【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）、及び露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ^２は２価の連結基である。］。
（もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）に優れたレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ｒ^２は脂肪族炭化水素基；Ａ^１は、単結合、脂肪族炭化水素基等；Ａ^２は、単結合又は脂肪族炭化水素基；環Ｗ^１は脂肪族環；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は、２価の脂肪族炭化水素基；Ｙは、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基；Ｚ⁺は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れた解像度でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、式（Ｉ）で表される塩とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、同一又は相異なり、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、単結合又は２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置き換わっていてもよく、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子等に置き換わっていてもよい。Ｒ^１は、炭化水素基等を表す。Ｒ^２は、水素原子又はアルキル基を表す。ｍは、０〜４の整数を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたパターン倒れ耐性（ＰＣＭ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式（Ｉ）で表される化合物とを含むレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、
Ｒ^1a及びＲ^1bは、同一又は相異なり、炭素数１〜１８の炭化水素基を表し、該炭化水素に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わってもよく、Ｒ^1aとＲ^1bが一緒になって置換基を有してもよい環を形成してもよい。
Ｒ^２及びＲ^３は、同一又は相異なり、置換基を有してもよい炭素数１〜１８の炭化水素基を表し、Ｒ^２とＲ^３が一緒になって置換基を有してもよい環を形成してもよい。］ （もっと読む）

【課題】塗膜の高密着性及び高透明性を損なうことなく、優れた表面保護機能を発現する硬化膜を与える感光性組成物を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和結合含有基（ｘ）を有するフタル酸エステル、トリメリット酸エステル及びピロメリット酸エステルからなる群から選ばれる少なくとも１種のエステル化合物（Ａ）、重合開始剤（Ｃ）、並びに必要により、ウレタン基及び／又はウレア基を有する（メタ）アクリレート（Ｂ）と活性エネルギー線により酸を発生する酸発生剤（Ｄ）の少なくとも一方を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型感光性組成物。前記エチレン性不飽和結合含有基（ｘ）は、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、１−プロペニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】環境衛生上の問題が少なく、硬度、密着性、耐薬品性に優れた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】活性エネルギー線の遮断下で、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸から選ばれるカルボキシル基含有不飽和モノマー(a)、重合性不飽和基を有する光増感剤(ｂ)、反応性官能基を含有する不飽和モノマー(ｃ)、及びこれらと共重合可能な他の不飽和モノマー(ｄ)の混合物を共重合する。この共重合体に(c)と反応可能な炭素−炭素不飽和二重結合を含有する化合物(ｅ)を付加反応させ、1分子中に2つ以上の炭素−炭素不飽和二重結合、1つ以上の活性エネルギー線によりラジカルを発生する光増感性官能基、1つ以上のカルボキシル基を含有するポリマー化合物(A)を得る。次にポリマー化合物(A)中のカルボキシル基を塩基で中和する。この場合、上記(ｃ)化合物と (ｅ)の化合物を特定の組合せとする。
さらにポリマー化合物(A)に上記多官能不飽和モノマーまたはオリゴマー(Ｂ)を混合したものも含まれる。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基により水酸基が保護された構造を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、光酸発生剤と、有機溶剤と、フッ素原子を有する繰り返し単位を含有し、かつ水酸基を含有しない高分子添加剤とを含み、高分子添加剤の含有量が全高分子化合物の含有量に対して１〜３０質量％であるレジスト組成物を基板に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明のレジスト組成物は、液浸露光可能な高い後退接触角を示すと共に、有機溶剤ネガ現像と組み合わせることで高い解像性、微細トレンチパターンやホールパターンの広い焦点深度を示し、ラインパターン側壁の垂直性を高め、パターン倒れ耐性を向上させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】優れた露光マージンでレジストパターンを製造するレジスト組成物、及び当該レジスト組成物に含有される新規な塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、及び当該塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物の提供。


［式（Ｉ）中、
Ｑ¹及びＱ²は、フッ素原子などを表す。
Ｘ^１及びＸ^２は、単結合又は脂肪族飽和炭化水素基などを表す。Ａ^１は、炭素数１〜３０の有機基を表す。
Ｚ⁺は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れた硬化能を持つ重合性化合物、及びそれを含有する組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）等で表される特定構造を有する（メタ）アクリルアミド化合物、及びそれを含有する組成物。


（一般式（Ｉ）中、Ｒは水素原子又はメチル基を表し、Ｒは互いに同じでも異なっていてもよい。ｎ及びｍは、それぞれ独立に２又は３を表す。） （もっと読む）

【課題】 従来の紫外線吸収剤を用いた場合に比して、耐光性、非ブリードアウト性、相溶性、耐水性、及び耐熱性に優れ、単独又は種々の樹脂との配合で、光劣化が抑制されるとともに、耐久性の向上した塗料を提供する。
【解決手段】
紫外線吸収型ポリマー（Ａ）と、ポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンとを含むポリマー組成物を含有してなる塗料が提供される。紫外線吸収型ポリマー（Ａ）は、二重結合及び紫外線吸収基を有する化合物（ａ）と、二重結合含有成分（ｈ）とを含む重合成分を重合させて得られる重合生成物であり、ポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンとしては、活性水素含有基及びアニオン性親水性基（水酸基を除く。）を有する化合物（ｂ）と、ポリオール（ｃ）及び／又はポリアミン（ｄ）と、ポリイソシアネート（ｅ）と、を含む反応成分を反応させて得られる反応生成物の水分散体が用いられる。 （もっと読む）

【課題】硬化した表面の指紋による汚れが拭取り易く、目立たず、かつ耐擦り傷性のような硬度に優れるハードコート材及びそれに含まれる活性エネルギー線硬化型樹脂を提供する。
【解決手段】脂環式骨格を有するビニルモノマー（Ａ）、分子中にエポキシ基を有するビニルモノマー（Ｂ）を（Ａ）：（Ｂ）＝２０：８０〜５０：５０の質量比で含有する重合成分を重合して得られる共重合体（Ｉ）と、α,β−不飽和カルボン酸とを反応させて得られる活性エネルギー線硬化型樹脂。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れ、ディフェクトの低減が可能なポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）と、式（ａ０−２）で表される構成単位（ａ０−２）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有する。
（もっと読む）

【課題】高解像性で良好な形状の孤立ラインパターンを形成することができ、且つ、ラフネス特性および露光後加熱温度依存性（ＰＥＢＳ：Post Exposure Bake Sensitivity）を含む他のレジスト性能にも優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのフェノール性水酸基と、フェノール性水酸基の水素原子が一般式（１）で表される基によって置換されている基を少なくとも１つ含む化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】従来から知られるレジスト組成物では、レジストパターン製造時のラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が必ずしも十分ではない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、同一又は相異なり、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は、炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子等に置き換わっていてもよい。Ｘ^１は、単結合又は−ＮＲ^１−を表す。Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。環Ｗは、炭素数３〜３６の脂肪族環を表し、該脂肪族環を構成するメチレン基は、酸素原子等に置き換わっていてもよく、該脂肪族環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基等に置き換わっていてもよい。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】ディフェクトの発生を低減することができ、且つ保存安定性に優れたレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、末端にフッ素化アルキルエステル基を有するフッ素含有有機基を側鎖に有する化合物成分（Ｆ）とを含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）で、レジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Ｘ^１は、単結合又は−ＮＲ^１−を表す。Ｘ^２は、脂肪族炭化水素基を表す。Ｗは、脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、カルボニル基等で置き換わっていてもよく、脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、アルキル基等に置き換わっていてもよい。Ｒ^１は、水素原子又はアルキル基を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、現像時間依存性が小さく、かつ現像により形成されるパターン部の膜べりを抑制する。
【解決手段】（ア）酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により下記一般式（Ｉ）によって表される酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程、を含む、パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。
（もっと読む）

【課題】高感度であり、保存安定性及び硬化膜の透明性に優れ、現像寛容度が広い感光性樹脂組成物、並びに、それを用いた硬化膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】式（１）で表されるオキシムスルホネート化合物、酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位を有する樹脂、及び、溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。Ｒ¹はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ²はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、Ａｒ¹はｏ−アリーレン基又はｏ−ヘテロアリーレン基を表し、ＸはＯ又はＳを表し、ｎは１又は２を表す。２以上存在するＲ²のうち、少なくとも１つはアルキル基、アリール基又はハロゲン原子である。
（もっと読む）

【課題】繰り返して使用しても移動度の変動が抑制される電荷輸送性膜が得られる新規な化合物を提供することである。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される反応性化合物。一般式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性骨格を示し、Ｄは下記一般式（ＩＩＩ）で示される基を示す。ｍは１以上８以下の整数を示す。一般式（ＩＩＩ）中、Ｌは、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−基を１つ以上含む２価の連結基を示す。
（もっと読む）

【課題】高い解像力、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ）、優れたパターン形状、及び、高感度を同時に満足したパターンを形成できるレジストパターン形成方法、レジストパターン、ポジ型レジスト組成物、ナノインプリント用モールド、及びフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、ポジ型レジスト組成物を用いて膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び露光後にアルカリ現像液を用いて現像する工程をこの順番で有する、レジストパターンの形成方法において、前記ポジ型レジスト組成物が下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物を含有し、前記工程で形成された膜の膜厚が１５ｎｍ〜４０ｎｍであり、かつ、前記アルカリ現像液中のアルカリ成分の濃度が０．５質量％〜１．１質量％である、レジストパターン形成方法。


一般式（Ｉ）中、Ｙの少なくとも１つは、酸の作用により脱離する基を表す。 （もっと読む）