【課題】低湿度下でも高湿度下でも吸湿率が高いシリカゲル及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】全細孔容積が０．４５〜１．０ｃｍ^３／ｇであり、且つ、細孔直径２．５ｎｍ以下の領域に細孔分布のピーク（最大値）が存在することを特徴とするシリカゲル。珪酸アルカリ水溶液に鉱酸水溶液を加えて、ｐＨ１０．５〜１１．５でゾルを形成後、ゲル化させて、熟成前シリカヒドロゲルを得るゲル化工程と、該熟成前シリカヒドロゲルを、ｐＨ４〜７で一次熟成し、一次熟成シリカヒドロゲルを得る一次熟成工程と、該一次熟成シリカヒドロゲルを、ｐＨ０．５〜２で二次熟成し、二次熟成シリカヒドロゲルを得る二次熟成工程と、該二次熟成シリカヒドロゲルを乾燥し、シリカゲルを得る乾燥工程と、を有することを特徴とするシリカゲルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 断熱材、特に真空断熱材の心材とした際に、断熱性に優れかつ耐圧縮性のある断熱材を提供できる新規のエアロゲルを得る。
【解決手段】 エアロゲルを、細孔容積及び細孔直径のピークが各々４〜８ｍｌ／ｇ、１０〜３０ｎｍであり、かつ１０ＭＰａの圧力を付与した後の嵩密度が０．４〜０．８ｇ／ｍｌのものとする。このような耐圧性に優れたエアロゲルを心材とすることにより、真空断熱材の鞘材（密閉容器）として柔軟性の高いフィルムを用いても、部分的なつぶれを発生するなどして形状変形を起こすことがなく、高い空隙率を保持するため断熱性にも優れる。当該エアロゲルは、例えば、金属酸化物濃度が５０〜１５０ｇ／Ｌの水性ゾルをｐＨ３〜６でゲル化した後、ヘキサン等の表面張力の小さな溶媒に溶媒置換し、さらにその状態で金属酸化物１００質量部に対して５０〜１５０質量部の疎水化剤で処理することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】共通に使用できる表面修飾方法を用いて、水と有機溶媒を交換することなく有機修飾されたゲルを製造する方法を提供する。
【解決手段】ａ）シリカ系ヒドロゲルをｐＨ３以上で形成し、次いでｂ）得られたヒドロゲルの表面をシリル化剤で処理して修飾して表面修飾ゲルとなし、次いでｃ）得られた表面修飾ゲルを、臨界温度・圧力に至らない条件下に乾燥する。 （もっと読む）

【課題】研磨速度が高く、精密研磨に適した研磨用シリカゾル、研磨用組成物及び研磨用シリカゾルの製造方法を提供する。
【解決手段】シリカゾルは動的光散乱法により測定される平均粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にある非球状シリカ微粒子を分散媒に分散してなり、固形分濃度が１０〜６０重量％であって、２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定時のケミカルシフト−７３〜−１２０ｐｐｍのピーク面積におけるＱ４の面積が８８％以上、Ｑ３の面積が１１％以下である。但し、前記ケミカルシフトは、テトラメチルシランを基準物質とし、Ｑ４は−１００〜−１２０ｐｐｍの範囲のピークであり、Ｑ３は−８２〜−１００ｐｐｍの範囲のピークである。 （もっと読む）

【課題】含水湿潤ゲルを乾燥させる過程で、ゲルに手を加えず、かつ有機溶媒や気体など亀裂の発生を抑制するための試薬を使用することなく、ゲルの亀裂の発生を簡単、安価に抑制する方法を提供する。
【解決手段】含水湿潤ゲルを乾燥する際に、まず含水湿潤ゲルから水を除去して含水湿潤ゲルの水含有量を減少させ、次いで、残りの溶媒を除去することにより湿潤ゲルを乾燥する。例えば、湿潤ゲル３と溶媒を含有する含水湿潤ゲルが収容された湿潤ゲル容器１を加熱する。これにより、溶媒３は湿潤ゲル容器１の上部空間８に蒸気となって蒸発する。この溶媒含有気体は、湿潤ゲル容器に嵌合された脱水剤容器２内に孔７を通して拡散し、脱水剤により水が除去される。この状態を１〜２日保持することにより、溶媒３中の水はほぼ除去される。その後脱水剤容器２を取り外し、水の除去された湿潤ゲルを加熱することにより溶媒をほぼ完全に除去した後、さらに高温で加熱して溶媒を完全除去すれば、亀裂の無い乾燥ゲルが得られる。 （もっと読む）

【課題】平均粒子径１００μｍ以上の大きな粒径を有する無機質球状体の製造方法の提供。
【解決手段】特定の無機化合物を含む水性液体を有機液体中に分散させてＷ／Ｏ型エマルジョンを形成する工程、前記Ｗ／Ｏ型エマルジョンに金属アルコキシドを添加し、無機化合物を含む水性液体の液滴の外殻部に金属アルコキシドの加水分解による金属酸化物を生成させる工程、及び、前記金属酸化物の生成後のＷ／Ｏ型エマルジョン中の無機化合物を含む水性液体を固形化して無機質球状体を生成させる工程、を経る平均粒子径が１００〜１０００μｍの無機質球状体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】空気の平均自由行程よりも小さな細孔を有し、嵩密度の低いシリカキセロゲルを簡単な製造工程で製造可能なシリカキセロゲル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】テトラアルコキシシランとモノアルキルトリアルコキシシランとを、モル比で、テトラアルコキシシラン：モノアルキルトリアルコキシシラン＝０．０５〜０．３５：０．６５〜０．９５の割合で含むゲル原料と、該ゲル原料中のシラン化合物全量１モルに対し、アルコール類を４〜８モル、水を３〜６モル含む溶媒とを混合し、ゲル原料中のシラン化合物を加水分解してゾルを生成させ、得られたゾルをゲル化し、養生して得られた湿潤ゲルを常圧あるいは減圧下で乾燥して、嵩密度が９０〜２００ｋｇ／ｍ^３、平均空孔径が２０〜６５ｎｍのシリカキセロゲルを得る。 （もっと読む）

【課題】安価なアルカリ珪酸塩をシリカ源とし、無毒性の非イオン性界面活性剤をテンプレートとするとの本発明者によりこれまでに開発された技術を踏まえ、反応容器の腐食ばかりでなく、作業工程及び作業環境上の安全対策、すなわち強酸性の反応溶液から繊維状多孔質シリカ粒子前駆体を分離する工程では、作業を実施する者や周辺器械を、塩酸蒸気やミストの発生・接触から遮断する処置を講じたり、あるいは反応溶液を充分冷却してから分離工程を行わなければならないといった全ての問題点を解消し、作業工程及び作業環境が安全であり、しかも、細孔特性並びに繊維形状を制御することが可能な、メソ孔とマイクロ孔を併せ持つ繊維状多孔質シリカ粒子を工業的に極めて有利に製造する方法を提供する。
【解決手段】酸性水溶液及び非イオン性界面活性剤の混合液に、アルカリ珪酸塩水溶液を３０℃から４５℃の温度条件下で攪拌しながら混合し、一定温度で所定時間以上攪拌し続けたら反応懸濁液の攪拌を停止して、反応生成物を溶液相から分離・洗浄して得られる湿潤状態の生成物もしくはその乾燥物を、中性もしくは弱アルカリ性の水溶液中において熟成後、溶液相から分離して得られた繊維状粒子前駆体中の非イオン性界面活性剤を除去して繊維状多孔質シリカ粒子を得る。 （もっと読む）

【課題】含水湿潤ゲルを乾燥させる過程で、ゲルに手を加えず、かつ有機溶媒や気体など亀裂の発生を抑制するための試薬を使用することなく、ゲルの亀裂の発生を簡単、安価に抑制する方法を提供する。
【解決手段】含水湿潤ゲルを乾燥する際に、まず含水湿潤ゲルから水を除去して含水湿潤ゲルの水含有量を減少させ、次いで、残りの溶媒を除去することにより湿潤ゲルを乾燥する。例えば、湿潤ゲル３と溶媒を含有する含水湿潤ゲルが収容された湿潤ゲル容器１を加熱する。これにより、溶媒３は湿潤ゲル容器１の上部空間８に蒸気となって蒸発する。この溶媒含有気体は、湿潤ゲル容器に嵌合された脱水剤容器２内に孔７を通して拡散し、脱水剤により水が除去される。この状態を１〜２日保持することにより、溶媒３中の水はほぼ除去される。その後脱水剤容器２を取り外し、水の除去された湿潤ゲルを加熱することにより溶媒をほぼ完全に除去した後、さらに高温で加熱して溶媒を完全除去すれば、亀裂の無い乾燥ゲルが得られる。 （もっと読む）

【課題】低湿度下でも高湿度下でも吸湿率が高いシリカゲル及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】全細孔容積が０．４５〜１．０ｃｍ^３／ｇであり、且つ、細孔直径２．５ｎｍ以下の領域に細孔分布のピーク（最大値）が存在することを特徴とするシリカゲル。珪酸アルカリ水溶液に鉱酸水溶液を加えて、ｐＨ１０．５〜１１．５でゾルを形成後、ゲル化させて、熟成前シリカヒドロゲルを得るゲル化工程と、該熟成前シリカヒドロゲルを、ｐＨ４〜７で一次熟成し、一次熟成シリカヒドロゲルを得る一次熟成工程と、該一次熟成シリカヒドロゲルを、ｐＨ０．５〜２で二次熟成し、二次熟成シリカヒドロゲルを得る二次熟成工程と、該二次熟成シリカヒドロゲルを乾燥し、シリカゲルを得る乾燥工程と、を有することを特徴とするシリカゲルの製造方法。 （もっと読む）

エアロゲル複合材料及び接着エアロゲル複合材料について記述される。エアロゲル複合材料には、基材層と基材層に接着される構造化層との間の空洞内に、モノリシックエアロゲル材料が含まれる。追加層を基材層及び／又は構造化層に接着し、接着エアロゲル複合材料を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、無機担体とイオン交換性樹脂とからなり、イオン交換速度が速く、交換容量が高く、機械的強度にも優れた多孔性のイオン交換体およびそれを製造する方法を提供することを課題としている。
【解決手段】本発明の多孔性イオン交換体は、無機多孔質担体と、これに担持されたイオン交換性樹脂とからなり、平均体積が５×１０^-4ｍｍ³／個以上であり、水銀圧入法によ
り測定した総細孔容積が０．５〜１．５ｃｍ³／ｇであり、かつ、貫通孔を有することを
特徴としている。 （もっと読む）

１μｍ未満平均粒径を有するエーロゲル粒子、それを含有する生成物、その製造方法、およびその使用が記載されている。出発エーロゲル粒子が均質化され、または湿式粉砕される粒子の製造方法がまた記載されている。出発エーロゲル粒子は、凝集または凝結を防ぐために粉砕工程の間に表面処理されることができる。このエーロゲル粒子は、種々の製品および用途において使用できる。 （もっと読む）

【課題】 熱的・構造的に安定で、単一鎖状に分散した導電性高分子ナノファイバーと無機物ナノファイバーとの複合体を構築する。
【解決手段】 β-1,3-グルカンと導電性高分子から成る複合体をシリカゲルで被覆した有機・無機ナノコンポジット。β-1,3-グルカン／導電性高分子複合体の存在下にシリカの前駆体に対してゾル−ゲル反応を進行させることにより製造できる。 （もっと読む）

【課題】低密度、低熱伝導係数、高多孔性、及び高疎水性などを有する多孔質構造材を調製するために使用される多孔質構造材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ゾルゲル工程を介してアルキルシロキサン化合物又はケイ酸塩化合物を有機溶媒と混合して合成され、更に変性剤により変性される多孔質構造材に関する。また、本発明は、ゾルゲル工程を介してアルキルシロキサン化合物又はケイ酸塩化合物を有機溶媒と反応させるステップを備えた多孔質構造材の製造方法に関する。本発明によれば、変性剤を用いて多孔質構造材の表面上の親水基を疎水基に変性することにより表面張力が低下し、多孔質構造が維持される。本発明の多孔質構造材は、低伝導係数、高多孔性、高疎水性、及び自浄性などの特性を有している。 （もっと読む）

【課題】、優れた細孔の利用効率を持ち、通常の汚染試料に加え、極めて低濃度の汚染試料においても、その混在するＶＯＣｓ等の有害な有機化合物を、特に液相系で高効率に吸着・除去できる、処理効率が高い新規な吸着剤を提供する。
【解決手段】マイクロメートル領域の細孔径を有する連続した細孔（マクロ貫通孔）と、そのマクロ貫通孔に直結したナノメートル領域の細孔径を有する細孔（ナノ細孔）との二種類のタイプの細孔を併せ有する二元細孔シリカに疎水化処理を施し、二元細孔構造を破壊することなく表面が有機官能基で修飾された疎水性シリカであって、疎水化後の上記ナノ細孔の平均直径が２〜１５ｎｍを特徴とする有機化合物用吸着剤。 （もっと読む）

【課題】従来と比較して高機能化された新規な多孔質ハニカム構造体およびその製造方法、ならびにそれを用いた空気清浄機を提供する。
【解決手段】光触媒作用を有する微粉末が分散されたシリカ成形体である、光触媒作用を有する多孔質ハニカム構造体、ならびに、（ａ）ケイ酸ナトリウム水溶液にイオン交換樹脂を混入してシリカゾルを調製する工程と、（ｂ）前記イオン交換樹脂を除去し、ｐＨを調整する工程と、（ｃ）シリカゾルに光触媒作用を有する微粉末を分散させる工程と、（ｄ）シリカゾルをゲル化してシリカ湿潤ゲルを製造する工程と、（ｅ）前記シリカ湿潤ゲルを凍結させる工程とを含む、光触媒作用を有する多孔質ハニカム構造体の製造方法、上記多孔質ハニカム構造体を用いた空気清浄機。 （もっと読む）

【課題】 フッ化物等の添加物を用いることなく、８ｎｍ以上の細孔径の繊維状多孔質シリカ粒子の製造をも可能とする。
【解決手段】 酸性水溶液及び非イオン性界面活性剤の混合液に、アルカリ珪酸塩水溶液を３０℃から５０℃未満の温度条件下で攪拌しながら混合し、そのままの温度で攪拌し続け、一定時間経過し反応溶液に白濁が認められた後、そのまま反応容器を昇温するか、あるいは反応容器を一定温度に保った反応装置に移して、５０℃から２００℃の一定温度に昇温し、静置あるいは攪拌しながら一定時間熟成して得られた繊維状粒子中の非イオン性界面活性剤を除去する。 （もっと読む）

【課題】 低い密度、低い熱伝導係数および高い密度の孔隙のあるナノ多孔性無機粉体材料を形成すること。
【解決手段】
本発明のナノ多孔性無機粉体およびその製造方法は、ゾルゲル工程を介して前駆物からナノ多孔性無機粉体を製造することにある。前駆物は溶剤に均一に混合されてゲル粒子を形成する。次に、ゲル粒子はゲル粒子群に重合される。ゾル段階のゲル粒子を溶剤中に均一分布させると同時に、相対な活性を保持しつつ、ゲル粒子をより大きいゲルに形成して、異なる触媒条件でウェットゲルを形成した後、乾燥および熱処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 簡素な疎水化処理工程による疎水性シリカ粉末の製造法を提供すること。
【解決手段】 比表面積５．５〜５５０ｍ²／ｇの親水性コロイド状シリカを含有する水性シリカゾルに、該水性シリカゾルの水に対して親水性有機溶媒を質量比０．１２〜２．５で混合して得られる、シリカ濃度５〜５０質量％の混合溶媒シリカゾルに、式（１）
（Ｒ¹₃Ｓｉ）₂ＮＨ （１）
（式中の各Ｒ¹はそれぞれ独立に選択される炭素原子数が１〜６のアルキル基またはフェニル基である。）
で表されるジシラザン化合物を、親水性コロイド状シリカの表面積１００ｍ²当たり０．１〜２０ミリモル添加し、５０〜１００℃の温度で加熱して熟成することにより疎水化処理コロイド状シリカのスラリー状分散液を得る疎水化処理工程を含む疎水性シリカ粉末の製造法による。 （もっと読む）