Fターム[4H049VQ21]の内容
第4族元素を含む化合物及びその製造 (22,055) | 第4族元素含有化合物上の結合又は基(目的化合物) (4,225) | O含有基(非環式) (940) | −O−基(例;M*−CH2OCH2Ph)(−OH基以外のもの) (529) | M*−O−結合を持つもの (422) | M*−O−(無置換アルキル基)結合を持つもの (259)
Fターム[4H049VQ21]に分類される特許
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ジアルキルスズジアルコキシド
【課題】熱変性しにくいジアルキルスズジアルコキシドを提供すること。
【解決手段】本発明は、下記式(1)で表される新規なジアルキルスズジアルコキシドである。
【化1】
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ジアルキルスズジアルコキシド
【課題】熱変性しにくいジアルキルスズジアルコキシドを提供すること。
【解決手段】本発明は、下記式(1)で表される新規なジアルキルスズジアルコキシドである。
【化1】
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有機シラン化合物、それを含むSi含有膜形成材料、製造方法および用途
【課題】新規なSi含有膜形成材料、殊にPECVD装置に適したアルキルシラン化合物を含んでなるSi含有膜形成材料を提供する。
【解決手段】少なくとも一つのシクロプロピル基がケイ素原子に直結した構造を有する有機シラン化合物(具体的例示:2,4,6−トリシクロプロピル−2,4,6−トリメチルシクロトリシロキサン)を含有するSi含有膜形成材料を用いてPECVD法によりSi含有膜を製造し、それを半導体デバイスの絶縁膜として使用する。
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テトラアルキルジアルコキシジスタンオキサン
【課題】ジアルキルスズアルコキシド製造の際あるいはテトラアルキルジアルコキシジスタンオキサンを反応触媒として使用する際にトリアルキルスズ化合物が副生するという欠点を補った、熱変性しにくいテトラアルキルジアルコキシジスタンオキサンの提供。
【解決手段】ジアルキルスズオキシドとアルカノールとを反応させる方法で好適に得られる脱水平衡反応生成物であるテトラアルキルジアルコキシジスタンオキサン。ジブチルスズオキシドと2−イソプロポキシ−エタノールとの反応で得られるテトラブチル−ビス−(2−イソプロポキシ−エトキシ)−ジスタンオキサンが提示される。
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ジアルキルスズジアルコキシド
【課題】熱変性しにくいジアルキルスズジアルコキシドを提供すること。
【解決手段】本発明は、下記式(1)で表される新規なジアルキルスズジアルコキシドである。
【化1】
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ジアルキルスズジアルコキシド
【課題】熱変性しにくいジアルキルスズジアルコキシドを提供すること。
【解決手段】本発明は、下記式(1)で表される新規なジアルキルスズジアルコキシドである。
【化1】
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ジアルキルスズジアルコキシド
【課題】熱変性しにくいジアルキルスズジアルコキシドを提供すること。
【解決手段】本発明は、下記式(1)で表される新規なジアルキルスズジアルコキシドである。
【化1】
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テトラアルキルジアルコキシジスタンオキサン
【課題】熱変性しにくいテトラアルキルジアルコキシジスタンオキサンを提供すること。
【解決手段】新規なテトラアルキルジアルコキシジスタンオキサンであって、代表例はテトラブチル−ビス(2−エチルヘキシルオキシ)ジスタンオキサンである。製法はジアルキルスズオキシドとアルコールを原料とする脱水縮合であるが該化合物を出発物質としても、触媒としても用いることができる。
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テトラアルキルジアルコキシジスタンオキサン
【課題】ジアルキルスズアルコキシド製造の際あるいはテトラアルキルジアルコキシジスタンオキサンを反応触媒として使用する際にトリアルキルスズ化合物が副生する欠点を補った、熱変性しにくいテトラアルキルジアルコキシジスタンオキサンの提供。
【解決手段】ジアルキルスズオキシドとアルカノールとを反応させる方法で、好適に得られる脱水平衡反応生成物であるテトラアルキルジアルコキシジスタンオキサン。ジブチルスズオキシドとn−ペンタノールとの反応で得られるテトラブチル−ビス(n−ペンチルオキシ)−ジスタンオキサンが提示される。
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含フッ素ケイ素化合物、シリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法
【解決手段】一般式(1)で表される含フッ素ケイ素化合物。
(X1、X2、X3は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、又は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Yは二価の有機基を表す。R1、R2はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。R1、R2は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。)
【効果】本発明は、膨潤によるパターン崩壊を極力抑制して微細パターン形成を可能とする適度な酸性を有し、かつ、有機膜へのパターン転写の際のエッチング条件に対し優れたエッチング耐性を実現するために必要十分な数のフッ素置換によりこの適度な酸性を実現するケイ素化合物とシリコーン樹脂を提供し、このため、特にArF露光における二層レジストの原料として好適である。
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低黄変性シリル化剤、それを用いたウレタン系樹脂、及びウレタン系樹脂組成物
【課題】 反応性珪素基含有ウレタン系樹脂において、経時、熱暴露あるいは光暴露後の樹脂又は組成物自体の黄変を抑えること。
【解決手段】 その分子内に反応性珪素基及び第二級アミノ基を有するシラン化合物であって、該アミノ基の一方のβ位炭素上に少なくとも一つの炭素数6以下の炭化水素基を有し、かつ他方のβ位炭素上にカルボニル基、カルボキシル基、ニトリル基、又はアミド基を有するシラン化合物を用い、ウレタン系樹脂に加水分解性珪素基を導入する。
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新規な反応試剤およびその製造方法
【課題】 末端にトリアルコキシシリル基が結合した多様な有機シリル化合物の合成を可能とする新規な反応試剤およびその簡便かつ高収率な製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式(2)
(R1〜R3は低級アルキル基、Xはハロゲン原子)で表わされるハロゲン化ベンジル類を、 一般式(3)
(R4は低級アルキル基)で表わされるホスファイト類と反応させることを特徴とする新規な反応試剤の製造方法。
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α−アミノケトンの製法
【課題】 収率と不斉収率の高い光学活性α-アミノケトンの合成方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、例えば、下式
【化22】
で示すように、溶液中でシリルエノールエーテル化合物4bとヨーディナン化合物2bをロジウム触媒の存在下で反応させることからなるα−アミノケトン5bの製法である。この反応を利用することにより、メタゾシン等のベンゾモルファン化合物を合成することができる。
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有機金属化学蒸着法用原料及び該原料を用いた金属含有膜の製造方法
【課題】低温条件での成膜に優れ、安定した成膜が可能であり、かつ段差被覆性に富んだ薄膜を形成することができる。
【解決手段】本発明のMOCVD法用原料は次の式(1)で示される有機金属化合物を用いたことを特徴とする。
【化10】
但し、Mは2価のPb、4価のPb、4価のZr又は4価のTiであり、R1及びR2は炭素数1〜4の直鎖又は分岐状アルキル基であってR1とR2は互いに同一でも異なっていてもよく、R3は炭素数2〜4の直鎖又は分岐状アルキル基であり、Mが2価のPbであるときnが2でかつmが2であり、Mが4価のPbであるときnが2でかつmが0であり、Mが4価のZr、4価のTiであるときnが4でかつmが4であるか或いはnが2でmが0である。
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新規な有機シリル化合物、およびその製造方法
【課題】 末端にトリアルコキシシリル基が結合した非対称構造の新規な有機シリル化合物およびその簡便かつ高収率な製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式(2)
【化2】
(式中、Xは芳香環または複数の芳香環が直接または炭素系2重結合もしくは炭素系3重結合を介して結合した構造を表し、Xは置換されていなくてもよく、またはアルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、フェニル、フェニルエチニル、アルコキシアルキル、およびフェノキシアルキルからなる群から独立して選択される置換基で置換されていてもよい)で表わされる芳香族アルデヒド類を、
一般式(3)
【化3】
(式中、R1〜R4はC1〜C6の低級アルキル基を表わし、R1〜R4は同一であっても異なってもよい)で表わされるウィティッヒ反応試剤と塩基の存在下で反応させることを特徴とする非対称構造の有機シリル化合物の製造方法。
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光分解性カップリング剤
【課題】同一分子内に異なる反応性基を備えるヘテロ二価性のカップリング剤であって、両反応性基の間を容易に分解することが可能な新規な光分解性カップリング剤を提供する。
【解決手段】加水分解性シリル基、アミン反応性基、及びチオール反応性基からなる群から選択される2つの異なる反応性基を備え、この両反応性基の間に光分解性基を含む光分解性カップリング剤を形成する。具体的には、一方の末端に加水分解性シリル基を有し、他方の末端にアミン反応性基又はチオール反応性基を有し、これら両末端基の間に光分解性基を含む光分解性カップリング剤、又は、一方の末端にアミン反応性基を有し、他方の末端にチオール反応性基を有し、これら両末端基の間に光分解性基を含む光分解性カップリング剤を形成する。
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エナミン油およびその製造方法
本発明は、一般式(E1)xZ−Y−C(O)−CR4=C(CH2R4)−NR2−R1−(I)の、少なくとも1のSi結合基を有する有機ケイ素化合物であって、アミノケイ素化合物(2)と、一般式(E2)xZ−Y−C(O)−CR4=C(CH2R4)−OH(II)または(E2)xZ−Y−C(O)−CHR4−C(O)−CH2R4(III)[前記式中、R1は、1もしくは複数のN原子を有していてよい有機基であり、R2は、水素基であるか、または1〜30個のC原子を有する有機基であり、R4は、水素基であるか、または1〜18個のC原子を有する炭化水素基であり、Yは、OまたはNR2であり、Zは、モノマー、オリゴマーもしくはポリマーの構造を有する二官能性〜六官能性の有機基であり、これはC原子を介して結合しているヘテロ原子を少なくとも10質量%含有しており、E1は、単官能性の末端基であるか、または一般式−Y−C(O)−CR4=C(CH2R4)−NR2−R1−のSi−C−結合した基であり、E2は、単官能性の末端基であるか、または一般式−Y−C(O)−CR4=C(CH2R4)−OHもしくは−Y−C(O)−CHR4−C(O)−CH2R4の基であり、xは、1〜5の整数である]の化合物との反応により製造することができる、有機ケイ素化合物に関する。 (もっと読む)
1,2−ジメルカプトエチルシリル化合物の製造方法
【課題】1,2−ジメルカプトエチルシリル化合物を、汎用原料から効率良く製造することができる方法を提供する。
【解決手段】
一般式(1);
【化1】
(式中、R1、R2、R3は、それぞれ独立に炭素数1〜2のアルキル基またはアルコキシ基を示す。ただし、少なくとも1つはアルコキシ基である。R4、R5は、それぞれ独立に炭素数1〜3のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を示す。)で表されるシリル化合物と還元剤を、アルコール溶媒中で反応させることを特徴とする一般式(2);
【化2】
(式中、R1、R2およびR3は前記と同様である。)で表される1,2−ジメルカプトエチルシリル化合物の製造方法。
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有機金属化合物の精製方法及び該方法により得られた有機金属化合物を用いた金属含有膜の製造方法
【課題】有機金属化合物に不純物として含まれる副生成物を低減できる。
【解決手段】副生成物を不純物として含む有機金属化合物を有機溶媒に溶解して第1溶解液を調製し、第1溶解液の溶媒と同一種類の溶媒を第1移動相として第1分離カラムに通過させ、第1移動相の通過に随伴して第1溶解液を第1分離カラムに供給して第1溶解液中の化合物成分を分子量の大きさごとに分離し、分離した各成分を分取する。分取した成分のうち、その分子量が有機金属化合物に相当する成分を濃縮乾燥する。得られた固形分を第1溶解液の溶媒と同一又は異なる種類の溶媒に溶解して第2溶解液を調製し、第2溶解液の溶媒と同一種類の溶媒を第2移動相として第2分離カラムに通過させ、第2移動相の通過に随伴して第2溶解液を酸素ガスとともに第2分離カラムに供給して第2溶解液中に含まれる化合物成分を分子量の大きさごとに分離し、分離した各成分を分取する。
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光学活性高分子化合物および高分子発光素子
【課題】発光素子等の材料として有用な新規な高分子化合物を提供することにある。
【解決手段】下式(1)で示される繰り返し単位を主鎖中に含み、ポリスチレン換算の数平均分子量が103〜108である光学活性高分子化合物を提供するものである。
〔式中、R2はアルキル基または置換基を有するシリル基を表し、R3は水素原子またはアルキル基を表す。2個のR2および2個のR3はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。*は不斉炭素原子を意味する。〕
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