光活性カチオン部分およびセグメント化された高度にフッ素化された炭化水素アニオン部分を含む光酸発生剤塩が開示され、光酸発生剤塩は高い光酸強度を提供し、溶解度および極性に関して調整することが可能である。本発明は、ミクロ平版印刷のためのフォトレジストおよび光重合のような用途のための光開始酸触媒プロセスにおいて用いられるような光酸発生剤に更に関連する。 （もっと読む）

半導体装置の製造に用いられる波長の光に良好な光吸収性を示し、高い反射光防止効果を持ち、フォトレジスト層と比較して大きなドライエッチング速度を有する反射防止膜のための反射防止膜形成組成物を提供する。具体的には、窒素原子上の置換基としてヒドロキシアルキル構造を有するトリアジントリオン化合物、オリゴマー化合物又は高分子化合物、を含むことを特徴とする反射防止膜形成組成物である。 （もっと読む）

【課題】散乱特性に異方性（前方か後方か、及び入射角度の依存性）を持たせ、縦横の散乱範囲に係る散乱特性までも制御することが容易であると共に、観察位置によって表示光の色が変化しない異方性光散乱フィルム及び組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも、（Ａ）熱可塑性樹脂と、（Ｂ）分子内に少なくともひとつのカチオン重合性基を有する化合物と、（Ｃ）化学放射線によってカチオン種を発生する光開始剤からなり、（Ａ）熱可塑性樹脂と（Ｂ）分子内に少なくともひとつのカチオン重合性基を有する化合物の屈折率に差がある組成物を用い、屈折率の異なる部分が不規則な形状・厚さで分布することにより、屈折率の高低からなる濃淡模様が形成されており、且つその屈折率の異なる部分がフィルムの厚さ方向に対して傾斜して層状に分布している構造である異方性光散乱フィルムを製造する。 （もっと読む）

【課題】 充分な耐熱性が得られ、タックが生ぜず、アルカリ水溶液で現像可能であり、かつレジスト用組成物として基本的な性能に優れ、保存安定性にも優れた、活性エネルギー線硬化型エポキシ（メタ）アクリレート 樹脂組成物およびその硬化物を提供すること。
【解決手段】 エポキシ（メタ）アクリレート樹脂（ａ１）と多塩基酸無水物（ａ２）及び２個以上のアルコキシメチロール基を有するアミノ化合物（ａ３）を反応させて得られる活性エネルギー線硬化型エポキシ（メタ）アクリレート 樹脂（Ａ）とエポキシ基を２個以上有する化合物（Ｂ）を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型エポキシ（メタ）アクリレート樹脂組成物、その硬化物。 （もっと読む）

【課題】ビニル付加ポリマー組成物、当該組成物の形成方法、エレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクスデバイスを形成するための当該組成物の使用方法を提供する。
【解決手段】ノルボルネン型モノマーから得られる二つ以上の種類の区別される型の反復単位を有する主鎖を持ったビニル付加ポリマーからなり、第一型の反復単位は、式１に表わされるグリシジルエーテル置換ノルボルネンモノマーから得られ、第二型の反復単位はアラルキル置換ノルボルネンモノマーから得られる。


［式中、Ｘは−ＣＨ_２−，−ＣＨ_２−ＣＨ_２−および−Ｏ−Ｏ−から選択、ｍは０〜５，Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３およびＲ^４の少なくとも一つはグリシジルエーテル含有基］ （もっと読む）

【課題】 現像欠陥が極めて少なく、かつパターン倒れマージンに優れるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）樹脂の主鎖又は側鎖にカルボキシル基を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）エポキシ化合物を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 硬化剤を不要とすることも可能な自己硬化型のエポキシ樹脂組成物、及び１液組成物でありながらも保存安定性が優れるエポキシ樹脂組成物を提供可能なエポキシ樹脂を開発し、それを用いたエポキシ樹脂組成物、及びこれらを硬化した硬化物を提供すること。
【解決手段】 芳香族性アセタール基（ａ１）とエポキシ基（ａ２）とを１分子中に有するエポキシ樹脂（Ａ）を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物及びこれを硬化した硬化物。更に活性水素（ｂ１）を有する硬化剤（Ｂ）を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物及びこれを硬化した硬化物。 （もっと読む）

【課題】 優れた流動性を有し、且つ良好な誘電特性を硬化物に付与可能な硬化剤を開発し、上記の課題を解決できるエポキシ樹脂組成物及びそれを硬化した硬化物を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）
【化１】


（式中、Ａｒ_１及びＡｒ_２は置換基を有していてもよい芳香族環を示し、Ｒ_１及びＲ_２はアルキル基を示す。）
で表される２価シリルエーテル化合物（ａ）とエポキシ樹脂（ｂ）とを含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物、及びこれを硬化した硬化物。 （もっと読む）

【課題】 良好な光感度、現像性及び可撓性を有し、耐ＨＨＢＴ性に優れる特性を有し、プリント基板として好適に用いられる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）（ａ）エポキシプレポリマー、（ｂ）不飽和基含有モノカルボン酸及び（ｃ）酸無水物を含む成分から合成されるエポキシ（メタ）アクリレート樹脂、（Ｂ）（ｄ）カルボキシル基を有するジヒドロキシル化合物、（ｅ）数平均分子量が２００〜２０,０００であるポリオール化合物、（ｆ）（メタ）アクリロイル基を有するヒドロキシル化合物及び（ｇ）ジイソシアネート化合物を含有する成分から合成されるウレタン（メタ）アクリレート樹脂、（Ｃ）エポキシ樹脂、（Ｄ）希釈剤、（Ｅ）光重合開始剤及び所望により（Ｆ）無機イオン交換体を含有する感光性樹脂組成物、その硬化物及び用途。 （もっと読む）

【課題】
体積位相型ホログラム記録用感光性組成物、ホログラム記録媒体とその製法、およびホログラム記録法の提供。
【解決手段】
ラジカル重合系(A)、カチオン重合系(B)、およびバインダーポリマー(C)からなり、光を干渉させることによって得られる干渉縞の明暗の強度分布を屈折率の変化として記録するのに使用される体積位相型ホログラム記録材料用組成物において、
カチオン重合系(B)の一構成要素であるカチオン重合開始剤(b2)が、アルキルスルホニウム塩であることを特徴とする体積位相型ホログラム記録用感光性組成物。
なし。 （もっと読む）

【課題】 高透明性、パターンのエッジ形状が良好で高信頼性を得るカラーフィルター用に適した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 (A)下記一般式(1)で表されるビスフェノール類から誘導される２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と（メタ）アクリル酸との反応物を更に飽和酸無水物及び飽和酸二無水物を反応させて得られた不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂化合物、(B)エチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマー、(C)光重合開始剤又は増感剤、(D)エポキシ基を有する化合物とを含むアルカリ現像型感光性樹脂組成物である。
【化１】


但し、Ｒ₁〜Ｒ₄はH、アルキル基、ハロゲン又はフェニル基を、Ｒ₅はH又はメチル基を、Aは-CO-、-SO₂-、-C(CF₃)₂-、-Si(CH₃)₂-、-CH₂-、-C(CH₃)₂-、-O-、9,9-フルオレニル基又は直結合を、X及びY₁、Y₂は飽和カルボン酸残基又はHを、nは1〜20の数を示す。 （もっと読む）

【課題】
体積位相型ホログラム記録用感光性組成物、ホログラム記録媒体とその製法、およびホログラム記録方法の提供。
【解決手段】
ラジカル重合系(A)、カチオン重合系(B)、およびバインダーポリマー(C)からなり、光を干渉させることによって得られる干渉縞の明暗の強度分布を屈折率の変化として記録するのに使用される体積位相型ホログラム記録材料用組成物において、
カチオン重合系(B)の一構成要素であるカチオン重合開始剤(b2)が、アルミニウム錯体とアリールシラノールから成る熱潜在性カチオン重合開始剤であることを特徴とする体積位相型ホログラム記録用感光性組成物。
なし。 （もっと読む）

本発明は、安定で且つ実質的に充填されるカチオン性歯科用組成物に関し、その歯科用組成物は：
（１）少なくとも１のカチオン反応する化合物（Ａ）；
（２）少なくとも１の歯科用フィラー（Ｂ）；
（３）任意で少なくとも１の有機ポリマー又はコポリマーを含む少なくとも１の分散剤（Ｃ）；
（４）少なくとも１のカチオン性光開始剤（Ｄ）；
（５）及び任意で少なくとも１の光増感剤（Ｅ）、を含み；
少なくとも１の前記歯科用フィラー（Ｂ）が、
ａ）少なくとも１のオルガノシリコンカップリング剤（Ｆ）と及び
ｂ）少なくとも１の化合物（Ｇ）と、処理され；
前記オルガノシリコンカップリング剤（Ｆ）は、活性化後に歯科用フィラーと化学結合を形成する珪素原子と直接結合している少なくとも１の反応基（ｒｆＡ）、及び、活性化後に化合物（Ｇ）の反応基（ｒｆＣ）と化学結合を形成する珪素原子と直接結合していない少なくとも１の反応基（ｒｆＢ）を含む。 （もっと読む）

ノボラック型の構造を有する誘導体化されたポリ（４−ヒドロキシスチレン）を製造する方法であって、本方法は、（ｉ）４−ヒドロキシフェニルメチルカルビノールを含むメタノール溶液を供給する工程、（ｉｉ）前記溶液を、酸触媒による置換反応で、適切な温度および圧力の条件下で十分な時間処理し、溶液中の実質的に全ての前記カルビノールを、４−ヒドロキシフェニルメチルカルビノールのメチルエーテルに変換する工程、（ｉｉｉ）前記エーテルを含む溶液を、適切な酸触媒の存在下で、適切な温度および圧力の条件下で十分な時間重合し、ノボラック型ポリマーを形成する工程を含む。上記の方法で製造された誘導体化されたポリ（４−ヒドロキシスチレン）を含む新規の物質の組成物であって、本組成物は、電子工学の化学の市場、例えばフォトレジスト組成物、および、その他の分野、例えばワニス、プリント用インク、エポキシ樹脂、コピー用紙、ゴムのための粘着性付与剤、原油セパレーターなどにおいて用途を有する。 （もっと読む）

永久フォトレジスト組成物であって、（Ａ）式Ｉによる１種又は複数のビスフェノールＡ−ノボラックエポキシ樹脂（ただし、式Ｉ中の各基Ｒはグリシジル又は水素から個別に選択され、式Ｉ中のｋは０〜約３０の範囲にある実数である）と、（Ｂ）式ＢＩＩａ及びＢＩＩｂにより表される群から選択される１種又は複数のエポキシ樹脂（式中、式ＢＩＩａにおける各Ｒ_１、Ｒ_２、及びＲ_３は、水素、又は炭素原子１〜４個を有するアルキル基からなる群より独立に選択され、式ＢＩＩａ中のｐの値は１〜３０の範囲にある実数であり；式ＢＩＩｂ中のｎ及びｍの値は独立に１〜３０の範囲にある実数であり、式ＢＩＩｂ中の各Ｒ４、及びＲ５は、水素、炭素原子１〜４個を有するアルキル基、又はトリフルオロメチルからなる群より独立に選択される）と、（Ｃ）１種又は複数のカチオン性光開始剤（光酸発生剤又はＰＡＧとしても知られる）と、（Ｄ）１種又は複数の溶媒とを含む組成物。 （もっと読む）

本発明は、基板によって支持される又は支持されない、熱可塑性ポリマから開始する、高分子光学ミクロ構造の製造に対する工程に係る。熱可塑性ポリマは、ＵＶ硬化可能樹脂と熱的に安定している光開始剤とを有して混合され、前出のポリマの粘性より低い粘性を有する混合物を得るようにされる。前出の混合物は、成形され、成形された混合物は、高分子光学ミクロ構造を得るようＵＶ放射を用いて硬化される。かかる工程は、混合物の構成部品のうち１つのみが使用される際に従来の熱可塑性ポリマの成形及び従来のＵＶ硬化を有して発生する共通の問題を防ぐ。
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カチオン硬化可能な化合物;アクリレート含有化合物;ヒドロキシル含有化合物;カチオン光開始剤;およびフリーラジカル光開始剤;を含む光硬化可能な組成物であって、前記組成物の100グラム当たり、0.54当量未満のカチオン硬化可能な基、0.10当量未満のアクリレート基、および0.10当量未満のヒドロキシル基を含有する光硬化可能な組成物。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいて使用され、フォトレジスト用のアルカリ性現像液で現像できる反射防止膜を形成するための反射防止膜形成組成物、及びその反射防止膜形成組成物を用いたフォトレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】 テトラカルボン酸二無水物化合物と少なくとも一つのカルボキシル基を有するジアミン化合物から製造されるポリアミド酸、少なくとも二つのエポキシ基を有する化合物、及び溶剤を含む反射防止膜形成組成物。 （もっと読む）