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Fターム[4G075EB32]の内容

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Fターム[4G075EB32]に分類される特許

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マイクロ流体試料処理装置の処理チャンバを、マイクロプレートリーダーの適切な焦点面に位置決めする装置および方法が開示されている。この装置および方法は、異なるマイクロプレートリーダーで処理するのに必要とされる異なる高さに試料処理装置を位置決めするように適合可能である。位置決め装置は、処理チャンバをマイクロプレートリーダーの焦点面内に設置するために、試料処理装置に関連させて用いられる。
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【課題】低濃度のオゾン水とオゾンガスを生成するために、放電方式あるいは紫外線方式のオゾン発生体で、水中の溶存空気を解離してオゾンを生成し、人体に安全でオゾン臭くない低濃度のオゾン水とオゾンガスを簡便な構造で安定的に生成するオゾン水とオゾンガスの生成装置を提供する。
【解決手段】貯水槽101と貯水槽101の一画にオゾン発生部105を有し、貯水槽100内に貯留された貯留水102の溶存酸素をオゾン発生部105により解離してオゾンを発生させ、貯留水102より低濃度のオゾン水を生成するとともに、オゾン水よりオゾンガスが遊離することにより、人体に安全で且つオゾン臭くない低濃度のオゾン水とオゾンガスを安定的に生成することとなる。 (もっと読む)


この発明は、少なくとも全部のマイクロリアクターでの反応が終了するまで持続的に攪拌されている複数のマイクロリアクターにおける反応液のプロセスパラメータを検出する方法及び装置に関する。反応の間、少なくとも一つのセンサー光学系を用いて、マイクロリアクターにおけるプロセスパラメータを検出する。この方法の信頼性を向上するために、一つのプロセスパラメータの値を検出している間、例えば、反応液の自己発光の瞬間的な値を検出している際には、センサー光学系を動かさないことを提案する。その時々のセンサー光学系の電磁放射線は、一つのマイクロリアクターにおけるプロセスパラメータを検出している間、専らそのマイクロリアクターに入射するとともに、反応液から放出される放射線は、専らそれに対応するセンサー光学系のセンサーに当たる場合において、この場合に行われる攪拌されているマイクロリアクターとその時々のセンサー光学系間の相対的な動きは何ら問題は無い。
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放射線改質装置が、硬化させるか偏光によって整列を作ることなどによって第1の材料を改質する放射線を発生するための複数の固体放射線源を含む。固体放射線源は、アレイパターンで配置することができる。対応するアレイパターンで配列された光学集中装置が、対応する固体放射線源から放射線を受ける。集中された放射線は、また対応するアレイパターンで配列された複数の光導波路によって受けられる。各光導波路は、放射線を受けるための第1の端部と、放射線を出力するための第2の端部とを含む。放射線改質装置は、連続基板、シート、ピースパーツ、スポット硬化、および/または3D放射線硬化プロセスのために使用することができる。
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照射(400)装置が、硬化させるか偏光によって配列を作ることなどによって第1の材料(650)を改質する放射線を発生するための複数の固体放射線源(104)を含む。固体放射線源(104)は、アレイパターンで配置することができる。対応するアレイパターンで配列された光学集中装置(120)が、対応する固体放射線源(104)から放射線を受ける。集中された放射線は、また対応するアレイパターンで配列された複数の光導波路(130)によって受けられる。各光導波路は、放射線を受けるための第1の端部(132)と、放射線を出力するための第2の端部(133)とを含む。固体放射線源(104)と電気的に通信する制御装置(304)が、該固体放射線源にパルス放射線を発生させる。放射線改質装置は、連続基板、シート、ピースパーツ、スポット硬化、および/または3D放射線硬化プロセスのために使用することができる。
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本発明は、粒子(100)を凝縮する方法であって:支持体(104)の少なくとも1個の導波路(108)に近接して、及び/又は、該導波路(108)上に前記粒子(100)を配置する段階と、前記導波路(108)に光照射Rを入射して、導波路上で粒子を1個又は数個のクラスター(106)にグループ化を引き起こす段階、を備えている。
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光放射によって液体又はガスを処理するための直列反応炉が開示されている。反応炉は透明材料から成る管、パイプ、又は、室から成り、少なくとも1つの流体入口と、対応する少なくとも1つの流体出口とを有する。管の透明材料は、その屈折率が処理されるべき流体の屈折率に限りなく近いよう選択される。反応炉の内部で、光源から臨界角よりも大きな入射角で反応炉内に向けられる光の全反射を可能にするために、空隙が反応炉の外部透明壁の周りに保持される。少なくとも1つの直列反応炉を含む流体処理システムが開示されている。さらに、直列流体処理の方法、特に水の減菌及び殺菌並びに水の殺菌充填の方法が開示されている。出口ノズルを通じて発射後の直列殺菌された水によって打たれる表面も、自由流水噴流内の全反射に封鎖される直列処理のために用いられる同一紫外線光を用いて水を発射することによって減菌される。
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