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Fターム[4J033CD05]の内容

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【課題】高い植物由来率をもち、硬度、破断強度及び破断伸びに優れた加硫物を与え得る混練性良好なゴム組成物が得られる固形レゾール型バイオマスフェノール樹脂を提供する。また、硬度、破断強度及び破断伸びに優れた加硫物が得られるゴム組成物を提供する。
【解決手段】本発明の固形レゾール型バイオマスフェノール樹脂は、植物由来率が30質量%以上、かつ重量平均分子量が10,000以上であることを特徴とする。本発明のゴム組成物は、上記レゾール型バイオマスフェノール樹脂と、ゴムとフィラーとを含有する。 (もっと読む)


【課題】優れたエッチング耐性、高い耐熱性等を有するレジスト下層膜を形成する。
【解決手段】一般式(1)で表されるビフェニル誘導体。


(Ar1、Ar2はベンゼン環又はナフタレン環を表す。x、zはそれぞれ独立に0又は1を表す。) (もっと読む)


【課題】ノボラック型フェノール樹脂の性能を変えることなく、樹脂中の残留モノマー成分をppmオーダーまで低減する製造方法を提供する。
【解決手段】フェノール類とアルデヒド類を酸触媒存在下で反応させた後、前記フェノール類のモノマーの沸点よりも高い沸点を有する溶剤を添加し、それを加熱処理することを特徴とするノボラック型フェノール樹脂の製造方法。 (もっと読む)


【課題】半導体やLCDを製造する際のリソグラフィーに使用されるフォトレジスト用として、高耐熱、高感度、高残膜率、高解像度なフォトレジストの製造を可能にするノボラック型フェノール樹脂を提供すること。
【解決手段】m−クレゾール及び/又はp−クレゾールを含有する1価フェノール成分(a)と、2価フェノール類び/又は3価フェノールを含有する多価フェノール成分(b)と、アルデヒド成分(c)とを反応して得られるノボラック型フェノール樹脂であって、1価フェノール成分(a)と多価フェノール成分(b)の質量割合(a)/(b)が99/1〜50/50であり、アルデヒド成分(c)が、ポリアルデヒド(c1)及びホルムアルデヒド(c2)を含有し、アルデヒド成分(c)における、ポリアルデヒド(c1)とホルムアルデヒド(c2)とのモル比(c1)/(c2)が5/95〜95/5であることを特徴とするノボラック型フェノール樹脂。 (もっと読む)


【課題】埋め込み特性、優れたエッチング耐性を有し、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、ベーク中のアウトガスの発生を抑制でき、エッチング中によれが生じないレジスト下層膜を形成できる高分子化合物の提供。
【解決手段】一般式(1)で表されるナフタレン誘導体。
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【課題】強化繊維への含浸性に優れ、更に、硬化物の耐熱性、機械物性にも優れた繊維強化複合材料用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】フェノールノボラック樹脂とエピハロヒドリンとを反応させて得られるエポキシ樹脂と硬化剤とを含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物において、前記フェノールノボラック樹脂が該2核体のフェノールノボラック樹脂と4核体のフェノールノボラック樹脂とを、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法で測定されたクロマトグラムの面積比率でそれぞれ4〜20%、9〜25%含有し、且つ、4核体のフェノールノボラック樹脂の面積比率(4)と2核体のフェノールノボラック樹脂の面積比率(2)との比〔(4)/(2)〕が、0.4〜2.5となる範囲で含有するフェノールノボラック型樹脂(A)であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物 (もっと読む)


【課題】高純度のビスフェノールFとハンドリングや耐熱性等の物性のバランスに優れるノボラック型フェノール樹脂を併産方法を提供する。
【解決手段】フェノールとビスフェノールFとノボラック型フェノール樹脂との混合物(1)を得る第一工程、
混合物(1)に対して薄膜蒸留とスチーム蒸留を行い、ビスフノェールFとノボラック型フェノール樹脂との混合物(2)を得る第二工程、および
薄膜伝面熱媒温度が200〜250℃、蒸留機出口圧力が0.1〜3mmHgに保たれた薄膜蒸留器へ混合物(2)を該薄膜の伝面1cmあたり8〜20g/hrの供給量となるように供給し蒸留することにより、混合物(2)から留出物としてビスフェノールFを得、缶出物としてノボラック型フェノール樹脂とを得る第三工程
を含有するビスフェノールF及びノボラック型フェノール樹脂の併産方法。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィーで用いられる少なくとも3層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる少なくとも3層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、ビスナフトール基を有する化合物を含有するレジスト下層膜材料を基板上にコーティングし、該コーティングしたレジスト下層膜材料を300℃を超え、600℃以下の温度で、10秒〜600秒間の範囲で熱処理して硬化させることを特徴とするレジスト下層膜形成方法。 (もっと読む)


【課題】原料として一般的な(安価に入手可能な)原料を用いて、溶解性に優れ、且つ、剛直な構造を有する新規アゾメチン樹脂を提供すること。
【解決手段】下記式(1)で表される構造を有する新規アゾメチン樹脂。
【化1】


(式中、R1〜R3は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数5以下のアルキル基を示し、nは、1〜20の整数を示す。ここで、ベンゼン環への置換基はメタ配置を含む。) (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、製造上の安全性や利便性が高く、重金属などの不純物の含有率が低く、炭化する場合に混在する微粒子との又は球形粒同士の熱融着がなくかつ、ブロッキングが抑制されたフェノール樹脂の球形粒子を提供することある。
【解決手段】
フェノール類、アルデヒド類及びアミン系反応触媒を乳化分散剤の存在下に水に均一に混合乳化分散して常圧下及び/又は1.3kg/cm未満の加圧下に水の沸点以下の温度で加熱縮合反応させ、反応終了後乳化分散剤を水洗除去し、水洗した未硬化の球状フェノール樹脂を高沸点溶媒中に分散し攪拌しつつ高沸点溶媒の沸点まで昇温加熱し完全硬化させることにより球状活性炭及び球状カーボンに適したフェノール樹脂の球形粒子を製造する。 (もっと読む)


【課題】化学増幅型ポジ型レジスト膜の成膜に好適に用いることができ、電子線又は極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネスの発生を抑制することができる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】(a)下記一般式(1)で表される化合物と、(b)下記一般式(2)で表される感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性組成物である。
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【課題】接着剤として有用なレゾルシン/ホルムアルデヒド/脂肪族ケトン樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】水、塩類及び酸性触媒の存在下、必要に応じて反応に不活性な有機溶剤の存在下に、レゾルシンとホルムアルデヒド類と炭素数3〜6の脂肪族ケトンを反応させることを特徴とするレゾルシン/ホルムアルデヒド/脂肪族ケトン樹脂の製造方法。
並びに
以下の4つの工程を含むことを特徴とする前記の製造方法。
(第一工程)
水、塩類及び酸性触媒の存在下、必要に応じて反応に不活性な有機溶剤の存在下に、レゾルシンとホルムアルデヒド類と炭素数3〜6の脂肪族ケトンを反応させる工程
(第二工程)
第一工程で得られた反応液をアルカリで中和する工程
(第三工程)
第二工程で得られた中和後の反応液を有機相と水相に分離する工程
(第四工程)
第三工程で得られた分離後の有機相を濃縮する工程 (もっと読む)


【課題】粘着性能の改善されたアルキルフェノール樹脂およびそれを用いて得られるゴムを提供。
【解決手段】式(1)


(式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表す)で示される、ベンゾジオキサン系化合物を含有するアルキルフェノール樹脂を用いる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、より優れた耐熱性と強度を有するカシューノボラック樹脂、その製造方法、および前記カシューノボラック樹脂を含むエポキシ樹脂用硬化剤を提供することを目的とする。
【解決手段】弱酸性触媒の存在下、カシューナット殻液、必要により他のフェノール樹脂、およびアルデヒド類とを反応して得られる、数平均分子量が2000以上で、かつ150℃の溶融粘度が500mPa・s以下であるカシューノボラック樹脂。カシューナット殻液などにアルデヒド類を逐次的に添加する際、系内の水分を除去しつつ反応すると好ましい。このカシューノボラック樹脂はエポキシ樹脂用硬化剤として有用である。 (もっと読む)


【課題】未反応フェノール類の含有率が低く、かつ高分子量でオルソ−オルソ結合を多く含むハイオルソノボラック樹脂を提供すること。
【解決手段】フェノール類と弱酸性触媒および有機溶剤の存在下、アルデヒド類を逐次的に添加すると共に、系内の水分を除去しつつ反応させることを特徴とする高分子量ハイオルソノボラック樹脂の製造方法。さらに未反応フェノール類の減圧蒸留による除去工程が設けられ、当該除去工程における蒸留温度が180℃以下で、かつ真空度が6666
Paabs(50mmHgabs)以下とする。
本発明方法で得られる高分子量ハイオルソノボラック樹脂の全メチレン結合に対するオルソ−オルソ結合比率が75%以上である。 (もっと読む)


【課題】従来のPSA窒素発生装置と比較して大幅な高効率化を可能とする分子ふるい炭素およびその製造方法、ならびに該分子ふるい炭素を用いた窒素発生装置を提供する。
【解決手段】多数の炭素一次粒子が三次元的に不規則に重なり、かつ合体された構造を有し、該炭素一次粒子の平均粒径が10μm以下であり、かつ(炭素一次粒子径の標準偏差)/(炭素一次粒子の平均粒径)で示される炭素一次粒子の粒径分布の変動係数が0.65以下であり、粒子嵩密度が0.7〜1.2g/ccである分子ふるい炭素である。 (もっと読む)


【課題】耐熱性やプラズマ耐性に優れたノボラック型フェノール樹脂を提供する。
【解決手段】フェノール成分と架橋剤とが反応して得られるフェノール樹脂において、前記フェノール成分をフェノール性水酸基および縮合多環式炭化水素骨格を有する特定のフルオレン類(例えば、9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)フルオレン)で構成するとともに、前記架橋剤を特定の芳香族系架橋剤(キシリレングリコールなどの芳香族ポリオール成分、ベンズアルデヒドなどの芳香族アルデヒド成分など)で構成する。 (もっと読む)


【課題】数千ppbの金属イオンを含有すナフトールノボラックおよびその誘導体から、当該金属イオンの含有量を50ppb未満に低減しうる方法を提供する。
【解決手段】(1)ナフトールノボラックおよびその誘導体を有機溶剤に溶解して有機溶剤溶液を得るステップと、(2)前記有機溶剤溶液を酸性水溶液と接触させて有機層を回収するステップと、(3)前記有機層をイオン交換水と接触させてさらに有機層を回収するステップとをこの順で含み、前記(3)のステップを3回以上繰り返すナフトールノボラックおよびその誘導体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】ゴムに配合した場合、靭性や伸びの低下を招くことなくゴム配合物に高い機械的強度を付与することができる液状ゴム類によって変性されたゴム変性フェノール樹脂を提供する。
【解決手段】 液状ゴム類によって変性されたゴム配合用ゴム変性フェノール樹脂であって、前記液状ゴム類が、ジエン系ゴム、シリコーン系ゴム、ウレタン系ゴム、多硫化ゴムであることが好ましく、ジエン系ゴムがポリブタジエンであることが特に好ましい。前記変性フェノール樹脂における前記液状ゴム類の含有量は、前記変性フェノール樹脂全体に対して、1〜50重量%であることが好ましい。また、前記のゴム配合用ゴム変性フェノール樹脂を配合してなるゴム配合物である。 (もっと読む)


【課題】MEK変性レゾルシンホルマリン樹脂の製造に用いる特定原料(MEK、メタノール及び塩化カルシウム)の回収および再利用方法を提供し、更に製造工程の一部を改善することにより、MEK変性樹脂中の塩化カルシウム濃度を100ppm以下に管理し品質を安定化する方法の提供。
【解決手段】水溶媒中で原料のレゾルシン、回収塩化カルシウム水溶液、回収MEKを添加し、撹拌して2相系とし、塩酸触媒を添加後、反応系にホルマリンを滴下して液液不均一反応を進行させる。反応後、水洗及び蒸留を含めた密閉系リサイクル製造方法により、塩化カルシウム濃度が100ppm以下であり、レゾルシン単量体が3〜9%相当であり、レゾルシン5核体以上が30〜55%相当であるレゾルシンホルマリン樹脂水溶液を得る、特定原料(メタノール、塩化カルシウム、MEK)の回収および再利用が並行して行われるMEK変性レゾルシンホルマリン樹脂の製造方法。 (もっと読む)


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