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Fターム[4J100BA28]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 構成元素 (28,779) | N含有基 (5,481) | イミノ基(−NH−、−NR−) (355)

Fターム[4J100BA28]に分類される特許

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【課題】解像性、感度、及び経時安定性に優れ、かつ良好な形状のパターン形成を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する基およびプロトンアクセプター基をともに有する繰り返し単位(A)を備えた樹脂(P)を含有している。 (もっと読む)


【課題】
本発明の課題は、下水処理場における下水混合生汚泥や下水余剰汚泥、下水消化汚泥、各種余剰汚泥に対して良好な凝集とケーキ含水率低下能の高い汚泥脱水剤を開発することにより、種々の脱水機に対応でき、脱水ケーキ含水率低下の要求を満足し、同時に架橋あるいは分岐した水性高分子の難点とされる薬剤添加量の増加にも対応でき汚泥脱水剤を、ポリアミジン系水溶性高分子を用いず、市販品として汎用されている(メタ)アクリル系単量体を使用して開発する。
【解決手段】
下記(A)と下記(B)を含有する凝集処理剤によって達成できる。
(A);特定のカチオン性単量体80〜100モルとその他の単量、および前記単量体混合物に対し20〜300ppmの架橋性単量体を添加して重合した水性高分子。
(B);(A)とは異なる特定のカチオン性単量体80〜100モルとその他の単量体を添加して重合した水性高分子。
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【課題】レジストパターンの製造時のフォーカスマージン(DOF)が良好であり、あるいはマスクエラーファクター(MEF)に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造できるレジスト組成物などを提供する。
【解決手段】式(a)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び溶剤を含有するレジスト組成物。


[式(a)中、Rは、水素原子又はメチル基;Aは、置換基を有していてもよいアルカンジイル基又は式(a−g1);sは0又は1;A10及びA12は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基;A11は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は単結合;X10及びX11は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基;ただし、A10、A11、A12、X10及びX11の合計炭素数は6以下;Rは置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。] (もっと読む)


【課題】高解像性のレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分と、光塩基発生剤成分とを含有するレジスト組成物を用いて、支持体上にレジスト膜を形成する工程(1)と、前記レジスト膜を露光する工程(2)と、前記工程(2)の後にベークを行い、前記レジスト膜の露光部において、前記露光により前記光塩基発生剤成分から発生した塩基と、前記レジスト膜に予め供給された酸とを中和させ、前記レジスト膜の未露光部において、前記レジスト膜に予め供給された酸の作用により、前記基材成分のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる工程(3)と、前記レジスト膜をアルカリ現像し、前記レジスト膜の未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程(4)とを含むレジストパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】生産性が高く、ガラス転移温度の均一性に優れ、変性率が高く、粘弾性特性が良好で、ビニル結合量が高い変性共役ジエン系共重合体が得られる、変性共役ジエン系共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】共役ジエン系単量体とビニル芳香族単量体とを、有機リチウム化合物開始剤を用いて共重合させる重合工程と、前記重合工程により得られる共役ジエン系共重合体に、官能基含有化合物を反応させる変性工程と、を有し、 前記重合工程において、下記化合物(1)、(2)をモル比で(2)/(1)=0.01以上0.1未満とし、かつモル比で(2)/有機リチウム化合物=0.02〜0.2として共存させる変性共役ジエン系共重合体の製造方法。
(1)酸素原子を2個以上有し、少なくとも1個の酸素原子が環状エーテル構造を構成するエーテル系化合物。
(2)ナトリウムアルコキシド。 (もっと読む)


【課題】乾燥工程が不要でかつ、カットミスの少ないアクリル系樹脂組成物からなるミニペレットの製造方法を提供する。
【解決手段】押出機で溶融混練したアクリル系樹脂組成物からペレット直径0.4mm以上、1mm以下のペレットを製造する方法であって、ダイスから吐出したストランドを少なくとも冷却水に接触し、その冷却水接触時間が0.2秒以下、冷却水水温が20℃以上、80℃以下、ダイスから吐出したストランドの(樹脂温度−ガラス転移温度)が120℃以下、ダイスから水切装置までのガイドロールの溝数がストランドの本数以上、を実施する。 (もっと読む)


【課題】金属含有量が高く、簡便に調製することのできる有機無機複合体を提供することであり、且つ、クロスカップリング反応に対して高活性・高耐久性で、反応系内に漏出する金属量の少ない不溶性固体触媒として機能する有機無機複合体、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】重合性組成物(A)の重合体(P)と金属ナノ粒子との複合体であって、該重合性組成物(A)が、(1)アミノ基、イミノ基、ウレア結合又はアミド結合と、ビニル基とを有する重合性化合物(a)と、(2)分岐していてもよい炭素数4〜12のアルキレン基及び2個以上のビニル基を有する重合性化合物(b)と、を含むことを特徴とする有機無機複合体。 (もっと読む)


【課題】 本願発明の目的は、光学異方体の材料として供される重合性液晶組成物において、紫外線照射による重合と加熱による重合を併用したパターン化膜作製の際に、ひび割れの無い良好な膜が得られる材料を提供することにある。
【解決手段】 重合性液晶化合物、光重合開始剤、及び熱重合開始剤を含有する重合性液晶組成物において、該熱重合開始剤の10時間半減温度が70℃以上93℃以下であることを特徴とする重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物を硬化させた光学異方体を提供する。 (もっと読む)


【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性を改善できるタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】特定の窒素含有化合物に由来する構成単位を主鎖中に有する変性スチレンブタジエンゴムを含むゴム成分と、シリカと、特定のシランカップリング剤とを含有するタイヤ用ゴム組成物に関する。 (もっと読む)


【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能を高次元で両立できるとともに、耐摩耗性も良好なタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】特定の窒素含有化合物をモノマーとして用いた変性スチレンブタジエンゴムと、シリカと、特定量のジエン系ゴムゲルとを含有するタイヤ用ゴム組成物に関する。 (もっと読む)


【課題】乾燥工程において使用する乾燥機等の金属部分への付着を抑え、かつ乾燥性に優れ、さらに、その分子量分布の経時変化が少ない変性共役ジエン系重合体組成物、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】アミノ基とアルコキシシリル基を有する化合物に基づく変性基が結合した変性共役ジエン系重合体(A)100質量部に対し、有機酸由来の化合物(B)を0.002〜0.2質量部含む変性共役ジエン系重合体組成物。 (もっと読む)


【課題】高感度、高解像性(例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス(LER))、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できるレジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクスを提供することにある。
【解決手段】非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基で、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物(A)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び、酸の作用により前記高分子化合物(A)を架橋する架橋剤(C)を含有する、ネガ型化学増幅型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程(1)、該膜を露光する工程(2)、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程(4)をこの順番で有する、レジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクス。 (もっと読む)


【課題】現像液への溶解性が高い着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤、バインダー樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、
バインダー樹脂が、メタクリル酸に由来する構造単位、アクリル酸に由来する構造単位並びにメタクリル酸及びアクリル酸と共重合可能な単量体に由来する構造単位を有する共重合体を含む樹脂である着色感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】化学発光免疫診断測定等において使用する固相表面や器具・容器などへのタンパクなどの非特異吸着を防止することができる生体関連物質の非特異吸着防止剤、ならびに、該非特異吸着防止剤を用いた物品のコーティング方法を提供する。
【解決手段】生体関連物質の非特異吸着防止剤は、下記一般式(1)で表される繰り返し単位(A)と、特定の式で表される繰り返し単位(B)とを有する共重合体を含有する。


・・・・・(1) (もっと読む)


【課題】糖鎖および/または糖の誘導体を含む生体試料の分析に用いられる糖鎖捕捉物質の製造方法およびこの製造方法に用いることができるモノマー、このモノマーを重合して得られるポリマーを提供する。また、その試料調製方法の用途を提供する。
【解決手段】下記の(式13)で表される構造を有するモノマー。


(R2はH,CH3,または炭素数2〜5の炭化水素鎖,R6は−O−,−S−,−NH−,−CO−,−CONH−で中断されてもよい炭素数1〜20の炭化水素鎖,[P]は保護基を示す。) (もっと読む)


【課題】現像性が高く、耐刷性に優れた平版印刷版原版、並びにそれを用いた製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、星型ポリマー、ラジカル重合性化合物及びラジカル重合開始剤を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版であって、該星型ポリマーが、スルフィド結合を介して中心骨格からポリマー鎖が分岐し、ポリマー鎖の側鎖に酸基及び架橋性基を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】優れた現像性を示し、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移り、色ムラを低減した着色パターンを形成し得る着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】(A)色素多量体、(B)重合性化合物、(C)光重合開始剤、及び(D)有機溶剤を含有し、(X)色素骨格を含まない無機金属塩の染料固形分に対する含有量が0.1質量%以下である着色感放射線性組成物。 (もっと読む)


【課題】溶液から金属、特にパラジウムを除去するスカベンジャー担体を提供する。
【解決手段】スカベンジャー担体を、リンカーを介して担体に結合した、ヒドロカルビル基、過ハロゲン化ヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基を有する1,3-ケトエステル類又は1,3-ケトアミド類又はこれらの混合物から選択されるペンダント基を含む官能性化担体と、置換されているヒドラジン又はそれらの塩又は特定の化学構造を有するアミンとの反応により得る。 (もっと読む)


【課題】ヒドラジド基を含む物質Aと、糖鎖および/または糖の誘導体とを、当該物質Aのヒドラジド基と当該糖鎖および/または糖の誘導体の還元末端との間のヒドラゾン形成によって結合することを特徴とする試料調製方法を提供する。
【解決手段】糖鎖および/または糖の誘導体を含む生体試料より分析試料のための糖鎖および/または糖の誘導体を、簡単な操作で分離精製することを可能にする。 (もっと読む)


【課題】充填材の分散性をより改善することができ、低発熱性、耐摩耗性に優れたゴム組成物及び該組成物を用いてなる、上記特性を有する空気入りタイヤを提供すること。
【解決手段】配合工程において充填材表面と反応する変性部位(A)を分子構造中に含む変性ポリマー(B)5〜90質量部と他のポリマー成分(C)95から10質量部からなるゴム成分において、他のポリマー成分(C)がポリマーの生産工程で添加された有機酸の残渣(D)を含み、そのゴム成分100質量部に対して、補強性充填材(E)10〜150質量部、前記(D)と配合時に添加される有機酸(F)との総和が3.5質量部以下であることを特徴とするゴム組成物である。 (もっと読む)


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