【課題】 粒状結晶シリコンを製造する場合において、不純物濃度の低い粒状シリコンを安定して作製すると同時に、高い結晶性をもった粒子を低コストで製造することを目的とする。
【解決手段】 結晶材料の融液５を排出する坩堝１を高周波により加熱することにより、短時間に結晶材料の加熱を行なって融液５とし、融液５と坩堝１の構成部材との反応を抑えることで、得られる粒状結晶中の不純物濃度が低減可能であり、粒状結晶の結晶品質を向上することができる。また、その落下時の雰囲気となるガスを加熱することにより落下中の粒状の融液を加熱および冷却することによって、同じく粒状結晶の結晶品質の向上を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、疎水性有機物がゾル溶液中に凝集や析出することなく溶解してなる疎水性有機物含有ゾル溶液と、その製造方法とを提供することにある。そして、その疎水性有機物含有ゾル溶液を用いて製造される物品を提供することにある。
【解決手段】
加水分解可能な金属化合物に、触媒と水とを加え、加水分解反応を起こさせて、少なくとも１種類の金属化合物ゾル溶液を調製し、ここで、前記水の量を前記金属原子の価数に対応した所定範囲量とすることで、前記金属化合物ゾル溶液に、少なくとも１種類の疎水性有機物を混合して溶解するようにしたこと、を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】塊状多結晶シリコンを梱包する際に、シリコン単結晶の品質悪化を引き起こさないように、塊状多結晶シリコンと梱包材が擦れ合って梱包材の表面が削れにくくするような梱包材の形状を提供する。
【解決手段】（１）塊状多結晶シリコンを梱包する際に、前記塊状多結晶シリコンと梱包材との接触し得る面積を前記塊状多結晶シリコン１ｋｇあたり５８０ｃｍ²以下とすることを特徴とする多結晶シリコンの梱包方法である。（２）上記塊状多結晶シリコンの粒径が３〜１２０ｍｍであることを特徴とする上記（１）の多結晶シリコンの梱包方法である。（３）上記梱包材が平面、曲面およびそれらの組み合わせで構成される樹脂製であることを特徴とする上記（１）の多結晶シリコンの梱包方法である。 （もっと読む）

【課題】ナノ粒子を製造するための方法を提供する。
【解決手段】気体から粒子への転換方法によるナノ粒子の製造方法において、前駆体を分解させた後に生成される前駆体の分解産物またはその分解産物の初期凝縮物に気体放電を加えて、前駆体の分解産物またはその分解産物の初期凝縮物に同種の電荷を有させることによって、低分散のナノ粒子に凝縮させる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、半導体や太陽電池等に用いられる高純度なシリコンの製造におけるボロンの除去や汚染の防止をする安価な溶融シリコン流通部材と簡便なシリコンの移送方法とを提供する。
【解決手段】 塩基性酸化物もしくは両性酸化物の一方又は双方の粉、粒又は粉と粒との混合物と、水ガラスもしくは樹脂の一方又は双方との混合物を形成し、乾燥固化又は焼成してなることを特徴とする溶融シリコン流通部材、及び、これを用いた溶融シリコンの移送方法である。 （もっと読む）

砥粒として優れた繭型形状と優れた性能を維持しながら、耐アルカリ性に優れたコロイダルシリカ及びその製造方法を提供する。 アルコキシシランの縮合体をアンモニア又はアンモニウム塩触媒の存在下に加水分解させることによって得られる繭型コロイダルシリカである。また、アルコキシシランの縮合体又はそれらの水性溶媒溶液をアンモニア若しくはアンモニウム塩の水溶液又はアンモニア若しくはアンモニウム塩と水性溶媒を含む水溶液中に滴下しながらアルコキシシランを加水分解し、更に、加圧下に加熱して得られる繭型コロイダルシリカである。前記コロイダルシリカを加圧下に加熱する温度は１０５〜３７４．１℃が好ましく、前記アルコキシシランの縮合体は、平均縮合度が２〜８が好ましい。 （もっと読む）

表面改質された、エアロゲル型ストラクチャードシリカは、エアロゲル型ストラクチャードシリカにシラン化剤を吹きつけ、後混合及びコンディショニングすることによって製造される。前記シリカはつや消し剤として使用される。 （もっと読む）

表面改質剤と、エアロゾルを用いてカリウムでドープされた熱分解シリカとを反応させることにより製造された、カリウムでドープされた疎水性の熱分解シリカ。前記熱分解シリカは、シリコーンゴム中で充填剤として使用されてよい。 （もっと読む）

本発明は、工業グレードのトリクロロシランおよび／または工業グレードの四塩化珪素を処理する以下の工程によって、トリクロロシランおよび／または四塩化珪素を精製する方法であって、高沸点の高分子錯体が形成されるように、ジフェニルチオカルバゾンおよび／またはトリフェニルクロロメタンを添加してホウ素不純物（三塩化物 ＢＣｌ_３）および他の金属不純物の錯体化を行う工程、錯体化したホウ素不純物が、他の金属不純物と共に塔底製品として除去されるように、錯体化工程で得られた生成物を第１カラムで蒸留する工程、ならびに、第１カラムの蒸留で得られた塔頂製品を第２カラムで蒸留する工程を含んで成り、第２カラムでの蒸留工程では、エレクトロニクス・グレードのトリクロロシラン（および場合によっては更にジクロロシラン）ならびに／または四塩化珪素が塔頂製品として得られる一方、ある量の残渣のトリクロロシランおよび／または四塩化珪素と共に、塩化リンＰＣｌ_３、リン含有化合物、塩化ヒ素ＡｓＣｌ_３、ヒ素含有化合物、アルミニウム化合物およびアンチモン化合物、ならびに一般に存在する全ての金属化合物、半金属化合物およびカルボシラン化合物が塔底製品として得られる方法（及びその方法に対応するプラント）に関する。
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【課題】シリコン表面に低温で効率良く酸化膜を形成し、発色させる方法を提供する。
【解決手段】シリコンをシリコン塩化物ガスの雰囲気に晒し、水分を供給することにより前記シリコン表面に酸化膜を形成することを特徴とするシリコン表面の発色方法である。より詳細には、前記シリコン塩化物ガスの雰囲気として四塩化珪素または三塩化シランを不活性ガスで希釈して用い、また前記シリコン塩化物ガスの雰囲気を５０〜３００℃とし、そして水分が不活性ガスをキャリアガスとした水蒸気含有量を１．０〜８．０ｍｏｌ％、かつその温度を１０〜４０℃とした混合ガスとして供給するシリコン表面の発色方法である。
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【課題】高溶融率で、しかも二酸化ケイ素粉末原料の粒子径に近い粒子をより多く取得する、すなわち肥大化の小さい、球状溶融シリカ粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】二酸化ケイ素粉末原料と、二酸化ケイ素粉末原料の水スラリー及び／又は水とを、炉内に形成された火炎中に噴霧することを特徴とする球状溶融シリカ粉末の製造方法。この場合において、二酸化ケイ素粉末原料及び／又は二酸化ケイ素粉末原料の水スラリーを、突出速度が少なくとも５０ｍ／ｓである気体に分散させて噴霧することが好ましい。また、二酸化ケイ素粉末原料、二酸化ケイ素粉末原料の水スラリー及び水から選ばれた少なくとも一つを分散させる気体が、炉内で旋回気流を形成するものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】半導体膜を形成するのに際して、光重合性を有する組成物の蒸発を抑制して、均一な膜厚の半導体膜を安定して形成することができ、また、蒸発した前記組成物によるフォトマスクやチャンバー内の汚染を防止し得る半導体膜の形成方法、半導体素子基板の製造方法、かかる方法により得られた半導体素子基板を備える電気光学装置、電子デバイスおよび半導体膜形成装置を提供すること。
【解決手段】本発明の半導体膜の形成方法は、光透過性を有する基板１０の一方の面側に半導体膜を形成する方法であり、基板１０の一方の面側に、光重合性を有する組成物を含有する液状材料を供給して液状被膜２０ａを形成する工程と、液状被膜２０ａが形成された一方の面側を密閉容器４３で蓋った状態で基板１０の他方の面側から液状被膜２０ａに光４０を照射し、前記組成物を重合させて重合体膜を得る工程と、重合体膜を加熱することにより半導体膜を得る工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】高純度材料の汚染を最小限に留めながら、高純度材料を微細化するプロセスの効率を高めること。
【解決手段】高純度材料を微細化するシングルロールクラッシャーは、周縁に歯が離間配置されているロールを備える。ロールは、ハウジングの内部に回転可能に取り付けられている。ハウジングは、入口ポートを有する頂部と、側部と、出口ポートを有する底部とを有している。ロールと、歯と、頂部、側部、及び底部の少なくとも内表面とは、シリコンの汚染を最小限にとどめる構造材料から作製されている。構造材料は、コバルトバインダが添加された炭化タングステンとしてもよい。当該シングルロールクラッシャーを用いて多結晶シリコンを処理する。 （もっと読む）

【課題】易分散性沈降ケイ酸を提供する。
【解決手段】この課題は、次の物理化学的パラメーター：
ＢＥＴ表面積 １２０〜３００ｍ^２／ｇ
ＣＴＡＢ表面積 １００〜３００ｍ^２／ｇ
ＢＥＴ／ＣＴＡＳの比 ０．８〜１．３
シアーズインデックス（０．１ｎＮａＯＨの消費量） ６〜２５ｍｌ
ＤＢＰインデックス １５０〜３００ｇ／１００ｇ
ｗｋ係数 ＜３．４
崩壊粒子の粒度 ＜１．０μｍ
非崩壊粒子の粒度 １．０〜１００μｍ
を有する沈降ケイ酸によって達成される。
【効果】この沈降ケイ酸は、タイヤ製造のための加硫性混合物中に充填剤として使用される。 （もっと読む）

【課題】 300℃以下の温度で結晶性のシリコンナノワイヤーが生成するシリコンナノワ
イヤーの製造方法を提供すること。
【解決手段】 シリコンと低融点の共晶合金を作る金属を触媒としてポリシランガスの熱分解によりシリコンナノワイヤーを生成させる。 （もっと読む）

【課題】 比誘電率が３．０以下と小さく、しかもリーク電流量の少ない非晶質シリカ系被膜を形成するための塗布液およびその調整方法に関する。
【解決手段】 （ａ）テトラアルキルオルソシリケート(TAOS)およびアルコキシシラン(AS)をテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（TAAOH）および水の存在下で加水分解して得られるケイ素化合物、またはテトラアルキルオルソシリケート(TAOS)をテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（TAAOH）および水の存在下で加水分解または部分加水分解した後、アルコキシシラン(AS)またはその加水分解物もしくは部分加水分解物と混合し、さらに必要に応じてこれらの一部または全部を加水分解して得られるケイ素化合物、（ｂ）有機溶媒、および（ｃ）水を含む液状組成物であり、しかも該液状組成物中に含まれる水の量が３０〜６０重量％の範囲にあることを特徴とする低誘電率非晶質シリカ系被膜形成用塗布液。 （もっと読む）

【課題】 低屈折率の複合酸化物微粒子が分散したゾルおよびその低屈折率の微粒子を塗布膜に利用した低反射用の基材を提供する。
【解決手段】 シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる平均粒径が５〜３００ｎｍの範囲にある複合酸化物コロイド粒子が水および／または有機溶媒に分散した複合酸化物ゾルであって、前記コロイド粒子は、前記無機酸化物を構成する元素の一部が除去されて増大した細孔を有すると共に粒子表面が被膜で被覆されてなり、屈折率が１．３６〜１．４４の範囲にある。前記被膜はシリカからなる。 （もっと読む）

疎水化度５０％以上、摩擦帯電量−５００μＣ／ｇより大きく、粉体表面の有機基の分解率１５％以下であって、好ましくは５％アルコール分散液の透過率４０％以上、比表面積２００ｍ^２／ｇ以上の疎水化された微細なシリカ微粉末にすることによって高分散性疎水性シリカ微粉末を得ることができ、この高分散性疎水性シリカ微粉末は、疎水化処理の際に、流動床型反応槽内で揮発性の有機珪素化合物からなる疎水化剤をガス状でシリカ微粉末と混合し、その混合時のガス流速を５．０ｃｍ／ｓｅｃ以上に調整することによって得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 シーメンス法またはモノシラン法を利用し、太陽電池用原料に見合った純度を満足する多結晶シリコンを、安価に安定して得ること。
【解決手段】 太陽光発電用多結晶シリコン原料は、高温下、密閉した反応炉中の灼熱したシリコン種棒上に原料シランガスを供給し、熱分解または水素還元して得られる多結晶シリコンであって、導電型がｐ型またはｎ形で、抵抗率が３〜５００Ωｃｍ、ライフタイムが２〜５００μ秒で、太陽光発電用シリコンウェーハの製造に使用される。 （もっと読む）

本発明は、（ａ）親水性シリカ粒子が表面シラノール基を有する約１０〜１０００ｎｍの平均全粒子径を有する親水性シリカ粒子を約５〜７０重量％含む水性コロイドシリカ分散液を用意し、（ｂ）前記分散液を、約７以上のｐＨを有しかつ約５０重量％以下の有機溶媒を含む反応混合物を与えるために約３〜７５μｍｏｌ／ｍ^２（親水性シリカ粒子のＢＥＴ表面積に基いて）のシリルアミン処理剤と場合により他の成分とを混ぜ合わせ、そして（ｃ）疎水性のシリカ粒子を与えるために分散液を乾燥する、ことを含む疎水性シリカ粒子の製造法を提供する。さらに、この発明はトナー組成物を提供するために上述の疎水性シリカ粒子をトナー粒子と混ぜ合わせることを含むトナー組成物の製造法を提供する。 （もっと読む）