【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規な重合体、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）を有し、該構成単位（ａ１）として、前記酸分解性基の活性化エネルギーが３．０ｋＪ／ｍｏｌ以上異なる２種を含む重合体。該重合体を含有するレジスト組成物。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、
酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）を有し、該構成単位（ａ１）として、前記酸分解性基の活性化エネルギーが３．０ｋＪ／ｍｏｌ以上異なる２種を含む重合体。
【請求項２】
前記主鎖の少なくとも一方の末端に下記一般式（Ｉ−１）で表される基を有する、請求項１記載の重合体。
【化１】

［式中、Ｒ^１は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、Ｚは炭素数１〜１０の炭化水素基又はシアノ基であり、Ｒ^１とＺとは相互に結合して環を形成していてもよい。Ｘは２価の連結基であって、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、及び−ＮＨ−Ｃ（＝ＮＨ）−のいずれかを、少なくとも式中のＱと接する末端に有する。ｐは１〜３の整数である。Ｑは（ｐ＋１）価の炭化水素基であり、ｐが１の場合のみ、Ｑは単結合であってもよい。Ｒ^２は単結合、置換基を有していてもよいアルキレン基、又は置換基を有していてもよい芳香族基であり、ｑは０又は１であり、ｒは０〜８の整数である。Ｍ^＋は有機カチオンである。］
【請求項３】
下記一般式（Ｉ）で表される化合物からなるラジカル重合開始剤を用いたラジカル重合により得られるラジカル重合体である、請求項２記載の重合体。
【化２】

［式中、Ｒ^１は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、Ｚは炭素数１〜１０の炭化水素基又はシアノ基であり、Ｒ^１とＺとは相互に結合して環を形成していてもよい。Ｘは２価の連結基であって、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、及び−ＮＨ−Ｃ（＝ＮＨ）−のいずれかを、少なくとも式中のＱと接する末端に有する。ｐは１〜３の整数である。Ｑは（ｐ＋１）価の炭化水素基であり、ｐが１の場合のみ、Ｑは単結合であってもよい。Ｒ^２は単結合、置換基を有していてもよいアルキレン基、又は置換基を有していてもよい芳香族基であり、ｑは０又は１であり、ｒは０〜８の整数である。Ｍ^＋は有機カチオンである。式中の複数のＲ^１、Ｚ、Ｘ、ｐ、Ｑ、Ｒ^２、ｑ、ｒ、Ｍ^＋はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。］
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の重合体を含有するレジスト組成物。
【請求項５】
露光により酸を発生し、かつ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）（ただし前記基材成分（Ａ）を除く。）と、を含有するレジスト組成物であって、
前記基材成分（Ａ）が、請求項１〜３のいずれか一項に記載の重合体を含有するレジスト組成物。
【請求項６】
支持体上に、請求項４または５記載のレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。

【公開番号】特開２０１３−３５９４２（Ｐ２０１３−３５９４２Ａ）
【公開日】平成２５年２月２１日（２０１３．２．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１７３１８１（Ｐ２０１１−１７３１８１）
【出願日】平成２３年８月８日（２０１１．８．８）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】