【課題】省燃費性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記化合物（Ｉ）及び（ＩＩ）を重合開始剤成分として用いて、共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させる共役ジエン系重合体の製造方法。
（Ｉ）有機アルカリ金属化合物
（ＩＩ）下記式（１）で表される化合物


（式中、Ｒ¹¹及びＲ¹²は置換基を有してもよい炭素原子数１〜２０のヒドロカルビル基を表す。） （もっと読む）

【課題】フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位、下記一般式（２）で表される繰り返し単位及び下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅ポジ型レジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】 少ない紫外線照射量で配向の制御が可能な液晶配向性を有し、任意のプレチルト角を得ることができ、光安定性に優れた液晶の配向層用組成物及び溶剤等により浸食されない当該組成物を用いた光配向可能な液晶配向層を提供し、更に、当該液晶配向層を用いた液晶表示素子及び光学補償フィルム等の光学異方体を提供する。
【解決手段】 (a)光化学的に異性化可能な部位を有するポリマーと、(b)光化学的に架橋可能な部位を有するポリマーとを含み、前記(a)及び(b)が異なった構造を有することを特徴とする液晶の配向層用組成物及び当該組成物を用いた液晶配向層を提供する。 （もっと読む）

【課題】
ホフマン反応をさせた後、変性後の高分子相と水相とに分離するポリアミジン系高分子水溶液の濃縮を簡便で効率の良い操作によって行なうことを提供する。
【解決手段】
高分子水溶液の濃縮方法に関するものであり、（メタ）アクリルアミドと（メタ）アクリルニトリルの共重合物を、次亜ハロゲン酸アルカリ、あるいはこれを形成し得る物質、及び苛性アルカリによってホフマン反応をさせた後、酸を添加し水溶液のｐＨを中性以下に調整しアミジン化反応をさせた後、酸を添加し前記水溶液のｐＨを４〜６に調整し、変性後の高分子相と水相とに分離することにより濃縮を簡便で効率良く達成することができる。
（もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）のレジストパターンの製造。
【解決手段】式（ａａ）、（ａｂ）で表される構造単位を有する樹脂（Ｘ）及び酸発生剤（Ｂ）を含有する組成物。


［式中、Ａ^aa1は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等で表される基等；Ｒ^aa2は、脂肪族炭化水素基；Ｒ^ab2は芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】目標の物性に対して、重合体の構造設計が容易となる、新規なポリアルキレングリコール系重合体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される構成単位を含むポリアルキレングリコール系重合体。
【化１】


〔式中、Ａ¹、Ａ²、Ａ³はそれぞれ炭素数２〜４のアルキレン基であり、ｎ１、ｎ２、ｎ３はそれぞれ６〜３００の数である。〕 （もっと読む）

【課題】 膨潤率に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 樹脂（Ａ）および感放射線酸発生剤（Ｂ）を含み、樹脂（Ａ）の少なくとも１種が、一般式（１）で表される、酸解離性基により保護された酸基を有する構造単位（Ａ１）を含み、かつ、架橋性基を含む、ポジ型感光性樹脂組成物。
一般式（１）
（もっと読む）

【課題】外観、塗布性、防曇性、耐水性及び耐熱性等に優れた、透明防曇性塗膜を形成できる吸水性樹脂組成物およびこれを用いた積層体を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリルアミド系モノマーを他のモノマーと共重合した特定の（メタ）アクリルアミド系共重合体（Ａ）と、少なくとも１種類の２官能以上の（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）とを組み合わせることで、優れた防曇性を有する活性エネルギー線硬化型の吸水性樹脂組成物およびこれを用いた積層体を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、液浸露光においてレジスト膜の露光部から酸が液浸液に溶出することを低減し、ウォーターマーク欠陥及び現像欠陥を抑制できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）スルホンアミド構造を有する疎水性樹脂、及び、
（Ｄ）２種以上の溶剤からなり、沸点が２００℃以上の溶剤を含有する混合溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】液浸露光時において被膜表面の疎水性を高くしつつ、現像不良による欠陥の発生を抑制でき、しかもリソグラフィ性能に優れたレジスト被膜を形成する。
【解決手段】重合体成分を含有し、当該重合体成分中に、下記式（１）で表される繰り返し単位（ａ１）と、式（Ｆ１−１）、式（Ｆ１−２）及び式（Ｆ１−３）で表される繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも１つの繰り返し単位（ｆ１）と、を有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
（もっと読む）

【課題】ポリビニルアミン又はポリアミジンから成る水溶性ポリマーの製造方法であって、変性工程で塩酸を使用しながらも水溶性ポリマー粒子同志の合着現象を抑制した、工業的に有利な上記の製造方法を提供する。
【解決手段】疎水性有機溶媒中、乳化剤の存在下、Ｎ−ビニルカルボン酸アミド又はこれと他の共重合成分および重合開始剤を含む単量体水溶液を懸濁重合させて（共）重合体粒子のスラリーを得る重合工程、得られた（共）重合体粒子のスラリーに塩酸を添加して変性する変性工程を順次に包含するスラリー状の水溶性ポリマーの製造方法であって、重合工程における単量体水溶液中の単量体濃度を２０〜８０重量％とし、変性工程における塩酸の濃度を２５〜４０重量％とし、そして、重合工程と変性工程との間に蒸留脱水工程を設け、変性工程における塩酸に同伴される水分量を含めて計算される重合系内の水分量を３５重量％以下になるように蒸留脱水する。 （もっと読む）

【課題】生体反応への糖鎖の関与に関する研究に有用な支持体、さらに、生体組織など莢雑物を含む試料から糖鎖および糖鎖含有物質のみを、簡単な操作で分離精製するための、ポリマー粒子、また、基板上に糖鎖を固定化したデバイスである糖鎖チップを、簡便かつ効率的な方法で作製する手段を提供する。
【解決手段】糖鎖のアルデヒド基と特異的に反応する官能基を担持してなる支持体であり、官能基がオキシルアミノ基，ヒドラジド基，及びセミチオカルバジド基から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする支持体、およびこの支持体を適用したポリマー粒子ならびに糖鎖チップ。 （もっと読む）

【課題】高温での処理を行わないで架橋させることが可能な有機素子材料を提供すること。
【解決手段】フッ素原子を含む基を有する繰り返し単位と、光二量化反応性基を有する繰り返し単位とを有する高分子化合物を含む有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。フッ素原子を含む基の好ましい例は、水素原子がフッ素で置換されたアリール基、水素原子がフッ素で置換されたアルキルアリール基、特に水素原子がフッ素で置換されたフェニル基、水素原子がフッ素で置換されたアルキルフェニル基である。光二量化反応性基の好ましい例は、２位の水素原子がアリール基で置換されたビニル基、２位の水素原子がアリールカルボニル基で置換されたビニル基である。 （もっと読む）

【課題】粒子径の大きなシリカを配合し転がり抵抗を低減しながら耐摩耗性及び操縦安定性を向上するようにしたタイヤトレッド用ゴム組成物を提供する。
【解決手段】末端変性基を有する変性共役ジエン系重合体ゴムを３０重量％以上、天然ゴムを１５重量％以上含むジエン系ゴム１００重量部に対し、充填剤を４０〜１２０重量部配合すると共に、前記充填剤がシリカを５０重量％以上含み、該シリカが、ＣＴＡＢ比表面積（ＣＴＡＢ）が８０〜１００ｍ²／ｇ、このＣＴＡＢに対するＤＢＰ吸収量（ＤＢＰ；単位ｍｌ／１００ｇ）の比（ＤＢＰ／ＣＴＡＢ）が１．７５５以上であるシリカを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れを防止しつつ、より微細な線幅のラインアンドスペースパターンを
製造し得るレジスト組成物及び該レジスト組成物に有用な樹脂を提供する。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔２〕の提供。
〔１〕式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂。


［式（ａａ）中、
Ｔ^１は置換基を有していてもよい炭素数４〜３４のスルトン環基を表す。
Ｚ^１は、炭素数１〜６のアルカンジイル基などを表す。］
〔２〕前記樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】これまでに検討がなされていなかった新規化合物であるジエン系カルボン陰酸イオンおよびその塩を提供するものであり、さらに、汎用の有機溶媒や反応性希釈剤、樹脂に易溶であり、構造によっては常温で液状とすることも可能であり、さらに高い重合性を有するジエン系カルボン酸陰イオンおよびその塩、特に金属塩を提供する。これらを重合・硬化させれば、その構造中に多くのイオン結合、さらには金属が導入された樹脂となり、硬度、耐擦傷性、耐指紋付着性、ガスバリア性、水蒸気バリア性、酸素吸収性、紫外線カット、赤外線カット、発色・着色、高屈折率、密着性、各種触媒能、蛍光・発光能、光増幅、分散性、帯電防止等、様々な諸特性が発揮される。また、機能性微粒子の原料、ナノ金属微粒子コンポジットの原料としても有用であり、さらに、ＭＯＤ材料としても好適に用いることができる。そして、該ジエン系カルボン酸陰イオンおよびその塩を製造するための有利な方法をも提供するものである。
【解決手段】特定の構造を有するジエン系カルボン酸陰イオン。 （もっと読む）

【課題】多層ブロー成形や多色射出成形などの成形方法を用いた場合でも、接着性官能基含有フッ素樹脂からなる層と変性ポリオレフィン樹脂からなる層とが直接、強固に接着し、初期接着性及び初期接着性の均一性、さらに、保持接着性に優れる積層体を提供する。
【解決手段】変性ポリオレフィン樹脂からなる層（Ｂ−１）、及び、前記層（Ｂ−１）上に形成された接着性官能基含有フッ素樹脂からなる層（Ｃ）を有し、層（Ｂ−１）を構成する変性ポリオレフィン樹脂は、イミノ基又はカルボジイミド基を有する変性ポリオレフィンであり、前記層（Ｃ）を構成する接着性官能基含有フッ素樹脂は、前記層（Ｂ−１）を構成する変性ポリオレフィン樹脂の有する官能基に対して反応性を示す接着性官能基を、主鎖末端および／または側鎖末端に有することを特徴とする積層体。 （もっと読む）

【課題】離型性に優れたインプリント用の樹脂モールド材料および樹脂レプリカモールド材料組成物の提供、該材料組成物を含んでなる樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド並びにそれらの製造方法の提供。
【解決手段】インプリント用のモールド樹脂もしくはレプリカモールド樹脂と、硬化性のフッ素系ポリマー（Ａ）０．１〜１０重量％とを含む、インプリント用の樹脂モールド材料もしくは樹脂レプリカモールド材料組成物。好ましくは、フッ素系ポリマー（Ａ）が、
（ａ１）炭素数４〜６のフルオロアルキル基を有するα位置換アクリレート、および
（ａ２）ホモポリマー状態でのガラス転移点または軟化点が５０℃以上を示す高軟化点モノマー ５〜１２０重量部を繰り返し単位として含んでなり重量平均分子量が３，０００〜２０，０００であるフッ素系ポリマー（Ａ１）である材料組成物。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性に優れ、欠陥の発生数の少ないレジスト組成物に有用な樹脂及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔１〕と、酸発生剤と、溶剤とを含有するレジスト。〔１〕式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂。


［式（ａ）中、Ｒｆは、フッ素原子又はフッ素化アルキル基を表す。Ｗは、炭素数３〜３６の脂肪族環を表す。Ｒｘは、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。］ （もっと読む）

【課題】対象物を強固に接着して支持しつつ、支持体を対象物から分離可能な積層体およびその積層体の分離方法を提供すること。
【解決手段】本発明の積層体は、光透過性の支持体と被支持基板と接着層と支持体および被支持基板との間に設けられ、光吸収性を有している構造をその繰返し単位に含んでいる重合体を含有している分離層とを備えており、重合体は支持体を介して照射される光を吸収することによって変質する。 （もっと読む）