【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分（Ｂ）は、式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有する［Ｚ^＋は有機カチオン；Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又は直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１〜６のフッ素化アルキル基；Ｘは−（ＣＨ_２）_ｍ１−；Ｙは単結合、−Ｏ−（ＣＨ_２）_Ｌ１−又は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_Ｌ１−；Ｌ１、ｍ１は１〜６の整数；ＲｘはＣ＝Ｃ不飽和結合を有し、置換基を有していてもよい炭素数２〜３６の２価の脂肪族炭化水素基；Ｒｙは酸解離性基である。］。
［化１］
（もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、現像時間依存性が小さく、かつ現像により形成されるパターン部の膜べりを抑制する。
【解決手段】（ア）酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により下記一般式（Ｉ）によって表される酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程、を含む、パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。
（もっと読む）

【課題】レジスト組成物の酸発生剤として好適な化合物、及び当該化合物を含有するレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［式（Ｉ）中、Ａ^＋は、有機カチオンを表す。Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子等を表す。Ｌ^ｂ１及びＬ^ｂ１‘は、炭素数１〜１７の２価の脂肪族炭化水素基等を表す。Ｙ^ｂ１は、炭素数１〜５のアルキル基を有していてもよいフェニレン基を表す。Ｘ^ｂは、メトキシメトキシ基等を表す。］、および、式（Ｉ）で表される化合物と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ＥＬに優れると共に、得られるパターンのＬＷＲを低減し、リソグラフィー特性を向上させることができるフォトレジスト組成物を与え得る感放射線性酸発生剤を提供することである。
【解決手段】本発明の化合物は、下記式（１）で表される。また、下記式（１）におけるＲ^２は、炭素数１〜２０の鎖状炭化水素基であることが好ましい。さらに、本発明は、［Ａ］本発明の化合物、及び［Ｂ］酸解離性基を含む構造単位（Ｉ）を有する重合体を含有するフォトレジスト組成物も含む。
（もっと読む）

【課題】設計寸法の微細化に伴い、より優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）の特性が求められている。
【解決手段】式（Ｉ）


［式（Ｉ）中、Ａ^１及びＡ^２は炭素数１〜１８の１価の脂肪族炭化水素基等を表し、Ａ^３は炭素数１〜１８の２価の脂肪族炭化水素基等を表す。Ｘ^１は炭素数１〜１０の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。］で表される塩（Ｉ）と、式（Ｂ１）


で表される塩（Ｂ１）と樹脂とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】従来から知られるレジスト組成物では、得られるパターンのフォーカスマージンの点で、必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２はそれぞれ独立に、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基等を表す。Ｌ^２は炭素数１〜６の２価の脂肪族飽和炭化水素基等を表す。環Ｗは炭素数３〜３６の脂肪族環等を表す。Ｒ¹は、アントラセン環、フルオレン環又はフェナントレン環を含む１価の有機基であり、該有機基は置換基を有していてもよい。Ｚ^＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】チオカルボン酸Ｓ−（フルオロアルキル）エステルの新規な製造方法を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で示されるチオカルボン酸〔式中、Ｒ¹はメチル基、エチル基またはフェニル基を表す。〕と式（ＩＩ）で示されるフルオロオレフィン〔式中、Ｒ²はＣ１−Ｃ５フルオロアルキル基を表す。〕とを、ラジカル発生剤存在下に反応させることを特徴とする式（ＩＩＩ）で示されるチオカルボン酸Ｓ−（フルオロアルキル）エステル〔式中、Ｒ¹およびＲ²は前記と同じ意味を表す。〕の製造方法。
（もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩を有効成分として含有する酸発生剤と、式（ａ３−２）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は２価の飽和炭化水素基；Ｌ^２は単結合又は２価の飽和炭化水素基；Ｒ^１は脂肪族炭化水素基；Ｒ^２は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基等；Ｚ^＋は有機対イオン；Ｌ^a5は、酸素原子又は＊−Ｏ−（ＣＨ₂）_k3−ＣＯ−Ｏ−、ｋ３は１〜７の整数、＊は−ＣＯ−との結合手；Ｒ^a22はカルボキシ基、シアノ基又は脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】 ラフネス特性に優れ、且つ、膜減りや裾引きのない良好なパターン形状を形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み且つ活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩、及び（Ｃ）下記一般式（１−１）または（１−２）で表される、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（一般式（１−１）及び（１−２）中の各符号は明細書に記載の意味を表す。）
【化１】
（もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［Ｒ^１及びＲ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^１は、少なくとも１つのヒドロキシ基を有する２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＮＲ^４−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｒ^４は、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｒ^３は、環式基を表し、該環式基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のフッ化アルキル基で置換されていてもよい。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］
（もっと読む）

【課題】クロロチオールホルメート（ＩＩ）を良好な収率で製造しうる方法を提供すること。
【解決手段】反応器内で、カルボン酸アミド、第２級アミン及び第３級アミンからなる群から選ばれる少なくとも一種と、有機溶媒と、アルケニルメルカプタン（Ｉ）で示される化合物と、ホスゲンとを含む混合物を攪拌しながらアルケニルメルカプタン（Ｉ）で示される化合物とホスゲンとを反応させることにより、クロロチオールホルメート（ＩＩ）を製造する方法であって、前記混合物の単位容積あたりの攪拌動力が０．００５〜５ｋＷ／ｍ^３となるように反応を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ｉ線に高光感応性のスルホニウム塩の提供。
【解決手段】式（１）で示されるスルホニウム塩。


〔Ｒ^１〜Ｒ^６は、互いに独立して、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アシロキシ基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アリール基、複素環式炭化水素基、アリールオキシ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基、置換されていてよいアミノ基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子を表し、ｍ^１〜ｍ^６、はそれぞれＲ^１〜Ｒ^６の個数を表し、ｍ^１、ｍ^４及びｍ^６は０〜５の整数、ｍ^２、ｍ^３及びｍ^５は０〜４の整数、Ｘ⁻は一価の多原子アニオン〕 （もっと読む）

【課題】 露光ラチチュード（ＥＬ）及び現像欠陥性能に優れたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により下記一般式（ＬＤ）により表される部分構造を備えた酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、前記膜を露光することと、前記露光された膜を、濃度が２．３８質量％未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することとを含んでいる。
【化１】
（もっと読む）

式１の化合物
【化１】


（式中、
ＱはＯまたはＳであり；
Ｚ¹およびＺ²は、各々独立してＣＲ⁹またはＮであり；ならびに
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸およびＲ⁹は、本開示において定義されているとおりである）
そのＮ−オキシドおよび塩が開示されている。
また、式１の化合物を含有する組成物、および、有効量の本発明の化合物または組成物を適用するステップを含む真菌性病原体により引き起こされる植物病害を防除する方法もまた開示されている。
（もっと読む）

【課題】この樹脂をレジスト組成物に用いることにより、優れたＣＤ均一性を有するパターンを得ることを目的とする。
【解決手段】樹脂、式（１）及び式（２）で表される酸発生剤を含むレジスト組成物。


［式（１）及び（２）中、Ｑ^１〜Ｑ^４はそれぞれ独立にＦ又はＣ_1-6ペルフルオロアルキル基；Ｘ^１及びＸ^２は、単結合又は２価のＣ_1-17飽和炭化水素基；Ｙ^１はアルキル基で置換されていてもよいＣ₃₋₃₆飽和環状炭化水素基；Ｙ^２は、少なくとも１つのＨがヒドロキシ基又はＣ_１−6ヒドロキシアルキル基で置換されているＣ₃₋₃₆飽和環状炭化水素基、Ｃ₃₋₃₆ラクトン／Ｃ₃₋₃₆環状ケトン／Ｃ₃₋₃₆スルトン骨格を有する環状基；Ｐ^１〜Ｐ^３は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいＣ₃₋₃₆芳香族炭化水素基／Ｃ_１−６脂肪族炭化水素基を表し、Ｐ^１〜Ｐ^３のうちの２つが互いに結合して環を形成してもよい。］ （もっと読む）

【課題】殺虫剤として優れた防除効果を示し、又他の殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、除草剤、植物成長調節剤、生物農薬などと混合使用することによっても優れた防除効果を示す殺虫剤を提供する。
【解決手段】式（１）の化合物、これを有効成分として含有する殺虫剤、及び製造方法。


{A１、A2、A3、A4は炭素、窒素又は酸化された窒素、R1は置換されていても良いC1-C6アルキル基、フェニル基、複素環基、R2、R3は、水素、置換されていても良いC1-C4アルキル基、C1-C4アルキルカルボニル基、G1、G2、G3は、酸素又は硫黄、Xは、水素、ハロゲン、置換されていても良いC1-C4アルキル基、アミノ基、ｎは０〜４の整数、Qは、置換されていても良いフェニル基、ナフチル基、テトラヒドロナフチル基、複素環基} （もっと読む）

【課題】高い殺虫効果を有するアミド誘導体と該アミド誘導体を含有する有害生物防除剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


｛Ａは、炭素原子、酸素原子、窒素原子、または硫黄原子を示し、Ｋは、Ａと、Ａが結合する２個の炭素原子と共に、５員または６員の芳香族環を形成するのに必要な原子群を示し、Ｚは−Ｃ（＝Ｇ_１）Ｑ_１、−Ｃ（＝Ｇ_１）Ｇ_２Ｒ_３（式中、Ｇ_１、Ｇ_２は酸素原子などを示し、Ｑ_１、Ｒ_３は置換フェニル基、置換複素環基、アルキル基、ハロアルキル基などを示す。）などを示し、Ｘはハロゲン原子、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアルキルスルホニル基などを示し、ｎは０〜３の整数を示し、Ｇ_３は酸素原子などを示し、Ｑ_２は置換フェニル基、置換ピリジル基などを示し、Ｒ_１、Ｒ_２は水素原子、アルキル基等を示す。｝で表されるアミド誘導体およびこれを有効成分として含有する有害生物防除剤である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、カルボキシル基を有するアミノ化合物、チオカルボニルジイミダゾール及び塩基との反応により、対応するカルボキシル基を有するイソチオシアナト化合物を１工程で高純度で製造する新規な工業的製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 カルボキシル基を有するアミノ化合物を、溶媒中、塩基存在下、チオカルボニルジイミダゾールと反応させることで、カルボキシル基を有するイソチオシアナト化合物を得る。 （もっと読む）

【課題】ロタマーゼの阻害のための新規化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）、（II）、（III）、（IV）、（Ｖ）の化合物およびその医薬としての使用。
（もっと読む）

【課題】優れた形状を示すパターンを形成し得る化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩及び、特に、液浸露光に好適に用いられ、欠陥の発生が少ない化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ａ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、Ｆ原子又はＣ１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、−［ＣＨ_２］_ｋ−を表し、ｋは、１〜１８の整数；Ｘ^２は、単結合、直鎖状又は分岐状のＣ１〜１２の脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基等；Ｙ^１は、Ｃ３〜３６の脂環式炭化水素基；−Ｘ^２−Ｙ^１基は、少なくとも１つのＦ原子を含む；Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）