【課題】 ハイドロタルサイトの粒子が凝集せずに高濃度であっても微分散したＰＶＡ系樹脂組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 ビニルエステル系樹脂溶液を、ハイドロタルサイトの存在下で、ケン化度６５モル％超〜１００モル％の範囲でケン化する。ＰＶＡ系樹脂の製造段階でハイドロタルサイトを混合することにより、ハイドロタルサイトを高濃度に含有させたＰＶＡ系樹脂組成物であっても、前記ハイドロタルサイトの９０％以上の粒子の粒径が６００ｎｍ以下で微分散したＰＶＡ系樹脂組成物を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 分子中にエステル基とアミノ基又はその４級塩基とを有するポリマーの製造中又は製造後に発生する臭気を低減させ、臭気の低減されたポリマーを製造する方法、並びに臭気の低減された繊維改質用ポリマーの提供。
【解決手段】 分子中にエステル基とアミノ基又はその４級塩基とを有するポリマーを製造する方法であって、溶媒として沸点１８０℃以上のヒドロキシ化合物を用い、エステル基を有するモノマーとアミノ基又はその４級塩基を有するモノマーを含有するモノマー成分（但し、エステル基を有するモノマーとアミノ基又はその４級塩基を有するモノマーが同一モノマーであっても良い）を重合させるポリマーの製造方法、並びにその製造方法により得られる繊維改質用ポリマー。 （もっと読む）

【課題】加工時の発生ガス量の少ないアクリル系樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】アクリル系樹脂と必要に応じて低揮発成分を押出機に添加して、所望の反応（例えば、イミド化反応）を進める際に、例えば５０ｃｍ／ｓ以上高回転で押出機を運転しながら、更に好ましくはベントから高真空（例えば、絶対圧８ｋＰａ未満の圧力）で揮発分を除去することによって加工時の発生ガス量の少ないイミド化アクリル系樹脂等のアクリル系樹脂を製造できる。 （もっと読む）

【課題】レジスト下層膜材料であって、エッチング速度が速く、このためエッチング時間を短縮してエッチング中のレジストパターンの膜減りを少なく、パターンの変形も小さく抑えることが出来る。そのため、パターンの転写を高精度に行うことができ基板に良好なパターンを形成することができるレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】少なくとも下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むことを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化５５】
（もっと読む）

【課題】基板・ＤＦＲに対する密着性に優れ、サンドブラストにより容易に削ることができ、サンドブラストによる隔壁破壊を生じないガラスペーストを提供する。
【解決手段】単独重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）が４０℃以上の（メタ）アクリレートモノマーＡと少なくとも末端に水酸基を有する（メタ）アクリレートモノマーＢとからなる（メタ）アクリレート共重合体、ポリビニルアセタール樹脂、有機溶剤、及び、ガラス粉末を含有するガラスペーストであって、前記（メタ）アクリレート共重合体における前記（メタ）アクリレートモノマーＡと前記（メタ）アクリレートモノマーＢとの組成比が５０重量％：５０重量％〜９９．９重量％：０．１重量％であるガラスペースト。 （もっと読む）

【課題】安定した帯電防止機能を有し、表面硬度および透明性、耐水性が優れる帯電防止用組成物およびそれを硬化させた帯電防止ハードコート形成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式〔１〕、
【化１】


（式中、Ｒ_１およびＲ_２は、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基を示すか、これらが一緒になって炭素４〜５のアルキレン基を形成し、Ｒ_３は、炭素数１〜４のフルオロアルキル基を示す。）
で表されるジアリルジアルキルアンモニウムカチオンのフルオロアルキルスルホン酸塩を、ウレタンアクリレート樹脂成分に含有せしめてなる帯電防止用組成物およびそれを硬化させて得られる帯電防止ハードコート形成物。 （もっと読む）

【課題】面内レタデーションが厳密に制御された、光弾性係数が小さい光学フィルムを製造できる光学材料用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
光弾性係数が正でかつ固有複屈折が負の単量体に由来する単位（ａ）５質量％以上８５質量％未満と、
光弾性係数が負でかつ固有複屈折が負の単量体に由来する単位（ｂ）５質量％以上８５質量％未満と、
５又は６員環構造を有する単位（ｃ）１０質量％を超えて５０質量％以下、
を含む共重合体（１）を含む光学材料用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜材料であって、エッチング速度が速く、このためレジスト下層膜として用いると、エッチング中のレジストパターンの膜減りが少なく、パターンの変形も小さく抑えることが出来る。また、架橋密度が高いために熱架橋後に緻密な膜を形成でき、そのために上層レジスト膜とのミキシングを防止でき、現像後のレジストパターンが良好である反射防止膜材料を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むことを特徴とする反射防止膜材料。
【化５３】
（もっと読む）

【課題】 光の刺激によって構造が可逆的に変形し、かつ応答速度が実用的な光応答性、柔軟性、および軽量性を有するとともに無音で動作する光駆動型アクチュエータ、その光駆動型アクチュエータの簡便な製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 上記目的を達成する本発明の光駆動型アクチュエータ１は、光の刺激を受けて変形するポリマーを備え、該ポリマーの変形をアクチュエータとして利用する光駆動型アクチュエータにおいて、光の刺激を受けて構造変化を引き起こす光異性化基を有し、該光異性化基が所定のパターン化された複数の方向に配向しているポリマーを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高感度・高解像性に優れるレジスト材料として有用である新規なポリマー及びポリマーの合成に用いられる新規なアニオン重合用カップリング剤の提供を課題とする。
【解決手段】ハロゲン化物由来の有機基を含む化合物からなるアニオン重合用カップリング剤から誘導されるコア部に、アニオン重合法によって得られるポリマー鎖からなるアーム部を付加した構造を有するポリマー及び該アニオン重合用カップリング剤。 （もっと読む）

【課題】光散乱角度域が広い光制御膜の原料として好適な光硬化性組成物を提供し、この光硬化性組成物を硬化させることにより、光散乱角度域が広い光制御膜を提供する。
【解決手段】重合性化合物として、分子内に重合性の炭素−炭素二重結合を有する化合物を複数種用い、該化合物の少なくとも１種として、数平均分子量２０，０００〜１００，０００の化合物を用いて、光硬化性組成物とする。この光硬化性組成物の膜に光を照射して硬化させることにより、光制御膜とする。 （もっと読む）

【課題】薄膜かつ高遮光性を有するパターンをフォトリソグラフィー法で容易に形成でき、アルカリ現像後の未露光部分の残さを抑制し、パターン形状と感度がともに良好なカラーフィルター用感光性レジスト組成物を提供し、カラーフィルターおよび液晶表示装置の信頼性を高く、かつ歩留まりを向上させる。
【解決手段】少なくとも顔料（Ａ）、アクリル系ポリマー（Ｂ）、モノマー（Ｃ）、光開始剤（Ｄ）、および溶媒（Ｅ）を含有する感光性レジスト組成物において、該モノマー（Ｃ）が、ビスフェノールフルオレン型アクリレートおよび／またはビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のジアクリレートであることを特徴とする感光性レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】良好なアルカリ現像性を耐熱性、透明性に優れた硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】特定構造を有する硬化性樹脂組成物は、耐熱性とともに透明性にも極めて優れた塗膜を形成し、かつ良好なアルカリ現像性することができるものであり、例えば、レジスト材料、各種コーティング剤、塗料等の用途において好適に用いることができる。また、本発明によれば、パターンの欠損や現像残渣のない良好な品質のカラーフィルタを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高屈折率を有する活性エネルギー線硬化物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中Ｒ₁〜Ｒ₈は水素原子、アルキル基等、Ａｋはアルキレン基、ｍ、ｎは１〜２０の正数である。）のアルコール化合物（ａ）と（メタ）アクリロイル基含有イソシアネート化合物（ｂ）を反応させて得られる化合物（Ａ）から得られる硬化物。 （もっと読む）

【課題】パターン画像を形成した場合に、該パターン画像上面の撥水性及び撥インク性を保持しつつ、該パターン画像と該パターン画像が形成される基板との密着性を良好に保つことができる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】含フッ素化合物と、開始剤と、エチレン性不飽和化合物とを少なくとも含む感光性樹脂組成物において、前記含フッ素化合物を（１）（ａ）少なくとも１つのトリフルオロメチル基を有し、フッ素原子の総数が７つ以上である繰り返し単位と、（ｂ）アルコキシシリル基を有する繰り返し単位とを含む含フッ素化合物とする。 （もっと読む）

【課題】 非露光部の耐汚れ性を維持できる親水性を保ちながら、露光部の感度および耐刷性を高いレベルで維持できる平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】 支持体上に、下塗り層と、画像記録層とをこの順に有する平版印刷版原版であって、前記下塗り層が、（Ａ）エチレン性不飽和結合と支持体表面に相互作用する官能基とを有する、質量平均分子量１００〜１００００の範囲の化合物と、（Ｂ）エチレン性不飽和結合、支持体表面に相互作用する官能基および親水性官能基を有する、質量平均分子量１００００〜５０００００の範囲の高分子化合物を含有することを特徴とする平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示すレジスト材料用高分子化合物及び該高分子化合物をベース樹脂とする超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料として好適な化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物。


（式中、Ｒ¹は水素原子、フッ素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はフッ素化アルキル基であり、Ｘはメチレン基、酸素原子又は硫黄原子である。Ｒ²は水素原子又は酸不安定基を示す。ｍは１〜３の整数、ｎは１又は２であり、ｍ＋ｎ＝４、ａ＝１である。） （もっと読む）

【課題】高い屈折率と高いアッベ数とを有することのできる硬化物を与える放射線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される含硫黄化合物と、エチレン性不飽和基を有する化合物を反応させることにより得られる含硫黄エチレン性不飽和基含有化合物（Ａ）；それを含有する放射線硬化性組成物；及び硬化物。化合物（Ａ）及び光重合開始剤を含有する放射線硬化性組成物。さらに、脂環式構造及びエチレン性不飽和基を有する（Ａ）成分以外の化合物を含有する放射線硬化性組成物。
（もっと読む）

【課題】加熱時に分解し難く、且つアルカリ水溶液に優れた親和性、溶解性を有するアルカリ可溶性化合物を提供する。
【解決手段】水酸基を有する化合物と、下記式（１）で表される酸無水物とを反応させて得られる、アルカリ可溶性ハーフエステル化合物。


（式（１）において、Ｒ^１〜Ｒ^４は、水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基であり、それらは互いに同一であっても異なっていても良い。Ｚは、窒素原子、又は置換基Ｒが結合した炭素原子であり、置換基Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基であり、それらは互いに同一であっても異なっていても良い。また、前記Ｒ^１〜Ｒ^４及び置換基Ｒのいずれかが、互いに結合を介して環状構造を形成していても良い。） （もっと読む）

【課題】アルカリ溶解性が良好で、優れた現像性を有し、透明性、耐熱性、耐薬品性に優れる塗膜が得られる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される構成単位(ａ１)及び／又は下記一般式（２）で表される構成単位(ａ２)を含有する重合体［Ａ］と、不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合物［Ｂ］とを含有する感光性樹脂組成物である。
（式中、Ｒ₁は水素原子またはメチル基、Ｒ₂は炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、ｍは０〜４の整数である。）
（もっと読む）