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Fターム[4J002CP01]の内容

Fターム[4J002CP01]に分類される特許

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【課題】
本発明は、立体的にかさ高い側鎖基、キラル分子と静電的相互作用をしうる光学不活性な側鎖基を有さない高分子を用いて、特別な重合触媒を必要とすることなく、簡便に所望のらせん巻き性を有する光学活性高分子微粒子を製造する方法を提供する。
【解決手段】
本発明者らは、光学不活性高分子に添加する光学活性低分子の量を変化させると、それに応じて、主鎖吸収が長波長化し、キラリティが反転することを見出した。この知見に基づき、光学不活性高分子と光学活性低分子との混合比を調節することによって、所望の光学活性高分子構造を簡便に構築する方法を確立した。本発明によれば、所望の光学活性高分子微粒子を簡便に製造することができる。 (もっと読む)


硬化性組成物は、(i)ポリシラン、(ii)脂環式エポキシド、(iii)陽イオン塩光開始剤、(iv)導電性充填剤、及び任意に(v)接着促進剤を含有する。導電性フィルムは、硬化性組成物をUV硬化させることにより得ることができる。これらの導電性フィルムは、エレクトロルミネセントランプの製造における使用を含む広域の用途を有する。 (もっと読む)


【課題】 エンジニアリングプラスチックなどの樹脂の溶融成形における流動性を向上又は改善する。
【解決手段】 樹脂(例えば、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ(チオ)エーテル系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリケトン系樹脂、ポリイミド系樹脂、超高分子量ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂などの熱可塑性樹脂)に、ポリシラン化合物で構成された改質剤を添加する。前記ポリシラン化合物は、例えば、ポリアルキルアリールシラン(ポリメチルフェニルシランなど)、ポリジアリールシラン(ポリジフェニルシランなど)などであってもよい。前記改質剤は、樹脂100重量部に対して、例えば、0.1〜50重量部程度の割合で樹脂に添加できる。 (もっと読む)


少なくとも一種のカチオン性架橋でんぷんおよび有機もしくは無機成分またはそれらの混合物を含む組成物を開示する。有機化合物の範囲内に含まれるのは、任意の官能化された有機化合物、例えば、重合可能な有機化合物, 非重合可能な有機化合物, 有機ポリマー, またはそれらの混合物である。無機成分の範囲内に含まれるのは、無機金属, または無機化合物である。 組成物は、種々の用途 、例えば、セルロース系製品, コーティング, ペイント, 等用に適している。また、組成物を製造する方法も開示する。 (もっと読む)


複合材料は、ポリマーマトリックス、重合剤、および該重合剤用の相応する活性化剤を含有する複数のカプセルを含む。また、上記複合材料は、接着促進剤も含み得、上記重合剤は上記ポリマーマトリックスから相分離し得る。上記複合材料は、上記重合剤およびカプセルをポリマーマトリックスに分散させることによって製造し得る。これらの複合材料は、改良された環境安定性を示し得、広範囲の活性化剤と一緒に使用し得る。 (もっと読む)


インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2−b]ピラン構造のフォトクロミック材料が記載される。このフォトクロミック材料は、11位の環原子に窒素含有置換基または硫黄含有置換基を有し、13位にスピロ置換基を実質的に含まず、そしてインデノナフトピランフォトクロミック性能試験において測定される場合、感受性、可視λmaxまたはそれらの組み合わせの増大を提供するように適合されていることを特徴とする。任意の置換基が、インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2−b]ピラン構造のもう1つの位置に存在し得る。新規フォトクロミック材料、または他のフォトクロミック材料とのこれらの組み合わせのうちの少なくとも1つを含有するコーティングを含むかもしくは有する、フォトクロミック材料およびフォトクロミック物品を製造するために使用されるナフトールもまた、記載される。 (もっと読む)


【課題】 希土類金属又は/及び第4周期遷移金属が高濃度でドープされてなり、かつ特定の波長または波長帯に対する光の透過率または吸光度が制御された調光光学要素を提供すること。
【解決手段】調光光学要素に用いられる希土類金属又は/及び第4周期遷移金属含有有機無機複合体は、少なくとも1種の希土類金属又は/及び第4周期遷移金属が、有機重合体中に分散されてなる複合体であって、希土類金属又は/及び第4周期遷移金属(1)と、これに酸素を介して他の金属種(2)が配位してなる無機分散相と、光学的に透明な有機重合体とを含む複合体によって形成されている。希土類金属と、これに酸素を介して他の金属種が配位してなる無機分散相の直径は0.1〜1000nmであることが好ましい。希土類金属の割合は、固形分換算で、有機重合体および希土類金属又は/及び第4周期遷移金属分散相の総量の90重量%以下であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】新規な粒状充填剤の処理方法。
【解決手段】シランと充填剤を接触させる方法であって、加水分解時に実質的に有意な量の揮発性有機化合物及び/又はシラン加水分解物が生じない方法である。またそれにより得られた、処理された充填材をマトリックスに取り込ませてコンポジット基材を調製できる。 (もっと読む)


【課題】 硬化触媒として重金属化合物を含まず、硬化速度が速い硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
分子内に下記式(1)で表される基を有する硬化性樹脂(A)、ルイス酸及びその誘導体から選ばれる一種以上の化合物(B)を含有してなる硬化性樹脂組成物である。
【化1】


但し、Xはメトキシ基を、Rは炭素数1〜20個のアルキル基を、nは1を、それぞれ示す。 (もっと読む)


【課題】 屈折率が低いだけでなく、耐アルカリ性に優れた低屈折率膜を提供する。
【解決手段】 シリカ粒子と、下記の一般式(1)で示されるポリシランとを含有し、シリカ粒子100重量部に対しポリシランが100重量部以下の割合で配合されていることを特徴とする低屈折率膜。
【化1】


なお、式中、R1、R2、R3、及びR4は、それぞれが置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及び極性基並びに水素からなる群からそれぞれ独立して選択される基である。m及びnは整数。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤を含有するアンカーコート剤のコーティング工程が不要となり、成形加工性に優れ、ポリエステル、アルミニウム箔などの基材との接着性に優れたエチレン系樹脂組成物、および積層体を提供することに関する。
【解決手段】JIS K6922−1(1997年)で測定したメルトマスフローレイトが0.1〜50g/10分、JIS K6922−1(1997年)で測定した密度が860〜970kg/mであるエチレン系重合体100重量部に対し、1分子内にエポキシ基及び/又はメルカプト基、及びアルコキシ基を有しかつ珪素原子を少なくとも2個以上有するシランオリゴマー0.01〜2重量部配合してなるエチレン系樹脂組成物を得、積層体の成形に用いる。 (もっと読む)


本発明は、a)、a1)〜a6)を有するポリマー、
a1)酢酸ビニルモノマー単位50〜90質量部、
a2)2〜20個の炭素原子を有するα−分枝状モノカルボン酸のビニルエステルのビニルエステルモノマー単位5〜50質量部、
a3)1〜15個の炭素原子を有するアルコールの(メタ)アクリル酸エステルモノマー単位1〜30質量部、
a4)10〜20個の炭素原子を有する長鎖モノカルボン酸のビニルエステルモノマー単位0〜40質量部、
a5)エチレン単位0〜20質量部、および場合により
a6)他の補助モノマー単位、その際質量部の表示は合計して100質量部になる、
b)1種以上の水溶性保護コロイド0.5〜30質量%、
c)有機珪素化合物0〜20質量%、
d)脂肪酸または脂肪酸の誘導体0〜20質量%、
e)アンチブロック剤0〜30質量%、その際質量%の表示はポリマーa)の全質量に関する、
を含有する、水に再分散可能な疎水性ポリマー粉末に関する。 (もっと読む)


【課題】 ポリフェニレンエーテル樹脂とポリプロピレン樹脂を主成分とし、外観、機械的強度、耐溶剤性が良好で、特に耐熱老化性に優れた熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ポリフェニレンエーテル樹脂(A)5〜95重量%、ポリプロピレン樹脂(B)95〜5重量%からなる樹脂成分100重量部に対し、相溶性改良剤(C)を1〜50重量部配合した熱可塑性樹脂組成物であって、ポリフェニレンエーテル樹脂(A)の銅含有率が0.2ppm以下で、固有粘度が0.3〜0.6dl/gであることを特徴とする熱可塑性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 半導体装置等の電子デバイスに用いられるエッチング/アッシング後のシロキサン系絶縁層のダメージを修復することを目的とした表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を得る。
【解決手段】 (A)ポリシランと、(B)有機溶媒を含む、表面疎水化用組成物。(A)下記一般式(1)で表わされる化合物の群から選ばれた少なくとも1種のポリシランと、(B)有機溶媒を含む、表面疎水化用組成物、および該組成物を用いた表面疎水化方法、半導体装置。


[式中、R1,R2は水素原子、アルキル基、ビニル基、アリル基またはフェニル基を示す(ただし、R1,R2のうち水素原子は1個または0個である)。] (もっと読む)


【課題】 半導体装置等の電子デバイスに用いられるエッチング/アッシング後のシロキサン系絶縁層のダメージを修復することを目的とした表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を得る。
【解決手段】 (A)ケイ素原子と炭素原子とが交互に連続してなる主鎖を有するポリカルボシラン化合物と、(B)有機溶媒とを含む表面疎水化用組成物。 (もっと読む)


【課題】 酸素吸収性能に優れた酸素吸収材料およびこれを用いた積層体、ならびに酸素吸収性能に優れ、内容物の保存性に優れた包装体を提供すること。
【解決手段】 酸素吸収性組成物および酸素吸収材料は、エネルギー線照射により酸化触媒作用を示す遷移金属元素、該遷移金属元素の触媒作用により酸素と反応して酸化される易酸化基、およびケイ素を含有する。積層体は、上記酸素吸収材料から形成された酸素吸収層と、ガスバリアー層、ヒートシール層、接着層および形状保持層から選ばれる少なくとも1種の層とを含む。包装体は、上記積層体からなる。 (もっと読む)


本発明は透明なポリマーブレンドを含有するポリマー組成物に関する。ポリマーブレンドは第一の樹脂及び第二の樹脂を含有する。第一の樹脂は式I(式中、Rは各々独立にC−C12アルキル基又はハロゲン原子を示し、pは0〜3である)のポリアリーレート構造単位を含む。第二の樹脂はポリカーボネート、ポリアリーレート及びコポリエステルカーボネートからなる群から選択される。第一の樹脂及び第二の樹脂はポリアリーレート構造単位含量の差で区別される。 (もっと読む)


本発明はアクリレートベースの有機ケイ素化合物を含有する組成物に関し、その際、該組成物は少なくとも1のアクリレート以外に、(i)少なくとも1のアミノアルキル−、アルコキシ−、場合によりアルキル−および場合によりヒドロキシ官能性のシロキサン、(ii)少なくとも1の3−(4,5−ジヒドロイミダゾリル)プロピルトリアルコキシシランまたは3−(4,5−ジヒドロイミダゾリル)プロピルトリアルコキシシランの反応生成物、(iii)場合により1もしくは複数のオルガノアルコキシシラン、(iv)場合により成分(i)、(ii)および/または(iii)から出発する少なくとも1の反応生成物、および(v)場合により存在するアクリレート成分と、群(i)、(ii)および(iii)からの少なくとも1の成分との少なくとも1の反応生成物を含有する。本発明はさらに、該組成物を製造する方法およびこれらの使用、特に放射線硬化性、溶剤不含の印刷インクとしての使用に関する。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも2つのドライブレンドされた非溶融加工性樹脂微粒子を含む樹脂ブレンドであって、該少なくとも2つのドライブレンドされた非溶融加工性樹脂微粒子は圧縮成形によって成形される樹脂ブレンドに関する。本発明はまた、少なくとも2つの非溶融加工性樹脂微粒子をドライブレンディングによって混合する工程と、該混合物を圧縮成形によって成形する工程とを含む樹脂ブレンドの製造方法にも関する。本発明の別の態様は、少なくとも2つのブレンドされた非溶融加工性ポリイミド樹脂微粒子を含む樹脂ブレンドであって、該少なくとも2つのブレンドされた非溶融加工性樹脂微粒子は圧縮成形によって成形される樹脂ブレンドである。 (もっと読む)


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