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Fターム[4H003EB08]の内容

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Fターム[4H003EB08]に分類される特許

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植物における感染を処置又は予防するための殺菌方法であって、有機酸又は有機酸混合物と、大きな先端基、分枝したアルキル鎖及び不飽和アルキル鎖のうち少なくとも1つを有する短鎖アニオン性界面活性剤とを含む抗菌組成物を用いる、前記方法。 (もっと読む)


粒状物の溶解性は、混合機/造粒機および流動床造粒機を使用し、および液体成分を該混合機/造粒機と該流動床の間で分配することによって、固体成分および液体成分を造粒することにより制御することができる。この方法において、これらの粒状物を含有する洗剤および/または洗浄剤の溶解性の種々の程度を調節することができる。該流動床中に噴霧される成分が陰イオン性界面活性剤酸を含有しない場合、とりわけ界面活性剤を含有しない場合、および、それらが好適には被覆形成成分を含む場合、粒状物の溶解性は特に低減され得る。このタイプの粒状物は、優れた崩壊特性を有し、および洗濯機または食器洗い機における使用が予定されている洗剤タブレットを製造するために使用することができる。 (もっと読む)


本発明は、四級窒素含有セルロースエーテルを含んでなる布地手入れ用品、並びに布地を保護するための、毛羽低減、毛玉低減、しわ低減、しわ伸ばし、柔らかな肌触りの向上、及び平らな布地シート材料の易アイロンがけのための、該製品の使用に関する。 (もっと読む)


光学的に清澄な水性組織化界面活性剤組成物であって、100重量部の該組成物当たり0重量部から2.5重量部より小の糖及び100重量部の該組成物当たり7.7重量部より大から約50重量部のアニオン性界面活性剤を含み、しかも該アニオン性界面活性剤の少なくとも一部は球晶の形態にある組成物は、パーソナルケア用組成物中の成分として有用である。 (もっと読む)


【課題】 第四ヒドロキシアルキルアンモニウム化合物顆粒の製造方法の提供。
【解決手段】 この課題は、a)第四ヒドロキシアルキルアンモニウム化合物
b)担体およびc)場合によってはバインダーおよび/または添加物
を含有する水溶液および水性懸濁物を流動床装置中に噴霧し、その際に流動床が噴霧される水溶液または水性懸濁物と同じ組成の顆粒よりなることを特徴とする
上記方法によって解決される。 (もっと読む)


本発明は、消費者にとって目立たないような粒径、色、及び濃度で添加された着色粒子を含む洗剤組成物に関する。このような着色粒子は、全洗剤組成物の0.5重量%未満で添加され、250〜1250μmの粒径分布、及び40〜100のハンター色L値によって特徴付けられる。この着色粒子は、着色洗剤成分を含み、これは色相剤である。 (もっと読む)


本発明は、カプセル化漂白剤粒子に関する。該粒子は、漂白剤活性成分を含むコアと該コアを少なくとも部分的に包囲する水溶性被覆物質からなり、該コアはペルオキシカルボン酸を含み、該被覆物質はポリビニルアルコールを含む。該粒子は、粒子状ペルオキシカルボン酸の流動床への導入、ポリビニルアルコールを含む水溶液の該流動床への噴霧、および引き続く乾燥または噴霧乾燥によって製造することができる。 (もっと読む)


ポリマービグアニドまたはビス(ビグアニド)化合物、キレート剤、および緩衝剤を含む局所洗浄組成物、ならびに皮膚または耳組織感染を予防または治療するためにそれらの組成物を使用する方法が提供される。 (もっと読む)


改良された土壌洗浄及び土壌分散用の変性されたポリアミノアミド及び界面活性剤系を包含する洗剤組成物。 (もっと読む)


本開示は、半導体装置の製造中における化学的機械的平坦化(CMP)後の半導体ウエハの洗浄を検討する。金属特に銅の相互接続を含有するウエハのCMP後洗浄のための酸性化学剤が開示されている。残存スラリー粒子、特に銅または他の金属粒子は、金属を有意にエッチングすることなく、表面に付着物を残すことなく、または有意の有機(炭素のような)汚染質を表面に与えることなく、しかも金属を酸化および腐食から保護しながら、表面から除去される。さらに、溶液中の金属イオンを錯化し、誘電体からの金属の除去を促進し、ウエハ上への再付着を防止するために、少なくとも1種の強力なキレート化剤が存在する。酸性化学剤を用いると、CMP後に使用される洗浄溶液のpHをウエハ表面で使用された最後のスラリーのそれとマッチさせることができる。 (もっと読む)


家庭用、施設用、工業用及び/又は商業用の表面を処理する方法であって、水溶性のスルホン化/カルボキシル化ポリマーを含有する表面処理組成物に表面を接触させる工程を含む方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】殺菌洗剤組成物の提供。
【解決手段】硬質表面及び織物繊維材料の殺菌処理のための、式(1)


(式中、R1は、水素原子又は炭素原子数1ないし5のアルキル基を表わす。)で表わされる化合物の使用を開示する。式(1)で表わされる化合物は、洗浄された織物材料に抗菌性を付与する。着ている間に織物材料上に付着した細菌を破壊する。所望によりハロゲン化されたヒドロキシ−ジフェニルエーテル殺生剤と組み合わせた、式(1)で表わされる化合物を含む洗剤組成物も開示する。 (もっと読む)


組成物、および組成物の生成方法を開示する。組成物は、α−ヒドロキシ酸および1種または複数種の金属を含み、金属が組成物の約1,000μg/kg未満で存在する。方法は、酸性イオン交換樹脂を、可溶性α−ヒドロキシ酸、および所望のものより高い全金属濃度、個別の各金属濃度、または両方を含む水性組成物と接触させて、全金属濃度が低減された、樹脂で処理したα−ヒドロキシ酸溶液を生成する工程を含む。α−ヒドロキシ酸を含む溶液を使用することによって、半導体基板および/または装置から残渣を洗浄または除去するために使用することができる方法も開示する。 (もっと読む)


水溶性のスルホン化/カルボキシル化ポリマーを含有する、家庭用、施設用、工業用及び/又は商業用の表面処理組成物が提供される。 (もっと読む)


本発明は、アルキルエトキシル化ポリマー、少なくとも1つの発泡性界面活性剤、アクリレート架橋したコポリマー及び粒子状物質並びに発泡性界面活性剤を含む発泡性クレンジング組成物である。これら組成物は、良好な泡立ちを与え、また容易に洗い流される。前記粒子状物質は、洗浄及び剥離を向上させるか、又は損傷及び/又は(and, or)刺激を与えずにコンディショニング効果を提供する。 (もっと読む)


本発明は、改善された香料安定性を有する洗剤の錠剤を対象とする。それは洗剤の錠剤に関し、少なくとも2つの不連続領域、並びに多孔質担体物質及び前記多孔質担体物質の孔の中に含有される香料を含む香料粒子を洗剤の錠剤の0.05重量%〜10重量%含み、香料粒子が、錠剤の1つの領域中にそのもう1つの領域中より高濃度で含まれる洗剤の錠剤に関する。 (もっと読む)


床クリーナとして使用するのに適した固形清浄用製品が開示されている。固形清浄用製品の製造、使用方法も同様に開示される。
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【課題】この開示は、半導体装置を製造する間に、半導体ウェハの化学機械平坦化(CMP)後のウェハの洗浄を扱う。
【解決手段】金属、特に銅、相互接続、を含むウェハの後CMP洗浄用アルカリ化学薬品が開示される。残留スラリーパーティクル、特に銅および他の金属パーティクルは十分に金属をエッチングしたり、表面に堆積物を放置したりまたは金属を酸化および腐食から保護する間、ウェハに対して十分な汚染物を被ったりせずにウェハ表面から除去される。また、少なくとも1つの強キレート剤は溶液中の金属イオンと錯体を形成するための存在し、誘電体から金属の除去を促進し、かつウェハ上への再堆積を防ぐ。 (もっと読む)


本発明は、直鎖アルコールおよび分枝状アルコールの混合物に由来し得る少なくとも2つの異なるオキシアルキレン基を含むアルコールアルコキシラートである低起泡性の非イオン性界面活性剤、ならびにその使用に関連する。 (もっと読む)


本発明は、(i)スルファミン酸及び/又はその水溶性塩類と、(ii)少なくとも10重量%の硫酸塩と、(iii)アニオン性洗浄性界面活性剤とを含む洗濯洗剤組成物に関するものである。 (もっと読む)


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