【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規な重合体、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）を有し、該構成単位（ａ１）として、前記酸分解性基の活性化エネルギーが３．０ｋＪ／ｍｏｌ以上異なる２種を含む重合体。該重合体を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、−ＳＯ_２−含有環式基を含む構成単位（ａ０）を有する重合体；該重合体を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】シアノアダマンチル化合物およびポリマーおよびこれを含有するフォトレジスト
【解決手段】シアノアダマンチル化合物、このような化合物の重合単位を含有するポリマーおよびこのようなポリマーを含有するフォトレジスト組成物が提供される。本発明の好ましいポリマーは、２５０ｎｍよりも短い波長、たとえば２４８ｎｍおよび１９３ｎｍで画像形成されるフォトレジスト中に使用される。 （もっと読む）

【課題】光硬化に好適な、優れた硬化速度と保存安定性を有する光硬化型樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】アニオン硬化型樹脂（ａ）、光塩基発生剤（ｂ）、及びｐＫｂが３．８を超える値を持つ第２塩基性物質（ｃ）を含有する、光硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

共有結合性有機骨格として配列した、複数のセグメントと複数の連結基とを含む、追加機能性を備えた構造化有機薄膜であって、構造化有機薄膜は、複数セグメントの厚さの構造化有機薄膜とすることができる。 （もっと読む）

新規な現像液溶解性の反射防止膜組成物、およびこの組成物の使用方法を提供する。この組成物は、多官能性ビニルエーテルと反応して分岐ポリマーまたは分岐オリゴマーを生成する多官能性酸を含んでいる。使用時に、組成物を基板に塗布して熱的に架橋する。露光し、露光後に焼成すると、硬化したポリマー／オリゴマーが脱架橋、解重合して、通常のフォトレジスト現像溶液（例えばアルカリ現像液）に溶解する層となる。 （もっと読む）

【課題】高い解像度と改善されたエッジラフネスとを備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】（１，３，５−トリス（パラ−（パラヒドロキシフェニル）フェニル）ベンゼン）を母核に有し、酸分解性置換基を有する化合物と、化学放射線の作用により酸を発生する光酸発生剤とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】解像度、電気絶縁性、熱衝撃性、密着性等に優れ、半導体素子の層間絶縁膜や表面保護膜などに適した感光性樹脂成分の原料として有用な、新規なヒドロキシスチレン系ＡＢＡ型トリブロック共重合体とその簡便な製造方法を提供する。
【解決手段】ヒドロキシスチレン系繰り返し単位（ａ１）を含むセグメントＡとビニルエーテル系繰り返し単位（ｂ）を含むセグメントＢとからなり、セグメントＡとセグメントＢの連結部位が、次の一般式（３）


（ａはセグメントＡとの結合部位を表し、ｂはセグメントＢとの結合部位を表す）で表されるヒドロキシスチレン系ＡＢＡ型トリブロック共重合体とその製造方法である。両末端にチオール基を有するポリビニルエーテルを連鎖移動剤とし、ヒドロキシスチレン系単量体とラジカル重合することによって製造することができる。 （もっと読む）

【課題】高感度で且つ彫刻形状の優れたレーザー分解性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】ジエノフィル化合物及びジエン化合物、及び／又は、ジエノフィル化合物とジエン化合物の付加体を含有することを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、放射線照射された時にカチオンルート及び／又はラジカルルートで重合及び／又は架橋し得る組成物に関する。より詳細には、本発明は、少なくとも１種のベース化合物と少なくとも１種の光開始剤とイソシアネート官能基を少なくとも１個含む少なくとも１種の化合物とを含む重合性且つ／又は架橋性組成物、並びにそのコーティングとしての使用に関する。 （もっと読む）

【課題】様々な波長の活性光線を用いても高画質な画像が得られ、保存性に優れ、耐候性に優れた硬化膜を様々な環境下、特に湿度の高い雰囲気下においても形成することができる活性光線硬化組成物とそれを用いた活性光線硬化型インク、該活性光線硬化型インクをインクジェット用インクとして用いた画像形成方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも一種のカチオン重合性化合物、少なくとも一種の光酸発生剤、少なくとも一種の光酸発生剤の増感剤、及び少なくとも一種の下記一般式（ＳＸ）で表される化合物を含有することを特徴とする活性光線硬化組成物。一般式（ＳＸ） Ｘ−Ｏ−Ｑ−（Ｒｓｘ）_n（Ｘは水素、置換基、Ｑはベンゼン環、ナフタレン環を表し、Ｒｓｘは置換基を表し、ｎ＝１〜６、少なくとも一つのＲｓｘは下記式（１）または（２）を表す。）
【化１】
（もっと読む）

自己ドープ型導電性高分子のグラフト共重合体を含む導電性高分子膜組成物及び上記組成物から形成された導電性高分子膜を含む有機光電素子を提供する。本発明の導電性高分子膜組成物に含まれる導電性高分子のグラフト共重合体においては、導電性高分子とポリ酸とが化学結合を介して互いに結合される。したがって、本発明の組成物を有機光電素子に適用すると、素子の内部で発生する熱によって生じる脱ドープが起こらない。したがって、本発明は、有機光電素子の効率及び寿命を向上させうる。 （もっと読む）

【課題】 脂環式オレフィンのメタセシス開環重合体を含有してなる感放射線性樹脂組成物を安全に且つ簡便に短時間で製造する方法、この方法によって得られる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 溶媒中で開環メタセシス重合触媒と連鎖移動剤との存在下に脂環式オレフィンを重合して得た脂環式オレフィン開環メタセシス重合体含有重合反応溶液に、感放射線化合物を配合することを特徴とする感放射線性樹脂組成物の調製方法。上記脂環式オレフィン開環メタセシス重合体含有重合反応溶液を水素添加反応に供して該重合反応溶液に含まれる重合体を水素添加して得た脂環式オレフィン開環メタセシス重合体水素添加重合体含有反応溶液に感放射線化合物を配合する感放射線性樹脂組成物の調製方法。この感放射線性樹脂組成物の調製方法により得られた感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 モールドのパターンを連続して精密に転写でき、かつ光学的特性に優れる転写体を得ることができる転写体の製造方法を提供する。
【解決手段】 ペルフルオロ（ポリオキシアルキレン）鎖と硬化性基とを有する化合物（Ａ）を含有する硬化性材料を、最小寸法が５０μｍ以下の凹凸パターン１３が表面に形成されたモールド１４と接触した状態で硬化させ、モールド１４の凹凸パターン１３が転写された転写体を得る製造方法により解決される。 （もっと読む）

半導体装置の製造に用いられる波長の光に良好な光吸収性を示し、高い反射光防止効果を持ち、フォトレジスト層と比較して大きなドライエッチング速度を有する反射防止膜のための反射防止膜形成組成物を提供する。具体的には、窒素原子上の置換基としてヒドロキシアルキル構造を有するトリアジントリオン化合物、オリゴマー化合物又は高分子化合物、を含むことを特徴とする反射防止膜形成組成物である。 （もっと読む）

【課題】
増感剤を併用しなくとも、エネルギー線、特に３００から４５０ｎｍの波長領域の光に高い感度を有し、酸を触媒とする重合反応、架橋反応、分解反応などを利用した各種用途に効果的に使用しうる、感エネルギー線酸発生剤を提供することを目的とする。
【解決手段】
下記一般式（１）で表記される感エネルギー線酸発生剤。
一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ₀₁、Ｒ₀₂、Ｒ₀₃、Ｒ₀₄、Ｒ₀₅、Ｒ₀₆、Ｒ₀₇、Ｒ₀₈、Ｒ₀₉およびＲ₁₀はそれぞれ独立に、水素原子などを表す。
ただし、Ｒ₀₁、Ｒ₀₂、Ｒ₀₃、Ｒ₀₄、Ｒ₀₅、Ｒ₀₆、Ｒ₀₇、Ｒ₀₈、Ｒ₀₉およびＲ₁₀のうち一つは、
【化２】


を表す。
Ｒ₁₁およびＲ₁₂は、それぞれ独立に、水素原子などを表す。
Ｒ₂₁およびＲ₂₂は、それぞれ独立に、アルキル基などを表す。
Ｘ^-は任意のアニオンを表す。） （もっと読む）

【課題】
増感剤を併用しなくとも、エネルギー線、特に３００から４５０ｎｍの波長領域の光に高い感度を有し、酸を触媒とする重合反応、架橋反応、分解反応などを利用した各種用途に効果的に使用しうる、感エネルギー線酸発生剤を提供することを目的とする。
【解決手段】
下記一般式（１）で表記される感エネルギー線酸発生剤。
一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ₀₁、Ｒ₀₂、Ｒ₀₃、Ｒ₀₄、Ｒ₀₅、Ｒ₀₆、Ｒ₀₇およびＲ₀₈はそれぞれ独立に、水素原子などを表す。
Ｒ₀₉およびＲ₁₀は、それぞれ独立に、水素原子などを表す。
ただし、Ｒ₀₁、Ｒ₀₂、Ｒ₀₃、Ｒ₀₄、Ｒ₀₅、Ｒ₀₆、Ｒ₀₇およびＲ₀₈のうち一つは、
【化２】


を表す。
Ｒ₁₁およびＲ₁₂は、それぞれ独立に、水素原子など表す。
Ｒ₂₁およびＲ₂₂は、それぞれ独立に、アルキル基などを表す。
Ｘ^-は任意のアニオンを表す。） （もっと読む）