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Fターム[4G072MM17]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 反応、分離系操作 (4,111) | 錯化合物形成 (11)

Fターム[4G072MM17]に分類される特許

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【課題】トリクロロシランを含むシリコン原料を精製する方法を提供する。
【解決手段】先ず、不純物蒸気および他のクロロシランまたはシランを含む液体のシリコン原料をシリコン原料の沸点より低い温度の下で海綿状金属充填物107を有する第1の回転充填層100に通過させることにより、不純物蒸気および他のクロロシランまたはシランを液体のシリコン原料から分離する。次に、液体のシリコン原料を第2の回転充填層200に導入し、酸素204も導入することにより、沸点が高く、不純物を含むシロキサン複合体を形成する。最後に、分留により、シリコン原料から不純物を含むシロキサン複合体を除去する。 (もっと読む)


【課題】銀塩写真調光沢インクジェット記録体のインク受容層が備えるべき品質を高度に実現し、かつ生産性が良好で、その製造の際における設備面で負担の少ないインクジェット記録体向け複合微粒子の提供。
【解決手段】核粒子の表面の少なくとも一部にアミノ基とM−O−Si結合(Mは2価以上の金属原子を示す)を含む被覆層を有する超微粒子と、無機顔料が、複合化されてなる複合微粒子。 (もっと読む)


本発明は、四フッ化ケイ素原料ガスを1つ以上の精製工程にさらすことにより、四フッ化ケイ素原料ガスを精製する方法であって、精製工程が、四フッ化ケイ素原料ガスをイオン交換樹脂に接触させて酸性の汚染物質を除去する工程と、吸収液体を用いた二酸化炭素の除去と低温蒸留による不活性化合物の除去とにより、四フッ化ケイ素原料ガスを触媒に接触させて一酸化炭素を除去する工程と、を含む精製方法と、四フッ化ケイ素原料ガスから一酸化炭素を除去するのに適した触媒と、そのような触媒を製造する方法とに関する。
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【課題】外殻部がメソ細孔構造を有し、その内部に金属化合物を包含してなる複合シリカ粒子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】外殻部が平均細孔径1〜10nmのメソ細孔構造を有するシリカからなり、その内部に金属又は金属化合物を包含してなるコアシェル型複合シリカ粒子、及びその製造方法である。 (もっと読む)


アルコールと水を含む混合溶媒系に溶解されたシリカ前駆体及び構造規定剤を含む前ゾル溶液の、アンモニウム触媒による加水分解及び縮合反応によりゾルを調製し、平均径が約50μm以下のシリカのメソ多孔性粒子を作製する工程;粒子を熱水処理して細孔径を増加させる工程;粒子を処理して残留する構造規定剤を除去する工程;及び制御された溶解を用いて細孔径を更に増加させる工程、を含むメソ多孔性シリカ微粒子の合成方法。
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センサー粒子は、シリカ系コアおよび少なくとも一つのフォトルミネセンス色素を含む。前記シリカ系コアは、複数の細孔を含んでもよく、前記少なくとも一つのフォトルミネセンス色素は、その環境および検体に対して感受性を持たない基準色素、および、環境および検体のどちらか、またはその両方に対して感受性を持つセンサー色素を含んでもよい。センサー粒子は、生物系または非生物系における未知の環境状態または検体を、インビトロまたはインビボで認識するために用いられる。
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【課題】 多孔質構造化に伴う体積収縮を防止するとともに、均一な膜厚を有する多孔質の酸化物被膜を作製できる、新規な製造方法を提供する。
【解決手段】 金属原子またはケイ素原子を含むフルオロ錯体と、このフルオロ錯体からフッ素イオンを化学的に捕捉する捕捉剤と、少なくとも1つのベンゼン環を有する有機分子とを含む処理液1に基体2を浸漬して、当該有機分子を内包した酸化物被膜を基体2上に成長させる工程と、この酸化物被膜中から焼成により有機分子を除去する工程とを備えた多孔質酸化物被膜の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】
有機感光体との反応や相互作用がなく、従来の無機微粒子より柔らかい為感光体の変質や割れの原因とならず、流動性が良好である為感光体へのトナー付着が生じない、環境状態に依存されない帯電性を持つトナー用外添剤、及び該外添剤を外添してなるトナー、並びにそれらの製造に有用なシリカ微粒子を提供する。
【解決手段】
(1)(A)テトラアルコキシシラン及び/又はその部分加水分解縮合物、並びに(B)加水分解性シリル基及び親水性基を有する化合物の共加水分解及び縮合反応により得られる親水性基含有球状シリカ微粒子と、
(2)シラザン化合物及び/又はシラン化合物と
を反応させることにより得られる1次粒子の平均粒子径が0.01〜5μmであり表面が疎水性で核が親水性基含有の球状シリカ微粒子、並びに
該球状シリカ微粒子からなる静電荷像現像用トナー外添剤及び該外添剤を外添してなるトナー。 (もっと読む)


本発明は、工業グレードのトリクロロシランおよび/または工業グレードの四塩化珪素を処理する以下の工程によって、トリクロロシランおよび/または四塩化珪素を精製する方法であって、高沸点の高分子錯体が形成されるように、ジフェニルチオカルバゾンおよび/またはトリフェニルクロロメタンを添加してホウ素不純物(三塩化物 BCl)および他の金属不純物の錯体化を行う工程、錯体化したホウ素不純物が、他の金属不純物と共に塔底製品として除去されるように、錯体化工程で得られた生成物を第1カラムで蒸留する工程、ならびに、第1カラムの蒸留で得られた塔頂製品を第2カラムで蒸留する工程を含んで成り、第2カラムでの蒸留工程では、エレクトロニクス・グレードのトリクロロシラン(および場合によっては更にジクロロシラン)ならびに/または四塩化珪素が塔頂製品として得られる一方、ある量の残渣のトリクロロシランおよび/または四塩化珪素と共に、塩化リンPCl、リン含有化合物、塩化ヒ素AsCl、ヒ素含有化合物、アルミニウム化合物およびアンチモン化合物、ならびに一般に存在する全ての金属化合物、半金属化合物およびカルボシラン化合物が塔底製品として得られる方法(及びその方法に対応するプラント)に関する。
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【解決課題】 コロイダルシリカの原料となる珪酸アルカリ水溶液に含まれるCu、Mn、Ni、Fe、Zn、Cr等の金属性不純物の除去効率が高く、且つ低コストの高純度コロイダルシリカの製造方法を提供すること。
【解決手段】 コロイダルシリカ水溶液に、窒素原子又は燐原子を有するキレート化剤を混合し、キレート化剤を含有するコロイダルシリカ水溶液を得るキレート化剤混合工程、及び該キレート化剤を含有するコロイダルシリカ水溶液を、陰イオン交換体に接触させる陰イオン交換体接触工程を有することを特徴とする高純度コロイダルシリカの製造方法。 (もっと読む)


【解決課題】 珪酸アルカリに含まれている金属性不純物の除去効果が高く、金属性不純物の含有量が極めて少ない高純度活性珪酸水溶液の製造方法を提供すること。
【解決手段】 活性珪酸水溶液に、窒素原子又は燐原子を有するキレート化剤を混合することにより、又は珪酸アルカリ水溶液に、キレート化剤を混合し、次いで、キレート化剤を含有する珪酸アルカリ水溶液を、H形陽イオン交換体に接触させることにより、キレート化剤を含有する活性珪酸水溶液を得、次いで、キレート化剤を含有する活性珪酸水溶液を陰イオン交換体に接触させることを特徴とする高純度活性珪酸水溶液の製造方法。 (もっと読む)


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