【課題】反応器内へ供給する以前のテトラクロロシランの気化工程を不要とし、テトラクロロシランによる供給管の腐食を抑制できるシリコンの製造方法を提供すること。
【解決手段】金属粒子Ｍ_ｐと、テトラクロロシランとを、反応器３内で互いに接触させてテトラクロロシランを還元し、シリコンを得るシリコンの製造方法において、溶融金属Ｍ_ｍにアトマイズガスＧ２を吹き付けることにより金属粒子Ｍ_ｐを反応器３内へ供給し、液状のテトラクロロシランＬｉｑ１を反応器３内へ供給する、シリコンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン化シランの還元反応において反応率を向上させることができるシリコンの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のシリコンの製造方法は、下記式（１）で示されるハロゲン化シランと還元剤とを反応させてシリコンを製造する方法であって、シリコンの融点以上でハロゲン化シランと還元剤とを反応させて、液状のシリコンを生成させる工程を備える。
ＳｉＨ_ｎＸ_４−ｎ （１）
［式中、ｎは０〜３の整数；Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選択された原子をそれぞれ示す。ｎが０〜２のとき、Ｘは互いに同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

さまざまな品質のシリコン原料を使用してシリコンインゴットおよび結晶を形成する技術が記載される。共通の特徴は、所定量のゲルマニウムを溶融物に添加し、それぞれの結晶シリコン材料のシリコン格子にゲルマニウムを取り込むように結晶化を実行することである。ゲルマニウムがこのように取り込まれることで、シリコン材料のそれぞれの特性、主に、材料強度が向上する。これにより、太陽電池の製造およびこれらの太陽電池からのモジュールの作製におけるこのような材料の適用に好ましい効果を及ぼす。ゲルマニウム濃度が（50〜200）ppmwの範囲のシリコン材料は、材料強度の向上を示しており、この場合の最良の実用範囲は、生成された材料の品質に依存する。

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【課題】
従来のＳｉ合金電熱合金は、抵抗温度曲線が急峻な山の形状で、均一な温度分布が得がたい。温度の暴走、昇温不能に陥りやすい欠点がある。
【解決方法】
必須相成分としてＳｉ相と珪化物相が存在するミクロ組織を持つＳｉ電熱合金の珪化物相の面積率を２５体積％以上にすることで課題を解決する。またＳｉ成分の出発原料として９９質量％純度以下のシリコン原料を使用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】安価に製造することができ、かつ油吸着性に優れ、しかも環境負荷の少ない油吸着材を提供する。
【解決手段】
ＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３又はＣａＯとの結合結晶を主成分とし、無数の微細孔を有する砂状をなす油吸着材である。多孔質のセラミック粒子であるため高い油吸着能力を有し、化学的に安定した物質であるため、環境負荷も小さい。この油吸着材は、製紙工程で発生する廃材である製紙スラッジを燃焼させることにより生じた残渣物又はこの残渣物を再燃焼させることにより焼成処理した焼成物として得ることができる。 （もっと読む）

【課題】蛍光を発光可能なランタニド錯体を含むシリカナノ粒子を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのランタニドと、式（Ａ）：


（式中、−Ｚ_１〜Ｚ_３は、孤立電子対及び／又は負電荷を保持する原子を有する基を表し、−Ｒ_１〜Ｒ_１２は、水素、任意に置換されたアルキルラジカル、アリールラジカル、ハロゲン、基−ＯＲ_１３又は基−ＳＲ_１３を表す）の少なくとも１つの配位子との少なくとも１つの錯体を含むシリカ粒子。 （もっと読む）

【課題】シリコンの純度を向上させることができるシリコンの製造装置を提供すること。
【解決手段】溶融させた還元性金属でハロゲン化シランを還元してシリコン粒子を得る反応装置を有するシリコンの製造装置１０であって、製造装置１０の内面の少なくとも一部がシリコン層又はフッ素系樹脂層（被覆層２１）の少なくともいずれかで被覆されている、シリコンの製造装置。 （もっと読む）

【課題】テトラクロロシランから高い純度のシリコンを効率的に製造するのに有用なテトラクロロシラン貯留方法、並びに、この方法によって貯留されたテトラクロロシランを原料として使用するシリコン製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係るテトラクロロシラン貯留方法は、液化テトラクロロシランを貯留する容器２１内の気相部がアルゴン、ヘリウム、ネオン及びこれらの混合ガスからなる群より選ばれる希ガスを主成分として含有することを特徴とする。液化テトラクロロシランを貯留する際、シールガスとして従来使用されていた窒素ガスに代えてアルゴン、ヘリウム、ネオン又はこれらの混合ガスを使用すると、テトラクロロシランからシリコンを生成する反応におけるシリコン等の窒化の問題を未然に防止できる。 （もっと読む）

【課題】着色剤が均一に分散された着色非晶質シリカ微粒子を提供すること。
【解決手段】ＪＩＳＺ８７２２で規定されるＬ値が９４以下であり、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、及びＮｉから選択される１種以上の着色元素が均一に分散され、結晶化度が１０％以下であることを特徴とする。着色剤を粒子中に分散させているため、着色状態を安定して保持できる。また、レーザー加工などを適用する場合に、吸収したレーザー光のエネルギーにより粒子全体が均一に加熱されるという利点がある。加熱が均一に進行すると、レーザー光を照射した部位にある粒子を確実に熔融することが可能になり、加工精度が向上できる。更にＬ値について上述の範囲に設定していることにより、上述の効果をより確実に発現可能である。そして、結晶化度が上述の範囲であるため、着色元素の分散がより均一になる他、レーザー加工性が優れることになる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、シリコンナノ構造体の製造方法に関する。
【解決手段】本発明のシリコンナノ構造体の製造方法は、ヒート炉及び反応室を含む生長装置を提供する第一ステップと、触媒材料及び生長基板を提供し、該触媒材料及び該生長基板を分離して、前記反応室に置く第二ステップと、前記反応室に珪素ガス及び水素ガスを導入し、該反応室を５００℃〜１１００℃に加熱して、前記生長基板にシリコンナノ構造体を生長させる第三ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ニッケルシリサイドナノワイヤの製造方法に関する。
【解決手段】本発明のニッケルシリサイドナノワイヤの製造方法は、表面に二酸化珪素層が形成されたシリコン基板を提供する第一ステップと、前記シリコン基板に形成された二酸化珪素層の表面にチタン層を形成する第二ステップと、生長装置を提供し、前記チタン層が形成されたシリコン基板を前記生長装置に置き、該生長装置を５００℃〜１０００℃に加熱する第三ステップと、前記シリコン基板の表面にニッケルクラスターを形成し、ニッケルシリサイドナノワイヤを生長させる第四ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、鉄シリサイドナノワイヤの製造方法に関する。
【解決手段】本発明の鉄シリサイドナノワイヤの製造方法は、ヒート炉及び反応室を含む生長装置を提供する第一ステップと、鉄板を提供し、該鉄板を前記反応室に置く第二ステップと、前記反応室に珪素ガスを導入し、該反応室を６００℃〜１２００℃程度に加熱して、前記鉄板に鉄シリサイドナノワイヤを生長させる第三ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】安全で運転や保守が簡便な方法で、副生塩化亜鉛から亜鉛を回収し再利用できる亜鉛還元法によるシリコン製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素ガスと亜鉛とを接触させて、シリコンと塩化亜鉛ガスとを得る還元工程Ｓ１と、還元工程で生成する塩化亜鉛ガスが塩化亜鉛水溶液として回収された後、酸性抽出剤を含み水溶液と混合しない有機溶媒と塩化亜鉛水溶液とを接触させて、亜鉛成分を有機溶媒相へ抽出する亜鉛抽出工程Ｓ２、Ｓ２‘と、亜鉛抽出工程で得た亜鉛成分を含む有機溶媒を希硫酸で逆抽出して、硫酸亜鉛水溶液を得る亜鉛逆抽出工程Ｓ３と、亜鉛逆抽出工程で得た硫酸亜鉛水溶液を電解して、亜鉛を得る電解工程Ｓ４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】反応器壁面等へのシリコン析出を回避し、反応器から排出するガスとともに排出されて回収されないシリコンの量及び未反応の原料ガス損失量を最小化して、一定品質、一定形状の固体シリコンを連続的に量産できるシリコン製造装置を提供する。
【解決手段】第１反応器１と、第１反応器の下流において連絡した第２反応器２と、を備え、第１反応器は、珪素化合物を亜鉛で還元して固体シリコンを生成し、第２反応器は、前記第１反応器で生成された固体シリコンのうち、相対的に小さな結晶サイズの固体シリコンを種結晶としながら、珪素化合物を亜鉛で還元して固体シリコンを生成する。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン化シランの溶融金属による還元反応において、十分に高い反応率を示すシリコン製造方法及びシリコン製造装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係るシリコンの製造方法は、下記式（１）で示されるハロゲン化シランと溶融金属とを接触させることにより、ハロゲン化シランを還元してシリコンを得るためのものであって、薄膜状の溶融金属に前記ハロゲン化シランを含有する原料ガスを吹き付ける吹付工程を備えることを特徴とする。
ＳｉＨ_ｎＸ_４−ｎ （１）
［式中、ｎは０〜３の整数；Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選択された原子をそれぞれ示す。ｎが０〜２のとき、Ｘは互いに同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】ガスアトマイズ法によって形成された溶融金属の微小液滴とハロゲン化シランとの反応において、十分に高い反応率を示すシリコン粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示されるハロゲン化シランを含むアトマイズガスＧを、ノズル１ａから吐出された溶融金属に吹き付けることによって当該溶融金属の微小液滴Ｐを形成するアトマイズ工程を備え、このアトマイズ工程においてハロゲン化シランと微小液滴とを接触させることにより、ハロゲン化シランを還元してシリコン粒子を得る。ＳｉＨ_ｎＸ_４−ｎ（１）［式中、ｎは０〜３の整数；Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選択された原子をそれぞれ示す。ｎが０〜２のとき、Ｘは互いに同一でも異なっていてもよい］ （もっと読む）

【課題】ガスアトマイズ法によって形成される溶融金属の微小液滴とハロゲン化シランとの反応において、十分に高い反応率を示すシリコン粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、ハロゲン化シランを還元してシリコン粒子を製造する方法であって、溶融金属の微小液滴を形成するためのアトマイズガスを加熱するアトマイズガス加熱工程と、ノズルから溶融金属を吐出させる吐出工程と、加熱されたアトマイズガスを吐出された溶融金属に吹き付け、微小液滴を形成するアトマイズ工程と、ハロゲン化シランと微小液滴とを接触させ、ハロゲン化シランを還元する還元工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン化物による反応容器の腐食を抑制できると共に、十分な機械的強度を有するシリコンの製造装置を提供する。
【解決手段】ハロゲン化物耐食材料又はシリコン材料のうち少なくともいずれかからなる内筒４と、内筒４を囲み、金属からなる外筒６と、を備え、内筒４の内側において、溶融させた還元性金属でハロゲン化シランを還元してシリコンを得る、シリコンの製造装置。 （もっと読む）

【課題】ガスアトマイズ法などにおいて使用可能な高温高圧のテトラクロロシラン流体を効率的に製造する方法及び当該テトラクロロシラン流体を用いたシリコン粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係るテトラクロロシラン流体の製造方法は、液化テトラクロロシランを加圧する加圧工程と、この加圧工程で加圧された液化テトラクロロシランを加熱して気体又は超臨界流体にする加熱工程とを備える。本発明に係るシリコン粒子の製造方法は、上記方法を経て得られたテトラクロロシランを含むアトマイズガスを、溶融金属に吹き付けて当該溶融金属の微小液滴を形成し、得られた微小液滴とテトラクロロシランとを接触させることにより、テトラクロロシランを還元してシリコン粒子を得る。 （もっと読む）

【課題】反応器内での金属粒子の対流及び循環流を抑制し、金属粒子とハロゲン化シランとの反応率を向上させることができるシリコンの製造方法を提供すること。
【解決手段】金属粒子Ｍ_ｐと、ハロゲン化シランＧ１とを、反応器３内で互いに接触させてハロゲン化シランＧ１を還元し、シリコンを得るシリコンの製造方法において、溶融金属Ｍ_ｍにアトマイズガスＧ２を吹き付けることにより金属粒子Ｍ_ｐを反応器３内へ供給し、金属粒子Ｍ_ｐと、ハロゲン化シランＧ１とを、反応器３内へ並流に供給するシリコンの製造方法。 （もっと読む）