【課題】本発明は、スチレン系共重合体とノルボルネン系重合体からなる組成物であって、優れた相溶性を有して相分離せず、フィルム化が容易であり、かつ、着色がなくより透明性に優れ、加熱による着色を生じにくい樹脂組成物を提供することを課題としている。
【解決手段】本発明の樹脂組成物は、（Ａ）下記式（１）で表される構造単位（１）および下記式（２）で表される構造単位（２）を有し、色測計を用いて測定した１０重量％トルエン溶液の黄色度（ＹＩ）が５．０以下であるスチレン系共重合体と、（Ｂ）ノルボルネン系重合体とを含有する。
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【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供することである。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環上に、−ＣＨ_２−Ｙ−Ｚ¹で表される基（Ｙは、単結合または２価の連結基である。Ｚ¹は、任意の置換基を表す）を有する繰り返し単位と、特定の酸分解性繰り返し単位とを含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される構造を有し２４８ｎｍの波長に吸収を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環上に、−ＣＨ_２−Ｙ−Ｚ¹で表される基（Ｙは、単結合または２価の連結基である。Ｚ¹は、非酸分解性基を表す）を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】安定的に構造の制御されたポリマーを高い収率で得ることができるポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される骨格構造を有するジスルフィド化合物と、（Ｂ）少なくとも１種のエチレン性不飽和モノマーを含む重合成分と、（Ｃ）フリーラジカル源と、を含有する組成物をフリーラジカル重合する工程を含む、ポリマーの製造方法。


（但し、上記一般式（１）において、Ｚ^１及びＺ^２は相互に独立して、炭素数４〜１８のアルキル基又は置換されていてもよいベンジル基を示す。） （もっと読む）

【課題】 低誘電性であり、かつ塗膜形成後の経時によって一旦上昇した誘電率を加熱処理によって回復させる能力（k値回復性）を良化させた絶縁膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】 (A)少なくとも一種の有機ポリマーまたは２つ以上の不飽和基を置換基として有するカゴ型シルセスキオキサン化合物を重合させた高分子化合物、(B)溶剤、(C)下記一般式(C-1)〜(C-3)の何れかで表される少なくとも一種の有機シリコーン化合物を含有することを特徴とする。
【化１】


（R₁はメチル基等を表し、x₁は0〜95mol%, x₂は5〜100mol%、x₁+ x₂ = 100mol%であり、R₂, R₃はアルキル基等を、R₄はメチル基等を表し、X₃は5〜100mol%, x₄は0〜95mol%、x₃ +
x₄ = 100mol%であり、Rfはフルオロアルキル基を表し、x₅は0〜95mol%, yは5〜100mol%、x₅ + x₆ = 100mol%である。） （もっと読む）

【課題】カチオン重合において、重合活性が高く、取り扱いが容易で、環境負荷をかけにくい触媒、及びその触媒を用いた重合方法を提供する。
【解決手段】三フッ化ホウ素テトラヒドピラン錯体をカチオン重合触媒に用い、二重結合を含むモノマー（ビニルエーテル化合物、スチレン化合物、Ｎ−ビニル化合物）を重合させることを特徴とするポリマーの製造方法、及びその方法に用いる三フッ化ホウ素テトラヒドロピラン錯体からなるカチオン重合触媒。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、感度、解像度、ラインエッジラフネス及びパターン倒れの４点で改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のアセタール構造を有する繰り返し単位と特定のアセタール構造を有する繰り返し単位とを有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】重合度分布および変性度分布が小さい側鎖１，２−ジオール構造を含有するポリビニルアルコール系樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】ビニルエステル系単量体と一般式（１）で示される単量体を溶媒中、重合触媒の存在下で共重合させるにあたり、重合系中に前記単量体を連続的あるいは断続的に添加して共重合し、次いで得られた共重合体をケン化する。
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フォトニック結晶の製造のためのポリマー粒子の使用が記載されており、この際、このポリマー粒子は膜を形成せず、フォトニック結晶中のそれらの接触点に、格子間相の体積を３０％より多く減少させることなしに物理的又は化学的結合による粒子の結合を可能とする結合部位を有している。 （もっと読む）

【課題】エネルギーロスが少なく、生産性に優れ、熱劣化が少ない変性ポリオレフィン樹脂の製造方法を提供すること。
【解決手段】以下の連続する工程からなることを特徴とする変性ポリオレフィン樹脂の製造方法；（１）１〜４０重量％の揮発成分を含有するポリオレフィン樹脂から揮発成分を脱揮して、揮発成分量が０〜０．５重量％であるポリオレフィン樹脂（Ａ）を得る工程、ならびに、（２）該ポリオレフィン樹脂（Ａ）１００重量部と、少なくとも１種の不飽和基（ｂ１）および少なくとも１種の極性基（ｂ２）を有する化合物（ｂ）０．０１〜２０重量部と、有機過酸化物（ｃ）０．００１〜２０重量部とを反応させて、変性ポリオレフィン樹脂（Ｂ）を製造する工程。 （もっと読む）

【課題】薄膜であっても優れた耐候性を発揮する紫外線吸収層を形成でき、製造過程の乳化重合において油滴が安定する水分散型組成物、およびその製造方法の提供。
【解決手段】２５℃で固体状の紫外線吸収性モノマー(I)３０〜８５質量部と、前記モノマー(I)と共重合可能かつ架橋性を有さないモノマー(II)７０〜１５質量部と、前記モノマー(I)およびモノマー(II)の全量１００に対する質量比が２０〜５０の重合性ノニオン型界面活性剤とを含水媒体中で乳化重合して得られた紫外線吸収性ポリマーと、水とを有し、紫外線吸収層を形成するために用いられる水分散型組成物。 （もっと読む）

【課題】重合反応を阻害する有機溶媒や、人体への悪影響を及ぼす可能性の高い物質を使用することなく、共重合性の低いシリコン含有モノマーと、親水性モノマーの共重合を可能とし、眼用レンズとして必要な含水性、強度、透明性、酸素透過性に優れた眼用レンズを提供する。
【解決手段】ポリシロキサンマクロマーおよび／あるいはシリコン含有（メタ）アクリレート、親水性モノマー、ビニルエーテルおよびそれらと共重合可能なモノマーから成り、酸素透過係数が８０×１０^−１１（ｃｍ^２／ｓｅｃ）・（ｍＬＯ_２／ｍＬ×ｍｍＨｇ）以上の含水性眼用レンズ。 （もっと読む）

【課題】 芳香族系ポリマーの芳香環から工業的に有利な製造条件下で高転化率・高選択率で脂環族系ポリマーを製造できる方法を提供すること。
【解決手段】 有機溶媒の存在下、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白金、ニッケル及びコバルトからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属からなる金属微粒子触媒を用いて、芳香族系ポリマーの芳香環を水素化して脂環族系ポリマーを製造する。
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【課題】優れた機械特性、成形加工性、外観を低下させることなく、耐熱性、耐薬品性、寸法安定性を改良したスチレン系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）スチレン系樹脂５０〜９９．９重量部、(ｂ１)不飽和カルボン酸アルキルエステル単位、(ｂ２)グルタル酸無水物単位を有する共重合体、もしくは上記単位に(ｂ３)不飽和カルボン酸単位を有する共重合体、又は上記(ｂ１)(ｂ２)もしくは上記(ｂ１)(ｂ２)(ｂ３)の単位にさらに(ｂ４)その他のビニル系単位を有する（Ｂ）共重合体０．１〜５０重量部を含むスチレン系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、（Ａ）１個の重合性エチレン性不飽和結合を含む１つ以上の単量体であって、その内の少なくとも１つはシリルエステル官能基を含む単量体、（Ｂ）２個以上の重合性エチレン性不飽和結合を含む１つ以上の単量体、及び（Ｃ）１つ以上の連鎖移動剤の繰り返し単位を含む分岐シリルエステル共重合体に関する。さらに、本発明は、防汚塗料組成物の含有成分としての前記分岐シリルエステル共重合体の使用、ならびに前記分岐シリルエステル共重合体と１つ以上の他の成分を含む防汚塗料組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等においてレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、現像時のディフェクトが少なく、レジスト膜の薄膜化に耐え得るドライエッチング耐性を有するレジスト用モノマー、レジスト用重合体、レジスト用重合体を含むレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 下記式（１−１）で表されるナフタレン骨格を有する構造単位（Ａ）を含有するレジスト用重合体。
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【課題】
液晶相を示す温度範囲が広く、化学的に安定であり、安価に製造でき、しかも、選択反射波長帯域Δλが広い、すなわち光学異方性Δｎの大きな重合性液晶化合物、この化合物を含有する重合性液晶組成物、これらを重合して得られる液晶性高分子、並びに、この液晶性高分子を構成材料とする光学異方体を提供する。
【解決手段】
メソ源としてアジン骨格を有する鎖状の重合性液晶化合物；前記重合性液晶化合物及び前記重合性液晶化合物と重合可能な重合性キラル化合物を含有する重合性液晶組成物；前記重合性液晶化合物又は前記重合性液晶組成物を重合して得られる液晶性高分子；並びに前記液晶性高分子を構成材料とする光学異方体。 （もっと読む）

本開示は、少なくとも１つのビニル基を有する少なくとも１種のリン脂質を含む第１のモノマー、ならびにビニル基および／またはアクリレート基を有するフラノンを含む第２のモノマーを含むコポリマーを提供する。このようなコポリマーを含む組成物、医療機器、および被膜も提供する。本開示のコポリマーおよび／または組成物は、物品からの抗菌剤の喪失を最小限に抑え、かつ／または抗菌剤の包装材料などへの移動を最小限に抑えながら微生物から長期間保護する、抗菌剤を医療機器、包装材料またはテキスタイルに組み込むか、または施すための、簡単で安価な方法を提供する。 （もっと読む）