【課題】透明性および分散性に優れた顔料組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）顔料と、（Ｂ）一般式（ｂ−１）で表される構造単位と一般式（ｂ−２）で表される構造単位とを含む共重合体と、（Ｃ）溶剤とを含む顔料組成物。




[式中、Ｒ1は、水素原子またはメチル基を表す。Ｌは、−アルキレン基−Ｏ−で表される基である。Ｗは、アルキレン基であり、ｎは１〜１２の整数である。] （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性で、レジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）、式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】重金属を使用することなく、長鎖のパーフルオロアルキル基も使用せず、一般的な公知の含フッ素モノマーを使用して、系への溶解性に優れ弾きも抑制した含フッ素化合物を用いた硬化性樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記ブロック共重合体（Ａ）、溶媒（Ｂ）および樹脂（Ｃ）を含む硬化性樹脂組成物。
ブロック共重合体（Ａ）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに１質量％の濃度で混合した際に、白濁することなく透明な液体が得られるブロック共重合体である。 （もっと読む）

【課題】他の樹脂と混合して樹脂組成物とし、基材の表面に塗布し硬化させてコーティング膜を形成させた場合に、該コーティング膜が経時的に黄変しない、アクリロイルモルホリンを得る。
【解決手段】アクリロイルモルホリンに、フェノール系酸化防止剤を０．５〜５．０重量％、望ましくはさらに紫外線吸収剤を０．０５〜０．５重量％含有させる。フェノール系酸化防止剤は、２，５’−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノンまたは２，５’−ジ−ｔ−アミルハイドロキノンが望ましい。 （もっと読む）

【課題】パターン形成時の露光マージンが広い感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種に由来する構造単位を有する重合体であり、重合開始剤が式（１）で表される化合物を含む重合開始剤である感光性樹脂組成物。


［式（１）中、Ｒ^ａ1及びＲ^ａ2は、Ｒ^ａ11、ＯＲ^ａ11、ＣＯＲ^ａ11、ＳＲ^ａ11、ＣＯＮＲ^ａ12Ｒ^ａ13又はＣＮを表し、Ｒ^ａ11、Ｒ^ａ12及びＲ^ａ13は、水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基等を表し、Ｒ^ａ3及びＲ^ａ4は、Ｒ^ａ11等を表し、ｓ及びｔは、０〜４の整数を表し、Ｌは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、ＣＲ^ａ31Ｒ^ａ32、ＣＯ、ＮＲ^ａ33又はＰＲ^ａ34を表し、Ｒ^ａ5は、ヒドロキシ基又はカルボキシ基等を表す。］ （もっと読む）

【課題】適当な異常分散性を有するとともに、加工が容易である光学用の材料組成物および光学素子を提供する。
【解決手段】酸化スズの微粒子と、１分子中に芳香環、縮合多環、カルバゾール環、フルオレン環から選ばれる官能基の少なくとも１つと１個以上の重合性官能基の両方を有する有機化合物と、重合開始剤とを含む材料組成物の硬化物において、アッベ数νｄ、Ｆ線とｇ線の異常分散度ΔθｇＦとしたとき、１０≦νｄ≦４０かつ０．０１０≦ΔθｇＦ≦０．０７５である材料組成物およびその硬化物を用いた光学素子。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規な重合体、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）を有し、該構成単位（ａ１）として、前記酸分解性基の活性化エネルギーが３．０ｋＪ／ｍｏｌ以上異なる２種を含む重合体。該重合体を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】電子線やＥＵＶを露光源とする光リソグラフィー技術により、優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンの製造できるレジスト組成物、及び該レジスト組成物に含有される新規な化合物を提供すること。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔２〕の提供。
〔１〕式（Ｉ）で表される化合物。


［式中、
Ｘは、脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。
Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基などを表すが、Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合して脂肪族炭化水素基を形成していると好ましい。］
〔２〕前記化合物と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高いパターン形成方法を提供する。
【解決手段】単糖類のヒドロキシ基の１つがメタクリルエステルとして結合し、残りのヒドロキシ基が酸不安定基で置換された（メタ）アクリレートの繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤を含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）３，３，３−トリフルオロ−２−ヒドロキシ−２−トリフルオロメチルプロピオン酸スルホニウム塩、（Ｂ）式（１−２）で示される酸発生剤、


（式中、Ｒ⁴はヘテロ原子を含んでもよい炭素数１〜３０のアルキル基、アルケニル基又はアラルキル基を表す。Ｒ⁵は水素原子又はトリフルオロメチル基を表す。Ａｒ’はヘテロ原子を含んでもよい非置換又は置換の炭素数６〜２０のアリール基を示す。）（Ｃ）酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ現像液不溶又は難溶の樹脂であって、該酸不安定基が脱保護されたときにアルカリ現像液可溶となるベース樹脂、（Ｄ）有機溶剤を必須成分として含有するＡｒＦ液浸露光用化学増幅ポジ型レジスト材料。
【効果】疎水性が高く、液浸水への溶出が低く、酸拡散を制御できるため、高解像性のパターンプロファイルを構築できる。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）がより良好なレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 酸分解性基を有する樹脂（Ａ）と、
式（Ｂ３）


［式（Ｂ３）中、
Ａ_ａ^＋は、酸分解性基を有し、窒素原子を有さない有機カチオンを表す。
Ｘ⁻は、酸分解性基及び窒素原子を有さない有機スルホン酸アニオンを表す。］
で表される塩（Ｂ３）と、
式（Ｅ１）


［式（Ｅ１）中、
Ａ_Ｎ^＋は、窒素原子を有する有機カチオンを表す。
Ｘ⁻は、窒素原子を有さない有機スルホン酸アニオンを表す。］
で表される塩（Ｅ１）と
を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好なレジスト組成物に好適な塩及びレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、
Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。
Ｌ^１は、単結合又は炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｘ^１は、酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ｒ^１は、ヒドロキシ基又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ｌは、０〜３の整数を表す。ｍは、０〜３の整数を表す。ｎは、１〜３の整数を表す。
Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］、及び、当該塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含むレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】特定の構造を有するアクリル系共重合体、およびこの共重合体を用いることにより、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性を有する樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式で表される繰り返し単位を含むアクリル系共重合体およびこの共重合体を用いた感放射線性樹脂組成物。
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【解決手段】（Ａ）ヘキサフルオロプロピル酸エステル基を側鎖に有するアクリル系繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）ベース樹脂として、ラクトン環由来の骨格及び／又は水酸基を有する骨格及び／又は無水マレイン酸由来の骨格を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。
【効果】レジスト保護膜を使うことなく高速スキャンに耐えうる高撥水性かつ高滑水性のレジスト膜を実現し得る。更には、アルカリ現像液による上記ポリマーの加水分解により現像後のレジスト膜表面を親水性に改質し、その結果、ブロッブ欠陥が大幅に抑制できる。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）でレジストパターンを製造することができる新規な塩、および当該塩と樹脂とを含有するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、および当該塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は、単結合又は炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置き換わっていてもよく、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Ｒ^１は、ヒドロキシ基又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。ｌは、０〜３の整数を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】熱可塑による成形が可能であり、耐ケミカルクラック性や機械強度が高く、さらには表面硬度にも優れているメタクリル系樹脂組成物及びこの成形体が得る。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位：８０〜９８．５質量％と、前記メタクリル酸エステル単量体に共重合可能な、少なくとも１種の他のビニル単量体単位：１．５〜２０質量％と、を含むメタクリル系樹脂（Ａ）：１００質量部と、
以下の（ｉ）及び（ｉｉ）の条件を満たすテトラフルオロエチレン樹脂（Ｂ）：０．０１〜１０質量部と、
を、含有する
メタクリル系樹脂組成物。
（ｉ）数平均分子量（Ｍｎ）が０．５万以上５０万未満
（ｉｉ）平均粒子径が０．５μｍ以上８μｍ以下 （もっと読む）

【課題】偏光層と、光配向層とが設けられた新規な偏光素子及び該偏光素子を含む円偏光子、並びにそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基材上に、光配向層及び偏光層がこの順で設けられた偏光子であり、
該光配向層が光反応性基を有するポリマーから形成されたものであり、
該偏光層が、
重合性スメクチック液晶化合物及び二色性色素を含有する組成物から形成されたものである偏光素子、当該偏光素子の偏光層上にさらに位相差層を設けた円偏光板又は、当該偏光素子の透明基材を位相差フィルムに置き換えた円偏光板の提供。 （もっと読む）

【課題】高温高湿の環境に置いた場合でも、基板との密着性に優れる塗膜を製造可能な硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含む硬化性樹脂組成物。（Ａ）不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種に由来する構造単位と、オキシラニル基及びエチレン性不飽和結合を有する単量体に由来する構造単位とを含む共重合体；（Ｂ）グリシジルエーテル型エポキシ樹脂及びグリシジルエステル型エポキシ樹脂からなる郡から選ばれる少なくとも１種；（Ｃ）多価カルボン酸無水物及び多価カルボン酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐湿性、耐傷性、機械的な強度、偏光膜との密着性、及び、光学等方性に優れる偏光膜保護フィルム、並びに、それを備える偏光板を提供する。
【解決手段】メタクリル酸単量体及びメタクリル酸エステル単量体から形成される第一の構造単位５０〜９５質量％と、Ｎ−置換基がアリール基もしくはアリールアルキル基からなるＮ−置換マレイミド化合物から形成される第二の構造単位０．１〜２０質量％と、Ｎ−置換基がアルキル基もしくはシクロアルキル基からなるＮ−置換マレイミド化合物から形成される第三の構造単位０．１〜４９．９質量％とを有するアクリル系熱可塑性樹脂から形成される光学等方性偏光膜保護フィルム。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、−ＳＯ_２−含有環式基を含む構成単位（ａ０）を有する重合体；該重合体を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）