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Fターム[4J043VA05]の内容

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Fターム[4J043VA05]に分類される特許

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【課題】 充分に高い耐熱性及び耐熱衝撃性を備えたソルダーレジストを形成でき、かつ、充分に優れた貯蔵安定性を示すドライフィルムを形成できる、弱アルカリ現像可能な感光性樹脂組成物に使用可能なポリマーを提供することを目的とする。
【解決手段】 下記一般式(1)で表わされる構造を含むポリマー。



[式中、Xは四価の有機基を示し、Y、R及びRは各々独立に二価の有機基を示し、Rは水素原子、フェニル基又は炭素数1〜5のアルキル基を示し、nは1以上の整数を示す。] (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、微細加工が施され、硬化膜抽出物中のシリコーン系化合物含有量が極めて低く、硬化膜の濡れ性が良好であり、柔軟性に富み、電気絶縁信頼性、ハンダ耐熱性、耐有機溶剤性に優れ、硬化後の基板の反りが小さいイミド系硬化膜及び硬化膜を有するプリント配線板を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも(1)硬化膜に直径300μm以下の円形開口部があり、(2)硬化膜抽出物中のシリコーン系化合物含有量が1μg/cm2以下であり、(3)硬化膜の濡れ性が35mN/m以上であり、(4)硬化膜のIRスペクトル中にイミド基由来の吸収が確認できることを特徴とする硬化膜を用いることで上記問題点を改善することができる。 (もっと読む)


【課題】電気絶縁性に優れる均一な絶縁性被膜を有する構造体及びその製造方法、絶縁性被膜を形成することができる樹脂組成物、並びに電子部品を提供する。
【解決手段】本発明の絶縁性被膜を有する構造体の製造方法は、孔部を有する基板に、溶剤を塗布する工程と、樹脂組成物を、この樹脂組成物が孔部内の溶剤と接触するように、基板に塗布する工程と、塗膜を乾燥し、孔部の内壁面及び底面のうちの少なくとも内壁面に樹脂成分を含む被膜117、118、119を形成する工程と、孔部の内壁面及び底面を含む基板の全表面に形成されている被膜を加熱し、樹脂成分の硬化物を含む絶縁性被膜217、218、219とする加熱硬化工程と、基板の表面に形成されている絶縁性被膜219及び基板の孔部の底面に形成されている絶縁性被膜218を除去し、孔部の内壁面に形成されている絶縁性被膜217を残存させる表底面側絶縁性被膜除去工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】イオン伝導性および耐酸化性に優れた固体高分子電解質組成物を提供する。
【解決手段】下記式(I)および(II)




で表される繰り返し単位よりなる群から選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位からなる芳香族ポリイミド100質量部と、リン酸、ポリリン酸、硫酸、メタンスルホン酸から選ばれる少なくとも1種の酸0.1〜100質量部とからなる固体高分子電解質と、イオン伝導性を有する高分子とからなる固体高分子電解質組成物。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、低温(250℃以下)で硬化可能であって高濃度にもかかわらず、低粘度であるポリイミド前駆体組成物、それから得られる良好な物性を有するポリイミド塗膜、さらに前記ポリイミド前駆体組成物を用いた感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも、分子内に少なくとも2つのイミド結合を含有し、重量平均分子量が1000以上15000以下であり、酸価が50〜150mgKOH/gである酸末端化合物及び鎖延長剤とを含むポリイミド前駆体組成物により、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】優れた耐熱性を示し、且つ帯電圧リーク性に優れた液晶配向膜を与える液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、テトラカルボン酸二無水物と、下記式(A)


(式(A)中、「*」は、それぞれ、結合手であることを示す。)
で表される構造および2つのアミノ基を有する化合物を含むジアミンとの反応により得られるポリアミック酸を脱水閉環してなり、イミド化率が30%以上であるイミド化重合体を含有する。 (もっと読む)


【課題】 低誘電率、低誘電正接、低吸水性の高分子材料として、新規なポリイミド、ならびに該ポリイミドを生成しうるポリアミック酸を提供する。
【解決手段】 特定の2官能フェニレンエーテルオリゴマーの両末端に芳香族アミノ基を導入した芳香族ジアミンと酸二無水物を反応させて得られるポリアミック酸およびポリイミド (もっと読む)


【課題】良好な液晶配向性能および焼き付き特性を有する液晶配向膜を与えることができ、しかも高度の塗布性を有する液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、テトラカルボン酸二無水物と、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテルおよび4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルよりなる群から選ばれる少なくとも一種を全ジアミンに対して3〜30モル%含むジアミンとを反応させて得られるポリアミック酸を脱水閉環してなるイミド化重合体を含有する。 (もっと読む)


【課題】高光透過性、高耐熱性、高靭性かつ低吸水率で、フレキシブルなポリイミドフィルムおよびこの原料となるポリアミック酸を提供すること。
【解決手段】式[1]で表される繰り返し単位を少なくとも10モル%含有し、数平均分子量が5000以上であるポリアミック酸、および式[3]で表される繰り返し単位を少なくとも10モル%含有するポリイミドフィルム。


(式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシル基、炭素数3〜7のシクロアルキル基、ニトリル基、またはカルボキシル基を表し、nは整数を表す。) (もっと読む)


【課題】
機械強度等の基本的性能を充分なものとしながら耐熱性や耐溶剤性等の特性が顕著に向上されたものであり、高温環境下においても各種物性の低下が低い硬化物を形成できる硬化性組成物として、特に、パワーモジュール用絶縁材料、アセンブリ用接着剤、航空/宇宙産業用接着剤等に好適に使用することができるシロキサン化合物、及び、このようなシロキサン化合物を含有する硬化性組成物を提供する。
【解決手段】
イミド結合及びシロキサン結合を有するシロキサン化合物(I)であって、上記シロキサン化合物(I)は、分子骨格中及び分子末端にイミド結合を有することを特徴とするシロキサン化合物(I)である。 (もっと読む)


【課題】正孔輸送能が高く、溶解性及び成膜性に優れる共役ポリマーを提供する。また、低電圧駆動が可能で、発光効率が高く、駆動安定性が高い有機電界発光素子を提供する。
【解決手段】式(I)で表される繰り返し単位からなる共役ポリマーであって、置換基として不溶化基を有し、重量平均分子量(Mw)が20,000以上、分散度(Mw/Mn)が2.40以下であることを特徴とする、共役ポリマー。


(式中mは0〜3の整数を表し、Ar11〜Ar15は芳香族炭化水素又は芳香族複素環基を表す。尚、該共役ポリマーは、置換基として1分子中に少なくとも一つの不溶化基を含む基を有する。) (もっと読む)


【課題】優れた有機溶媒溶解性および熱可塑性を有し、かつ銅箔や非熱可塑性ポリイミドフィルムとの高い接着力、高ガラス転移温度および高靭性を併せ持つポリイミドの提供。
【解決手段】メロファン酸二無水物、ジアミン(NH2−A−NH2)および一官能性酸無水物から得られ、下記一般式(3)で示される反復単位を含有することを特徴とする線状ポリイミド。
(もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、感光性を有するため微細加工が可能であり、希アルカリ水溶液で現像可能であり、低温(200℃以下)で硬化可能であり、柔軟性に富み、電気絶縁信頼性、ハンダ耐熱性、耐有機溶剤性、難燃性に優れ、硬化後の基板の反りが小さく、封止剤との密着性に優れ、硬化膜からの難燃剤成分のブリードアウトが発生しない感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも(A)分子骨格中にリン原子を含有する末端カルボン酸ウレタンイミドオリゴマー、(B)ジアミノ化合物及び/又はイソシアネート系化合物、(C)感光性樹脂、(D)光重合開始剤を用いることで上記問題点を改善することができる。 (もっと読む)


【課題】ゲル成分のない高分子量体であるポリアミド酸ワニス組成物、さらに吸湿膨張係数が低く、機械強度の向上したポリイミド樹脂、金属−ポリイミド複合体を提供すること。
【解決手段】本発明のポリアミド酸ワニス組成物は、特定のエステル基含有テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとを付加重合させてなるポリアミド酸と、溶媒と、を含む、ポリアミド酸ワニス組成物において、前記エステル基含有テトラカルボン酸二無水物が、示差走査熱量計(DSC)にて示されるプロファイルにおいて、融解熱ピーク温度(a)℃とし、前記融解熱ピークへの立ち上がりが開始する温度を接点とする仮想接線と、前記融解熱ピークの略直線部分に沿う直線との交点となる温度を(b)℃とし、温度幅△T=((b)−(a))℃とするとき、(a)≧247℃及び△T≦5℃を満足することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機絶縁膜を被覆した無機絶縁膜のエッチング時にエッチング残渣が生成せず、金属配線や金属層などの銅及び銅合金の腐食を抑制する半導体装置及びその製造方法、感光性樹脂組成物並びに電子部品を提供する。
【解決手段】半導体装置は、パッド電極2が形成された半導体基板1と、少なくとも前記パッド電極2上に形成された無機絶縁膜3と、無機絶縁膜3上に形成された第1の有機絶縁膜4とを備える。第1の有機絶縁膜4は、樹脂構造にフッ素を含まないポリイミド系樹脂と、複素環状化合物、チオ尿素類及びメルカプト基を有する化合物から選択される少なくとも1種の化合物とを含有する樹脂組成物から形成される。 (もっと読む)


【課題】耐熱性および耐光性が高く、特に高温環境下、高強度の光照射によっても電圧保持率の低下が少なく、且つ静電気リーク性に優れる液晶配向膜を形成することができる液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、エポキシ当量が50〜10,000g/モルであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は1,000〜100,000である、エポキシ基を有する特定のポリオルガノシロキサンを含有する。 (もっと読む)


【課題】感光性フィルムとしたときに、めっき耐性が良好である感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性フィルムを提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、(A)アルカリ溶解性樹脂100質量部に対して、(B)キノンジアジド構造を有する感光剤を1質量部〜50質量部含有し、且つ熱処理後の弾性率と密着強度が下記式(a)を満たすことを特徴とする。
Y≧0.0004X 式(a)
(Yは密着強度(N/mm)、Xは熱処理後の弾性率(MPa)) (もっと読む)


【課題】本発明のポリアミド酸ワニス組成物を用いた金属箔上のポリイミド樹脂層は、接着層を介することなく金属箔との密着性に優れ、かつ線熱膨張率が金属箔の線熱膨張率と同等となるポリイミド樹脂層を形成できるポリアミド酸ワニス組成物、ポリイミド樹脂それを用いたフレキシブルプリント基板用金属−ポリイミド複合体を提供することを目的とする。
【解決手段】エステル構造含有芳香族テトラカルボン酸二無水物及び/またはエステル構造含有芳香族ジアミンとの付加重合により得られるポリアミド酸と溶媒とからなるポリアミド酸ワニス中にオキサゾール化合物、アミド化合物、ニトリル化合物、またはベンゾフラザンからなる群より選ばれるものである含窒素芳香族化合物を含有することによって得られるポリアミド酸ワニス組成物。 (もっと読む)


【課題】液晶配向膜の剥離性に優れ、塗膜の耐ラビング性が良好で、液晶のプレチルト角が大きい液晶配向膜が得られ、かつイミド化率が高くても印刷性が良好なポリイミド系の液晶配向処理剤を提供する。
【解決手段】ポリイミド(A)とポリイミド(B)とを、50:50〜90:10の質量比で含有し、かつ溶媒として1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンを含有することを特徴とする液晶配向処理剤。なお、ポリイミド(A)及びポリイミド(B)のイミド化率は共に40%以上である。 (もっと読む)


【課題】最終的に得られるポリイミドの化学構造を問わず、簡便に合成できて安価に入手可能な、保存安定性が高く、イミド化後に不純物の残留の少ないポリイミドとなるポリイミド前駆体、及びそれを用いたポリイミド前駆体樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ポリアミック酸をビニルエーテル等の特定の含酸素不飽和化合物と反応させて得られるポリイミド前駆体。 (もっと読む)


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