【課題】複雑で設計の自由度が高く、粒子構造に応じた機能を発現可能な階層構造の粒子集合体、及び、該粒子集合体を簡便かつ安価な方法で製造可能とする階層構造の粒子集合体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の階層構造の粒子集合体は、基板と、該基板上に形成したテンプレートと、該テンプレート上に形成されたナノ構造体とを備える階層構造の粒子集合体であり、前記テンプレートは、球状粒子が規則的に配列された球状粒子層が前記基板側から前記ナノ構造体側に向けて少なくとも２層積層されて形成され、前記球状粒子の粒径サイズは、前記球状粒子層間で異なり、前記基板側から前記ナノ構造体側に向けて小さく、前記ナノ構造体は、前記テンプレートの最表層を形成する前記球状粒子層における個々の前記球状粒子上に配され、前記球状粒子の粒径サイズよりも小さな粒径のナノ粒子で形成されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 被蒸着体にカーボン粉を用い、蒸着材としてシリコンを付着することで、カーボン粉上に均一に所定のシリコンナノ粒子を均一に付着させることができる。微粒子形成装置を提供する。
【解決手段】 攪拌容器７３に収納された担持体であるカーボン粉（被蒸着体７）を攪拌しながらナノ粒子（蒸着体）のプラズマを上から照射し、カーボン粉表面に触媒金属を担持させる。この過程で、スタンプ８５のアーム部８９は、攪拌容器７３の回転に連動して、上部開口部の縁部９０の斜めに切りかけたスロープを登る。そして、最終上段まで上がったときに、段差９０ｃで低い段差に急激に落とされて、その下部にあった被蒸着体７の塊を粉砕する。また、蒸着材料のシリコンは電気を通さないといけないため比抵抗は０．１Ωｃｍ以下に保たないといけない。 （もっと読む）

本願は、第１基材上の収容溝に補助体を挿入して、前記補助体の第１表面は、前記収容溝に収容され、前記補助体の第２表面は、外部に露出させるステップ、前記第２表面に第１コーティング層を形成するステップ、前記第１コーティング層が形成された補助体と第２基材とを付着するステップ、前記第２基材に付着した前記第１コーティング層が形成された補助体を前記第１基材から分離して、前記第１コーティング層が形成された補助体の第１表面を外部に露出させるステップ、前記第１表面上に第２コーティング層を形成するステップ、及び前記第１コーティング層と前記第２コーティング層とが形成された補助体を前記第２基材から分離するステップを含む粒子の製造方法及びこれによって製造される粒子を提供する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、異方性粒子の異方性部位の面積を容易かつ精密に変えることが可能な異方性粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】
第一の粒子１１と、第一の粒子１１の平均粒径よりも平均粒径が小さく、かつ、第一の粒子１１とは異なる材料からなるマトリクス材１２、あるいはマトリクス材１２の前駆体とを含む液体１３を基板１４上に付与することにより、第一の粒子１１の間にマトリクス材１２が第一の粒子１１の平均粒径未満の高さで充填されている第一の粒子１１の単層膜を基板１４上に形成する工程と、第一の粒子１１のマトリクス材１２から露出している部分を改質することにより異方性粒子１５を得る工程と、異方性粒子１５を１４基板及びマトリクス材１２から分離する工程と、を有することを特徴とする異方性粒子１５の製造方法。 （もっと読む）

【課題】均一な形状を有し、寸法ばらつきの小さい均質性の高い微粒子、及び寸法、形状、融合状態等の制御が可能である今までにない微粒子の製造方法の提供。
【解決手段】基材の一の表面上に、該表面を基準として複数の凸部が配列されたことによって形成された凹凸部を形成する凹凸部形成工程と、前記凹凸部の少なくとも一部に微粒子材料からなる微粒子を形成する微粒子形成工程と、形成された微粒子を前記凹凸部から取り出す微粒子取出工程とを含む微粒子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 表面に凹部を有する対象物について、空孔を生じることなく速やかに成膜することが可能な技術を提供することを目的としている。
【解決手段】 本発明の装置は、表面に凹部を有する対象物に成膜する装置である。その装置は、対象物を収容する密閉容器と、密閉容器に原料ガスを導入するガス導入口と、密閉容器内の原料ガスを液化する液化手段と、密閉容器内の対象物を加熱する加熱手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】超疎水性を得るように、高分子フィルム、繊維、不織布及びこれらの積層体を製造しかつ／または処理する単純かつ安価な方法を提供する。
【解決手段】高撥水性材料を製造する方法が提供される。一実施形態では、本方法は、粒子様のナノサイズの凹凸を含む外表面を有する高分子材料を提供するステップと、外表面を、高エネルギー表面処理によりエッチングするステップと、エッチングされた外表面上に、プラズマフッ素化プロセスによってフルオロケミカルを堆積させるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】真空装置等の複雑な装置を必要としない、稼働開始時から均一な品質の薄膜を形成可能な薄膜形成装置及び、薄膜形成方法の提供。
【解決手段】大気圧または大気圧近傍でプラズマを発生させ薄膜を基材上に形成する薄膜形成装置において、
放電ガスを供給する放電ガス供給手段と、原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、
１対の電極と、１対の電極間に高周波電界を発生させる高周波電源と、
前記放電ガス供給手段による放電ガスの供給開始と、前記原料ガス供給手段による原料ガスの供給開始と、前記高周波電源による電極への高周波電圧の印加開始とを、同時に行なわせる制御手段とを、有することを特徴とする薄膜形成装置。 （もっと読む）

【課題】高電圧プラズマ発生装置において、プラズマの生成領域を拡大して、供給されたガスを効率よく処理する。
【解決手段】高電圧プラズマ発生装置は、高周波信号の給電により共振を発生させ、この共振により高電圧を発生させる長尺状の電極であって、交流信号の給電点が長尺状の中間部分に設けられる第１の電極と、第１の電極の周りを覆い、第1の電極の少なくとも一方の端から、第1の電極の延長上の離間した位置に、ガス流の供給口が設けられた金属製の筐体と、第１の電極の一方の端の近傍に、一方の端から離間して設けられ、筐体と接続された、アースされた第２の電極と、第１の電極が電磁波を放射する際の共振周波数と同じ周波数の信号を給電する電力供給装置と、を有する。第１の電極と第２の電極間の領域で、ガスを用いたプラズマを生成する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高い濃度で銀を担持させることを可能にする、プラスチックへの銀担持方法を提供する。
【解決手段】プラスチックに対して、銀を含有するプラズマを照射するプラズマ照射工程を行って、プラズマ照射工程で照射したプラズマの銀をプラスチックに担持させる。 （もっと読む）

【課題】１ｎｍ〜１０μｍの大きさのさまざまな機能性物質を、規則的に高密度に配列させ、しかもそれぞれの機能性物質同士がお互いに適当な距離を保って離れているような状態を、簡便に作製するための技術を提供する。
【解決手段】固体基板上に、ポリマー、ガラスなどの球形粒子を液中に分散したコロイド溶液を展開することにより、個々の粒子が１０ｎｍから１０μｍのサイズをもつ六方最密充填構造の単分散微粒子層を形成し、この単分散微粒子の個々の粒子上に、化学的又は物理的蒸着法により、ポリマー、ガラス、金属、セラミックス粒子からなる六方非最密充填構造層を形成し、六方最密充填構造の単分散微粒子層と六方非最密充填構造層との階層構造を持つ六方非最密充填粒子配列構造材料の作製方法。 （もっと読む）

【課題】効果的な修飾微粒子の形成方法の提供。
【解決手段】微粒子を単層固定させる基板表面に金を所定の厚さで蒸着する。一方、1-ethyl-3(3-dimethylaminopropyl)carbodiimidehydrochloride（通称ＥＤＣ）、ＮａＣｌ、あるいは、ＫＣｌ等の微粒子間の静電反発力を抑制するための材料を利用した粒子固定液を作製し、これに微粒子を混合した粒子懸濁液として上記基板上に塗布することにより、金を所定の厚さで蒸着された基板表面に微粒子を単層固定させる。また、単層固定された微粒子表面に遷移金属、金属または半導体を蒸着させて修飾微粒子を形成する。基板から修飾微粒子剥離させるには、超音波洗浄装置等を利用して、基板に超音波を作用させて、剥離を促進する。修飾微粒子を生体機能分子によって修飾して生体物質の検査のための標識として利用する場合、修飾微粒子からの反射電子を利用する。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜の絶縁耐圧の向上を図ることのできる絶縁膜の製造方法、反応装置、発電装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】反応物の反応を起こすマイクロリアクタ１は、金属基板である上板２及び底板３等から構成されてなり、底板３とその表面に設けられる薄膜ヒータ３２との間に絶縁膜３１として、希土類元素Ｒの結晶構造を有するＲ_２Ｏ_３膜（Ｙ_２Ｏ_３膜）が形成されている。Ｒ_２Ｏ_３膜は、底板３の表面にＲ膜を成膜した後、水素化してＲＨ_２膜を形成し、さらに酸化することによって形成される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ均一性を改善したプラズマリアクタを提供する。
【解決手段】ＲＦ接地リターン電流は、バイパス電流路を提供することにより、リアクタチャンバの非対称なフィーチャーからは迂回されている。１つのバイパス電流路は、チャンバ床のポンピングポート１６２を排除するものであり、側壁から接地台座ベースまで延在する導電性の対称グリル２００を含んでいる。他のバイパス電流路は、ウェハスリットバルブを排除するものであり、スリットバルブ１２８の占める側壁部分を橋架けする列をなす導電性ストラップを含んでいる。 （もっと読む）

基板洗浄チャンバは、基板支持体に面する弧状面を有する輪郭付けされた天井電極を含み、弧状面と基板支持体との間のギャップの大きさを変えて基板支持体にわたり変化するプラズマ密度を与えるための可変断面厚みを有している。洗浄チャンバのための誘電体リングは、ベースと、峰部と、基板支持体の周囲リップをカバーする半径方向内方の張出部とを含む。ベースシールドは、少なくとも１つの周囲壁を有する円形ディスクを含む。洗浄チャンバのための洗浄及びコンディショニングプロセスについても説明する。 （もっと読む）

【課題】短時間で均一性の高い表面処理を行う。
【解決手段】シランカップリング剤を気化する気化装置２０２と、被処理物Ｐが配置されるとともに気化装置２０２によって気化されたシランカップリング剤が導入される処理装置２０３と、気化装置２０２の内部の処理雰囲気と処理装置２０３の内部の処理雰囲気とを個別に制御可能な制御装置２０５とを備える。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内を大気圧に復帰させるまでの時間を短縮できる真空成膜装置を提供する。
【解決手段】その内部で成膜を行うためのチャンバ１０と、該チャンバ１０の内部を排気する排気装置１８と、加圧ドライエアを供給するドライエア供給源２０と、前記チャンバ１０と前記ドライエア供給源２０とを接続するドライエア供給配管３０と、該ドライエア供給配管３０に設けられた空気導入バルブ５０と、該空気導入バルブ５０が設けられた位置よりも上流のドライエア供給配管３０に設けられた、該ドライエア供給配管３０を連通及び非連通にする連通／非連通バルブ４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】レーザ照射手段のような大掛かりな装置を必要とせず、ＰＦＣ系ガスを用いずに、十分な処理効果を奏するプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法、ガス発生装置及びガス発生方法、並びに、フッ素含有高分子廃棄物処理方法を提供する。
【解決手段】プラズマを発生させる放電空間４に配置されたフッ素含有高分子原料１と、プラズマ中において上記フッ素含有高分子原料と反応することによって、フッ素含有化学反応種を発生させるガスを供給するガス供給手段８とを備え、プラズマ中にフッ素含有化学反応種を発生させ、該フッ素含有化学反応種により被処理物を処理するプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法、ガス発生装置及びガス発生方法である。フッ素含有高分子廃棄物にプラズマ又はプラズマ中を通過したガスを照射することにより、当該フッ素含有高分子廃棄物のフッ素を回収するフッ素含有高分子廃棄物処理方法である。 （もっと読む）

【課題】真空容器内部がマイクロ波の波長に比べて十分に広い空間になっていたとしても、そのマイクロ波を用いて、その真空容器内部でプラズマを効率良くかつ容易に発生できる装置、或いは、その真空容器内部で効率良くかつ容易にプラズマを発生させて高品質な薄膜の形成ができる装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波を発生する発振器（６）と、マイクロ波を伝播させる導波管（１）と、マイクロ波のインピーダンスを調整する整合器（７）と、真空容器（８）と、前記導波管（１）と前記真空容器（８）とを分離する誘電体（２）と、前記誘電体（２）に接しているアース電極（３）と、前記アース電極（３）と垂直に設置され前記真空容器（８）にガスを導入するガスパイプ（４）とを備えることを特徴とするマイクロ波プラズマ発生装置。 （もっと読む）

【課題】プラズマ生成を低電圧で安定して行うことのできるプラズマ生成装置、およびこのプラズマ生成装置を用いた表面処理装置、表示装置、流体改質装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成装置１０は、導体線４と絶縁層５からなる第１絶縁被覆線１と、導体線６と絶縁層７からなる第２絶縁被覆線２とを撚り合わせた撚線構造からなるプラズマ生成部８を設け、両絶縁被覆線１，２間に交流電圧を印加することで、両絶縁被覆線間１，２に生じる微小な隙間においてプラズマＰを生成する。 （もっと読む）