【課題】ナノ粒子を内部に分散させたナノ粒子分散イオンゲルを提供する。
【解決手段】ナノ粒子の製造方法は、イオンゲルの内部に複数のナノ粒子が分散されたナノ粒子分散イオンゲルを製造する工程（ステップＳ１０）と、ナノ粒子分散イオンゲルを溶解し、複数のナノ粒子が分散された液体を製造する工程（ステップＳ２０）と、を含む。 （もっと読む）

本願は、第１基材上の収容溝に補助体を挿入して、前記補助体の第１表面は、前記収容溝に収容され、前記補助体の第２表面は、外部に露出させるステップ、前記第２表面に第１コーティング層を形成するステップ、前記第１コーティング層が形成された補助体と第２基材とを付着するステップ、前記第２基材に付着した前記第１コーティング層が形成された補助体を前記第１基材から分離して、前記第１コーティング層が形成された補助体の第１表面を外部に露出させるステップ、前記第１表面上に第２コーティング層を形成するステップ、及び前記第１コーティング層と前記第２コーティング層とが形成された補助体を前記第２基材から分離するステップを含む粒子の製造方法及びこれによって製造される粒子を提供する。 （もっと読む）

【課題】 プラズマがガス噴出孔を通じて電極のさらに内部に入り込み、電極支持部材をスパッタすることによる金属汚染を防止し、かつ寿命の長い電極を提供すること。
【解決手段】 本発明の電極は、一以上のガス通路孔２３ａを有する上部板２２ａと、一以上のガス噴出孔２３ｂを有する下部板２２ｂとを有し、かつ上部板２２ａと下部板２２ｂを上下に分割可能な構成とすると共に、上部板２２ａのガス通路孔２３ａ及び下部板２２ｂのガス噴出孔２３ｂの一方又は両方を、その一部又は全部を電極面２２ｓに対して斜めに設けるか、又はその一部を電極面２２ｓに対して平行に設ける。 （もっと読む）

【課題】液中プラズマを用いて液体のみならず固体をも原料とした皮膜を基材の表面に成膜する方法において、成膜条件の大幅な変更を伴うことなく、所望の割合で固体の原料を含有する皮膜を成膜できる成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の液中プラズマを用いた成膜方法は、第一の原料を含む固体からなるターゲットＴ_１と基材Ｓ_１とを互いに対向させて、第二の原料を含むまたは含まない液体Ｌ_１中に配設する配設工程と、液体Ｌ_１中にスパッタガスＧ_１を供給して少なくともターゲットＴ_１と基材Ｓ_１との間に気相空間Ｖ_１を形成する気相空間形成工程と、気相空間Ｖ_１に少なくともスパッタガスＧ_１のプラズマを発生させるプラズマ発生工程と、を経て、プラズマによりターゲットＴ_１をスパッタリングさせて基材Ｓ_１の表面に少なくとも第一の原料を堆積させる。 （もっと読む）

【課題】マスフローコントローラが設置された配管にガス流量計を設けなくてもマスフローコントローラの異常を検出することができるようにする。
【解決手段】ガス導入配管２０は、処理室３にプラズマ生成用のプロセスガスを導入する。圧力調整バルブ５０は、排気管５に設けられている。マスフローコントローラ２は、ガス導入配管２０に設けられており、プロセスガスの流量を調整する。圧力計４は、処理室３内の圧力を検出する。制御部６は、圧力計４の検出値に基づいて圧力調整バルブ５０の開度を制御することにより、処理室３内の圧力を制御する。また制御部６は、マスフローコントローラ２からプロセスガスの流量を示す流量データを受信し、流量データと、電極に高周波が入力されたときの圧力計４の検出値の変動量に基づいて、マスフローコントローラ２の異常の有無を判断する。 （もっと読む）

【課題】 ターゲット物質の歩留りを向上させ、無駄なく簡単に薄膜を形成するためのターゲット物質含有液体の製造方法、ターゲット物質を含有する薄膜の形成方法、ターゲット物質含有液体を提供する。
【解決手段】 ターゲットを用いたプラズマスパッタリング法を用い、前記ターゲットが配置された処理室と同一の処理室内に配置された液体材料に向けてターゲット物質をスパッタリングすることにより、前記ターゲット物質を前記液体材料中に分散させることを特徴とするターゲット物質含有液体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】特別な前処理や後処理を施さずに効率よく、親水性の薄膜をプラスチック基板に成膜することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基板Ｓの表面に薄膜を形成する方法であって、真空容器１１の内部に形成された成膜プロセス領域２０Ａでチタンターゲット２２ａ，２２ｂのスパッタ物質を基板Ｓに付着させる工程（Ｓ４）と、真空容器１１の内部に成膜プロセス領域２０Ａとは離間して形成された反応プロセス領域６０Ａで酸素ガスを基板Ｓに接触させ、スパッタ物質の組成を変換させる工程（Ｓ５）とを有し、酸素ガスの導入流量と少なくとも同一流量のアルゴンガスを導入するとともに１ｋＷ以下のプラズマ処理電力を供給した状態で、酸素ガスを基板Ｓに接触させる。 （もっと読む）

【課題】反応容器内を排気するのに要する時間を短縮でき、減圧条件下で行う処理を効率よく行うことができる技術の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、反応容器１０１の上方に取り付けられた上部真空ポンプ取り付け室１３４と、反応容器１０１の下方に取り付けられた下部真空ポンプ取り付け室１３５とを有する。上部真空ポンプ取り付け室１３２は、反応容器１０１の天井部に設けられた一対の上部真空ポンプ取り付け壁１３４ａ、１３４ｂを有し、真空ポンプ取り付け壁１３４ａ、１３４ｂの少なくとも一方に真空ポンプ１３０、１３１が取り付けられ、下部真空ポンプ取り付け室１３５は、反応容器１０１の底部に縦置き状態で設けられた一対の下部真空ポンプ取り付け壁を１３５ａ、１３５ｂ有し、下部真空ポンプ取り付け壁１３５ａ、１３５ｂの少なくとも一方に真空ポンプ１３２が取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】成膜効率を向上させることができる薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】ターゲット２９ａ，２９ｂをスパッタして回転ドラム１３に保持され回転する基板Ｓに、目標膜厚よりも薄い膜厚の第１薄膜を形成した後、前記目標膜厚に対して不足する不足分膜厚の第２薄膜を前記第１薄膜に形成する薄膜形成方法であって、第１薄膜の膜厚を測定する光学測定工程と、前記膜厚に基づいて前記第１薄膜を形成した実際の成膜レートを算出する成膜レート算出工程と、前記実際の成膜レートに基づいて前記第２薄膜を形成するのに必要な残成膜時間を算出して成膜時間を調整する成膜時間調整工程とを、有する薄膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】安定で制御可能なプラズマを得ること。
【解決手段】プラズマを生成するプラズマ生成部と、独立して制御可能な第１電力と第２電力をプラズマ生成部に付与する電源と、を備え、第１電力は、プラズマを始動する高電圧小電流であり、第２電力は、プラズマを維持する低電圧大電流である、プラズマ生成装置、及び、プラズマガスに高電圧小電流の第１電力を付与してプラズマガスを始動状態にし、プラズマガスの始動状態に低電圧大電流の第２電力を付与してプラズマ状態を維持する、プラズマ生成方法。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜の絶縁耐圧の向上を図ることのできる絶縁膜の製造方法、反応装置、発電装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】反応物の反応を起こすマイクロリアクタ１は、金属基板である上板２及び底板３等から構成されてなり、底板３とその表面に設けられる薄膜ヒータ３２との間に絶縁膜３１として、希土類元素Ｒの結晶構造を有するＲ_２Ｏ_３膜（Ｙ_２Ｏ_３膜）が形成されている。Ｒ_２Ｏ_３膜は、底板３の表面にＲ膜を成膜した後、水素化してＲＨ_２膜を形成し、さらに酸化することによって形成される。 （もっと読む）

【課題】ガスを有効に利用することができるとともに、製造コストを低減させることのできる電極を提供すること。
【解決手段】被処理基板を支持するヒータカバーと製膜カバー１２との間に配置され、前記ヒータカバーと前記製膜カバー１２とで囲繞された空間内にガスを供給し、かつ、上部ガスヘッダー１０ａと、下部ガスヘッダー１０ｂと、これら上部ガスヘッダー１０ａおよび下部ガスヘッダー１０ｂの間に接続された複数本のガス管６０ｃ，６０ｃ’とを具備した電極６０であって、前記被処理基板と対向する位置よりも外側に位置する前記ガス管６０ｃ’には、前記ガスを前記空間内に吹き出すために設けられたガス吹き出し孔６０ｄが設けられていないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高感度なプラズマ内励起種測定を行うための方法および装置を提供する。
【解決手段】プラズマ内に存在する励起種の緩和に伴う発光の検出において、ある励起種から放出される発光のうち特定のエネルギー準位間の緩和（遷移）のエネルギー準位を特定するエネルギー準位特定工程と、前記緩和（遷移）エネルギーに相当する波長の光をシード光（種光）として選択するシード光波長選択工程と、シード光波長選択工程で選択された波長の光をシード光としてプラズマ内に照射するシード光照射工程と、照射したシード光との相互作用により起きた発光を検出する発光検出工程と、前記発光検出工程で検出した発光から励起種を判定する励起種判定工程と、を具備することを特徴とするプラズマ内励起種測定方法。 （もっと読む）

【課題】４００℃〜６００℃の作動温度においても、原子の透過性を向上させることができる金属薄膜を提供する。
【解決手段】金属組成物と、前記金属組成物の結晶粒界に分散させた酸化物とを含有する。前記金属組成物を構成する金属ターゲットと、前記酸化物を構成する酸化物ターゲットとを同時にスパッタリングして形成した。前記酸化物が、ジルコニア、ランタンガレート、セリアのうちいずれか一つの元素で構成した。前記金属組成物が、銅、銀、白金、パラジウム及び金のうちいずれか一種、又は二種以上を主体とした合金で構成した。 （もっと読む）

【課題】ラジアルラインスロットアンテナを使ったマイクロ波プラズマ処理装置において、アンテナ中の遅波板とマイクロ波放射面を構成するスロット板との間の密着性を向上させ、異常放電を防止する。
【解決手段】スロット板１６を、遅波板１８と熱膨張率が近い材料により形成する。あるいはスロット板１６を、遅波板１８を構成する誘電体板上に、金属を付着させることにより形成する。 （もっと読む）

【課題】多機能化により小型で且つ低コストな巻取式複合真空表面処理装置を提供する。
【解決手段】真空容器全体を真空引きする真空ポンプを備えた略円筒状の真空容器内に、一対のフィルム巻取巻出ロールと、真空容器と軸中心をほぼ一致させた回転可能キャンロールとを備え、容器周壁にキャンロールに対向して固定された複数の表面処理手段と、容器周壁とキャンロールの間をほぼ遮蔽するように表面処理手段が配置された処理ゾーンを一対のフィルム巻取巻出ロールから分離する一対の第１遮蔽板と、容器周壁に固定されてキャンロール近くまで延長し、処理ゾーン内を少なくとも２つの表面処理手段を含む複数の処理室に区画する複数の第２遮蔽板と、容器周壁にそれぞれ設置された各処理室用真空ポンプとを有し、各々の処理室において互いに異なる圧力やガス種の表面処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】
装置の複雑化や、大型化を招くことなく、多様な成膜条件に適用可能なガス混合器、これを用いた成膜装置、及び面内均一性の高い薄膜を形成できる薄膜製造方法を提供する。
【解決手段】
少なくとも二以上の混合室を備えるガス混合器において、第一混合室に、混合しようとする二種以上のガスがそれぞれ導入される二以上の導入口と、一以上の排出口とを設けるとともに、第二混合室に、第一混合室に設けられた排出口と連通し、第一混合室から排出されたガスが導入される一以上の導入口と、一以上の排出口とを設け、第一混合室及び／又は第二混合室に設けた排出口を、同じ混合室に設けられた導入口に対して、ガスの流れ方向において重ならないように配設する。 （もっと読む）

【課題】安価且つコンパクトな構成で大口径のビームを被処理物に照射することができると共に高い中性化率を得ることができ、チャージフリー且つダメージフリーな中性粒子ビーム処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の中性粒子ビーム処理装置は、被処理物Ｘを保持する保持部２０と、高周波電圧の印加と印加の停止とを交互に繰り返すことにより、真空チャンバ３内に正イオンと負イオンとを含むプラズマを生成するプラズマ生成部と、真空チャンバ内であって、プラズマ生成部と被処理物との間に配置され、プラズマから放出される紫外線を遮蔽するオリフィス電極４と、真空チャンバ内にオリフィス電極に対して上流側に配置されたグリッド電極５と、オリフィス電極とグリッド電極との間に電圧を印加することで、プラズマ生成部により生成されたプラズマから正イオンと負イオンとを交互に引き出すバイポーラ電源１０２とを備える。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜の絶縁耐圧の向上を図ることのできる絶縁膜の製造方法、反応装置、発電装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】反応物の反応を起こすマイクロリアクタ１は、金属基板である上板２及び底板３等から構成されてなり、底板３とその表面に設けられる薄膜ヒータ３２との間に絶縁膜３１として、希土類元素Ｒの結晶構造を有するＲ₂Ｏ₃膜（Ｙ₂Ｏ₃膜）が形成されている。Ｒ₂Ｏ₃膜は、底板３の表面にＲ膜を成膜した後、水素化してＲＨ₂膜を形成し、さらに酸化することによって形成される。 （もっと読む）

【課題】設置スペースの縮小及び装置コストの低減を図ることのできる大気圧プラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】対向配置された一対の電極（４０）と、一対の電極（４０）に接続された電源（５）と、被処理基材（Ｋ）を保持する保持手段（７，６３ａ）とを備え、一対の電極（４０）の少なくとも一方には、機能物質を含む含機能物質部材（４２）が着脱自在に設けられ、電源（５）は、一対の電極（４０）間の領域に大気圧雰囲気下でプラズマが励起し且つ含機能物質部材（４２）から機能物質がスパッタリングする電力を当該一対の電極（４０）に印加する構成とされ、保持手段（７，６３ａ）は、スパッタリングした機能物質が被処理基材（Ｋ）に到達する位置となるように被処理基材（Ｋ）を保持する構成とされたことを特徴とする。 （もっと読む）