【課題】本発明は、より熱伝導率の優れた硬化物（硬化塗膜）を得ることのできる樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のラジカル系重合体は、主鎖に芳香族基を含まない重合体の側鎖の少なくとも一部の末端にあって、前記主鎖から原子数６個分以上遠方位にメソゲン基を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が変化するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤としてカルボン酸アンモニウム塩を有する繰り返し単位と少なくとも１個のフッ素原子を有する繰り返し単位とを共重合した高分子化合物とを含むことを特徴とするレジスト材料。
【効果】本発明は、パターンの矩形性とマスク忠実性の優れるレジスト材料を提供することができる。また、本発明のレジスト材料を用いて形成したフォトレジスト膜は、レジスト膜表面を親水性化することによって、現像後レジスト膜上のブロッブ欠陥の発生を防止できる。また、液浸露光用のレジスト保護膜とのミキシングを防止することによってパターン形状の劣化を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度であるとともに、ラインウィズスラフネス及び疎密依存性が低減され、また、特にＥＵＶ露光において、高感度とともに溶解コントラストが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】インデノン構造を有する特定の繰り返し単位、かつ酸の作用により分解しアルカリ溶解性が増加する繰り返し単位を有する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含むことを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐紫外線性、耐煮沸性、光透過性、耐収縮・クラック性に優れたラジエーション硬化性樹脂組成物、並びにこれを用いた硬化物の製造方法および光半導体装置を提供する。
【解決手段】ラジエーション硬化性官能基を有する特定の置換基を有するモノフォスファゼン化合物を含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物を提供し、発光ダイオード素子を封止、および／または前記発光ダイオード素子と他部材とを接着する。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、ラインエッジラフネス、現像欠陥が低減され、プロファイルが良好であるとともに、ホールパターンでの解像力、サイドローブマージンに優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、及びウレイド結合から選ばれた結合を少なくとも２つ以上有する含窒素化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、水中で加熱攪拌することによりハンドリング性の良い大きさに造粒した粒子から、粒子がゲル化したり固着したりすることを抑えて、溶媒を効率よく除去することである。
【解決手段】本発明に係る共重合体の製造方法は、（ｉ）カルボキシル基含有アクリル系単量体およびこれと共重合可能なその他のアクリル系単量体を含む単量体混合物を共重合し、（ｉ）カルボキシル基含有アクリル系単量体単位を含む共重合体（Ａ）を製造するに際し、重合工程（Ｉ）および洗浄工程（ＩＩ）の２つの工程を有し、洗浄工程（ＩＩ）において、重合工程（Ｉ）で得られた共重合体（Ａ）のスラリーを固液分離した後、得られた共重合体（Ａ）に水を添加し、５０℃以上１２０℃未満の温度で洗浄し、該洗浄液から、遠心分離機を用いて、加速度が５０〜２００Ｇの条件で再度固体液体分離し、共重合体（Ａ）を得ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた生体適合性を備えた薬剤投与系として有用な重合体を提供する。
【解決手段】基もしくは原子移動ラジカル重合などのリビング重合を用い、構造および分子量が制御された両性イオン単量体から、重合体が作成され得る。たとえば重合体は、塩化銅触媒と、水溶性の配位子と、水溶性の第三アルキルハライド開始剤とを用いることで、１．５未満の多分散度を有する制御された単独重合体と他の親水性もしくは疎水性単量体を備えたブロック共重合体とを形成する原子移動ラジカル重合により形成され得る。ある適切な両性イオン単量体は、２−メタクリロイルオキシ−２’−リン酸トリメチルアンモニウムエチル分子内塩である。上記ブロック共重合体は自発的にミセルを形成し得るが、外側表面にてはたとえばホスホリルコリンなどの両性イオン基を有する。 （もっと読む）

【課題】粘着剤やシーリング剤としての物性を高精度にコントロールでき、かつ高め得ることを可能とする架橋アクリルポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】アクリル系モノマーと、架橋性モノマーとを用いて溶液重合により架橋アクリルポリマーを製造する方法であって、アクリル系モノマーを含むモノマー成分を溶剤と共に反応器に投入して重合するにあたり、前記架橋性モノマーを複数のタイミングで前記反応器に投入する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れたジエン重合体およびその製造方法。
【解決手段】下記式（１）で表される単位を含む重合体および重合体の製造方法。


（ただし、上記式（１）において、Ｘ¹およびＸ²はそれぞれ独立に、元素の周期表第１６族の原子を表し；Ｙ¹およびＹ²はそれぞれ独立に、アミノ基、アミド基、イミド基を表し、Ｙ¹とＹ²とは互いに結合して環を形成していてもよい；Ａ¹、Ａ²、Ａ³、Ａ⁴、Ａ⁵、Ａ⁶、Ａ⁷、Ａ⁸、Ａ⁹およびＡ¹⁰はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、シリル基、シロキシ基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アミド基、イミド基、または炭化水素チオ基を表し；ｍは０または１を表し；ｎは１〜２０の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】機械強度が強く、他の液晶化合物と優れた溶解性を有する重合性液晶化合物を提供する。
【解決手段】一般式(I)


で表される重合性液晶化合物（例えば４−[４−[６−（アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ]ベンゾイルオキシ]−３−メトキシ安息香酸２−[４ー[４−[６−（アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ]ベンゾイルオキシ]フェニル]エチル）を提供する。本願発明の重合性液晶化合物は、機械強度が強く、他の液晶化合物との優れた溶解性を有することから液晶組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の重合性液晶化合物を構成部材とする重合性液晶組成物は、強い機械強度と優れた光学特性を有する光学異方体を作製することが可能であり、偏向板、位相差板等の用途に有用である。 （もっと読む）

【課題】水または水性の現像液による現像性に優れ、更に耐刷性にも優れた平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、光重合開始剤、重合性化合物、および主鎖末端の少なくとも一方に親水性基を有しかつ酸価が０．３ｍｅｑ／ｇ以下のバインダーポリマーを含有する感光層を有することを特徴とする平版印刷版原版。該原版を用いた平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】溶媒溶解性が良好で、配向制御能や光学特性に優れる重合性化合物及び重合性組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性化合物、及び該重合性化合物を含有する重合性組成物。


（一般式（１）中、Ｍ¹及びＭ²は各々独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｘ¹及びＸ²は、各々独立して直接結合又は分岐を有してもよい炭素原子数１〜１０のアルキレン基、アルキレンオキシ基若しくはアルキレンオキシカルボニルオキシ基を表し、Ｘ³は分岐を有してもよい炭素原子数１〜１０のアルキレン基を表し、Ｙ¹及びＹ²はエステル結合等を表し、環Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは２，６−ナフチレン等の環構造を表す。） （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、ラインエンドショートニング、現像欠陥が低減され、良好なプロファイルを形成できるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】フッ素原子で置換された、アルキル基、アリール基及びアラルキル基から選択された基、及び、極性基を有する含窒素化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどに用いられる絶縁膜を形成するための組成物であって、得られた絶縁膜の誘電率、機械強度等の膜特性が良好であり且つ基板との密着性に優れ、更に塗布液の安定性に優れる絶縁膜形成用塗布液を提供することである。
【解決手段】以下の成分を含む層間絶縁膜用組成物により、解決される。
（Ａ）炭素-炭素二重結合を少なくとも一つ有するアルコキシシランまたはアシロキシシランの加水分解物、
（Ｂ）分子内に、炭素-炭素二重結合または炭素-炭素三重結合を少なくとも２つ有する化合物、
（Ｃ）炭素数１６以下のカルボン酸、及び
（Ｄ）溶媒。 （もっと読む）

【課題】優れた耐候性を有するコーティング用アクリル樹脂組成物及びこれを用いたプラスチック成形体を提供する。
【解決手段】（Ａ）１〜６０モル％のメチル基を有するアクリル酸エステルの繰り返し単位（（Ａ−１）単位）、３５モル％を超えて８５モル％のシクロアルキル基を有するアクリル酸エステル繰返し単位（（Ａ−２）単位）、０．１〜１５モル％の紫外線吸収性基を有するアクリル酸エステル繰返し単位（（Ａ−３）単位）、１〜１５モル％のヒドロキシ基、アルコキシシリル基、グリシジルオキシ基、イソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも１種のを有するアクリル酸エステル（（Ａ−４）単位）を含有するアクリル共重合体であって、該アクリル共重合体の全繰り返し単位１００モル％中、（Ａ−１）〜（Ａ−４）単位の合計が少なくとも７０モル％であるアクリル共重合体を含有するコーティング用アクリル樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高耐熱、高機械強度、低誘電率、及び、良好な保存経時安定性を有する膜を形成することができる膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて得られる絶縁膜、並びに、前記絶縁膜を有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】下記式（１）で示される化合物と、カゴ型構造を有する化合物とを含むことを特徴とする膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて得られる絶縁膜、並びに、前記絶縁膜を有する電子デバイス。なお、式（１）中、Ａはエステル結合又はアミド結合を表し、Ｂはｎ₁価の有機基を表し、Ｒ¹は水素原子又は一価の置換基を表し、Ｒ²は水素原子又は一価の有機基を表し、ｎ₁は１から６までの整数を表し、ｎ₂は０から４までの整数を表し、ｎ₃は１から５までの整数を表し、ｎ₂＋ｎ₃＝５を満たす。
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【課題】簡便な電極作製プロセスに適用可能であり、二次電池に用いた場合にエネルギー密度を改善可能なラジカル化合物を提供し、そのラジカル化合物と炭素材料との複合体を電極活物質として用いた二次電池を提供する。
【解決手段】側鎖にニトロキシルラジカル構造をもつ繰り返し単位を８０〜９９モル％の割合で有し、かつクロロメチルフェニル基、またはエポキシ基をもつ炭素数１〜１２の炭化水素基、をもつ繰り返し単位を１〜２０モル％の割合で有する、重量平均分子量１０００〜５０００００の高分子化合物を合成し、その高分子化合物、炭素材料および電極用バインダーを含有するスラリーを集電体上に塗布した後、電子線または紫外光を照射して作製した電極を用いる。 （もっと読む）

【課題】硬化性、塗布適性、塗膜の厚み均一性、現像性、及び、パターン形成性に優れ、インクジェット法に適用した際には、打滴性が良好で、平滑で色ムラのない硬化物が得られる硬化性着色組成物の提供。高色純度で、且つ表示ムラの発生が抑制されたカラーフィルタ、及び該カラーフィルタを有する液晶表示装置の提供。
【解決手段】少なくとも、着色剤、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、重合開始剤、１個以上の（メタ）アクロイル基を有する界面活性剤、及び溶剤を含有することを特徴とする硬化性着色組成物、該組成物を用いてなるカラーフィルタ及び液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】高硬度で硬化後のカールが小さいハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】（メタ）アクリロイル基を有する化合物とＮ−ビニルホルムアミドとを含有する活性エネルギー線硬化型ハードコート組成物。Ｎ−ビニルホルムアミドの含有量は該組成物中の固形分１００重量部中、５０重量部以下が好ましい。この活性エネルギー線硬化型ハードコート組成物を基材上に塗布して、硬化させてなるハードコート層。このハードコート層を有するハードコートフィルム。 （もっと読む）

【課題】低誘電率かつ高耐熱性を兼ね備えた有機絶縁材料の提供。
【解決手段】一般式（１）で表される、ポリアダマンタン構造を有する化合物の重合体を還元処理することで得られる有機絶縁材料。


（Ｒは互いに独立して、水素原子、アルキニル基、アルケニル基を有する基、又は炭素数１以上２０以下の有機基を示す。前記Ｒの内、少なくとも２個以上は、アルキニル基、アルケニル基を有する基である。ｎは１以上の整数である） （もっと読む）