工程、ｆ）場合により得られるエアロゲル中に含まれる水を有機溶剤で置換する工程、ｇ）このエアロゲルを乾燥させる工程、ｈ）この乾燥エアロゲルを熱処理する工程を含み、その際、このコロイドゾルから粗い含有物を除去する方法。 （もっと読む）

【課題】シリコンナノワイヤ、シリコンナノワイヤを含む半導体素子及びシリコンナノワイヤの製造方法を提供する。
【解決手段】 （ａ）シリコン基板の表面に規則的に形成された複数のマイクロキャビティ形態を含む微細な溝を形成させるステップと、（ｂ）基板上にナノワイヤ形成のための触媒作用を行う物質を塗布して金属層を形成させるステップと、（ｃ）金属層を加熱することによって、基板の表面の微細な溝内に金属層を凝集化して触媒を形成させるステップと、（ｄ）触媒と基板との間にナノワイヤを成長させるステップと、を含むシリコンナノワイヤの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ガス照射を利用しないドライプロセスによる簡素な方法により、ドット状のシリコンナノクラスタにおける粒径バラツキを抑えるとともに、さらなる粒径の縮小化及び高数密度化を図る。
【解決手段】シリコン含有基材１の表層部にシリコン酸化膜２を形成し、このシリコン酸化膜２の上にアモルファスシリコン層（ａ−Ｓｉ層）を形成する。そして、超高真空下で、ａ−Ｓｉ層を４００℃以上かつシリコンの融点未満の温度で加熱処理してシリコン酸化膜２上に複数のドット状のシリコンナノクラスタ４を形成する。これにより、平均粒径が５．５ｎｍ以下、数密度が２．７×１０¹²／ｃｍ² 以上、粒径バラツキが１５％以下のシリコンナノクラスタ４を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 シリコンマスクを形成するエッチング処理時に、エッチング処理を最適な時期に終了させることが容易なマスク、及びマスクの製造方法を提案する。
【解決手段】 被成膜基板に対して所定パターンを有する薄膜を形成するためのシリコンマスクＭが、シリコン基材Ｓ上に、所定パターンに対応する開口部２０と、開口部２０を形成する際の形成状態を検知可能な検知部１５と、を備える。
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超高純度の光学品質ガラス製品を製造する方法が開示され、前記方法は、
１． 金属酸化物又はメタロイド酸化物を緻密化して約１ミリメートルより小さい平均粒子サイズを有する顆粒にする工程；
２． 場合により、前記顆粒を完全に焼結させて、高純度の人工砂を製造する工程；
３． この顆粒状の人工砂を通常の技術、例えばスリップ注型成形により注型して、高密度の多孔性成形体を作成する工程；
４． 場合により、前記成形体を乾燥及び部分的に焼結する工程；
５． 場合により、前記成形体を真空下で完全に焼結する工程；及び
６． 場合により、前記の完全に焼結した成形体を熱間静水圧加圧成形する工程を有し、
その際、前記金属酸化物又はメタロイド酸化物は、ＢＥＴ表面積３０〜９０ｍ²／ｇ、ＤＢＰインデックス８０より低、アグリゲート平均面積２５０００ｎｍ²より低及びアグリゲート平均周長１０００ｎｍより低を有し、その際、前記アグリゲートの少なくとも７０％は１３００ｎｍより短い周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末、又は０．２μｇ／ｇより低い金属含有量を有する熱分解法により製造された高純度二酸化ケイ素である。 （もっと読む）

【課題】 光沢性に特に優れたインクジェット記録用媒体を提供する。
【解決手段】 水溶性有機カチオン化合物、水溶性多価金属化合物、及び無機微粒子を含む分散液を、対向衝突型高圧分散機又はオリフィス通過型高圧分散機を用いて分散することを特徴とする無機微粒子分散液の製造方法、それを用いて得られた無機微粒子分散液、及びそれらを用いて得られたインクジェット記録用媒体。 （もっと読む）

二酸化ケイ素をベースとし、かつ次の特性：平均粒度：１０〜１２０μｍ、ＢＥＴ表面積：４０〜４００ｍ²／ｇ、細孔容積：０．５〜２．５ｍｌ／ｇ、細孔分布：合計の細孔容積の５％未満が、直径＜５ｎｍを有する孔であり、残りはメソ孔及びマクロ孔、ｐＨ値：３．６〜８．５、タップ密度：２２０〜７００ｇ／ｌを有する顆粒。前記顆粒は、二酸化ケイ素を水中に分散、噴霧乾燥、場合により加熱及び／又はシラン化することにより調整される。その際、ＢＥＴ表面積３０〜９０ｍ²／ｇ、ＤＢＰ値８０以下、アグリゲート平均面積２５０００ｎｍ²未満及び平均アグリゲート周長１０００ｎｍ未満を有し、アグリゲートの少なくとも７０％が１３００ｎｍより小さい周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末又は０．２μｇ／ｇより少ない金属含有量を有する高純度な熱分解により調整された二酸化ケイ素（３０ｐｐｂよりも少ない金属含有量を有する四塩化ケイ素を火炎加水分解により反応させて調整された）が使用される。 （もっと読む）

【課題】 微細パターンを精度よく形成することのできる樹脂板およびその形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明にかかる樹脂板１００の形成方法は、インク転写部を有する樹脂板の形成方法であって、（ａ）シロキサン結合を有するケイ素樹脂膜に高エネルギー線を照射することにより、前記ケイ素樹脂膜１２を酸化ケイ素膜１４にかえる工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 インク吸収性に優れ、且つ、目視による光沢感が良好な写真印刷用インクジェット記録シートを製造し得るシリカ微粒子分散液を提供する。
【解決手段】 （１）活性ケイ酸水溶液を加熱する方法によってシリカ微粒子分散液を生成させる工程、（２）該シリカ微粒子分散液が沈殿を生じる前もしくはゲル化する前にアルカリを添加してシリカ微粒子を安定化する工程、（３）該シリカ微粒子分散液の安定状態を保ちながら活性ケイ酸水溶液を添加してシリカ微粒子を成長させる工程、を有するシリカ微粒子分散液の製造方法において、強酸の塩を含むアルカリ金属ケイ酸塩水溶液から陽イオンを除去することによって製造された活性ケイ酸水溶液を、少なくとも前記（１）の工程で用いることを特徴とするシリカ微粒子分散液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 光導波路構造や光ファイバーの新しい形成方法、既存の半導体電気回路形成技術を発展させる技術に有用な、空間制御性に優れかつ高温で熱処理する必要のない簡便な非晶質シリカの結晶化方法を提供する。
【解決手段】 非晶質シリカにイオンを添加した後、酸化性雰囲気中で非晶質シリカを熱処理して結晶化させる。 （もっと読む）