【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、解像力に優れ、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の、側鎖にエステル基を２個有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】硬化速度が速く、透明性や耐熱性に優れた硬化物を形成しうるオキセタン環含有ビニルエーテル化合物を提供する。
【解決手段】分子内に芳香族性又は非芳香族性の炭素環を有するか、又は分子内にビニルエーテル構造を２以上有しているオキセタン環含有ビニルエーテル化合物。下記式（１）


［式中、環Ｚは非芳香族性炭素環を示し、分子内に存在していてもよく存在していなくてもよい。Ｒは置換又は無置換ビニル基を示す。Ｗは置換又は無置換ビニルオキシ基（−ＯＲ基）とオキセタン環又は環Ｚとを連結する連結基であって、単結合又は（ｍ＋１）価の有機基を示す。Ｘはオキセタン環及び環Ｚの置換基である。ｍは１あるいは２、ｐは０〜５の整数、ｑは１あるいは２を示す。但し、ｍ＝ｑ＝１の場合は、少なくとも、環Ｚが存在するか、Ｘが炭素環を含んでいるか、Ｗが炭素環を含んでいる］で表される化合物が含まれる。 （もっと読む）

１，４−二置換−１，２，３−トリアゾールＵＶ吸収モノマーを開示する。このＵＶ吸収剤は、眼内レンズ材料への使用に特に適している。これらは、特に眼内レンズ（ＩＯＬ）などの移植可能レンズに有用である。本発明の１，４−二置換−１，２，３−トリアゾール化合物を含む眼用デバイス材料および眼内レンズもまた提供される。本発明の眼用デバイスは、眼内レンズ；コンタクトレンズ；人工角膜ならびに角膜インレーまたは角膜リングからなる群から選択され得る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、溶液状態で安定性に優れ、支持基板上に良好な塗工性を示し、そして均一なホメオトロピック配向性を有する重合性液晶組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】アクリレート系化合物、エポキシ系化合物およびビスフェノールフルオレン系化合物を成分とする重合性液晶組成物により、上記の課題を達成することができる。これらの成分のうちビスフェノールフルオレン系化合物は、重合性液晶化合物の均一なホメオトロピック配向の制御に有効である。 （もっと読む）

【課題】ビタミンＢ₁₂修飾ハイパーブランチポリマーおよび脱ハロゲン化触媒を提供する。
【解決手段】高度分岐高分子であるハイパーブランチポリマーにビタミンＢ₁₂化合物を共有結合で固定化し、高い触媒効率と、これまでの単分子触媒とは異なる生成物選択性を有する新規ハイブリッド触媒の提供、およびビタミンＢ₁₂化合物を高分子に固定化することで、ビタミンＢ₁₂触媒を容易に回収・再利用できる方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明により、通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素および珪素を含有せず、所定の構造を有する繰り返し単位を有する樹脂、および（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。式（Ｉ）中、各記号は所定の基等を表す。
【化１】
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【課題】テトラフルオロエチレン-パーフルオロ(メチルビニルエーテル)を主成分とする共重合体であって、特に有機アミン類、熱水、高温水蒸気等の極性媒体に対する抵抗性が改善され、テトラフルオロエチレン-パーフルオロ(メチルビニルエーテル)主鎖骨格本来の耐化学薬品性を発現し得る含フッ素エラストマーおよびその組成物を提供する。
【解決手段】(A)テトラフルオロエチレン 55〜75モル％、(B)パーフルオロ(メチルビニルエーテル) 23〜44.9モル％および(C)一般式


(X：I,Br、m：0,1、n：2〜4)で表わされる含フッ素ビニルエーテル化合物 0.1〜2モル％からなる共重合体組成を有する含フッ素エラストマー。この含フッ素エラストマーに、芳香族ボロン酸エステル、有機パラジウム化合物、塩基性無機または有機化合物(および有機リン化合物)を配合して、含フッ素エラストマー組成物を形成させる。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、超微細領域、特に反射防止膜（ＢＡＲＣ）を使用しないイオン注入工程においても、高解像性、スカム、疎密バイアス、定在波低減を満足たポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の構造式で表される、アリールカルボニル基をもつ繰り返し単位を有する、酸の作用により分解しアルカリ水溶液への溶解性が増大する樹脂（Ｂ）及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】熱可塑性樹脂の熱安定性及び耐加水分解性を損なうことなく、耐衝撃性を向上させるビニル重合体粉体の製造方法、及び、該製造方法で得られたビニル重合体粉体を含有する熱可塑性樹脂組成物の提供。
【解決手段】ラジカル重合可能な二重結合を有する乳化剤の存在下でビニル単量体を乳化重合して得られるビニル重合体（Ａ）ラテックスを、噴霧乾燥することにより粉体として回収する、ビニル重合体（Ａ）粉体の製造方法、及び、前記の製造方法で得られるビニル重合体（Ａ）粉体と、熱可塑性樹脂（Ｂ）を含有する、熱可塑性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度であり、ラインウイズスラフネス及び疎密依存性が小さく、また、ＥＵＶ光による露光においても感度、溶解コントラストが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】側鎖に芳香環を有する特定の繰り返し単位を含有し、末端に特定の構造を有する樹脂及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】硬化前の粘度が低い光学ポリマー材料であって、硬化物の屈折率が高く、高温高湿下における屈折率変化の変化が少なく、かつ耐熱ショック性に優れた光学ポリマー材料及びそれを用いた光学部品を得る。
【解決手段】４つの（メタ）アクリロイル基を有するフルオレン化合物と、アリール基を有する（メタ）アクリレートとを含むこと特徴としており、−Ｍ−Ｏ−Ｍ−結合（Ｍは金属原子）及びアリール基を有する有機金属重合体及び、単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートをさらに含んでいてもよい。 （もっと読む）

【課題】半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し単位を有するアルカリ可溶性ポリマー、（Ｂ）酸の作用により（Ａ）のアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｄ）特定の４級アンモニウム塩及び（Ｅ）有機カルボン酸を含有するネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】環状オレフィン付加重合体を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（I）、（II）または(III）のいずれかで示されるメタロセン錯体を用いて環状オレフィンの単量体を重合させる。


一般式（I）、（II）および（III）において、
Ｍは、ランタノイド元素、スカンジウムまたはイットリウムを示し、
Ｃｐ^Rは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、
Ｃｐ^R'は、無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル、またはフルオレニルを示し、
Ｒ^a〜Ｒ^fは、それぞれ独立して、水素または炭素数１〜３のアルキル基を示し、
ＸおよびＸ’は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基または炭素数１から20の炭化水素基を示し、
Ｌは、中性ルイス塩基を示し、
ｗは、０〜３の整数を示し、
[Ｂ] ^-は非配位性アニオンを示す。 （もっと読む）

【課題】アクリル酸エステル単量体に基づく構造単位とノルボルネン系単量体に基づく構造単位からなるアクリル系共重合体を、ラジカル重合開始剤を使用して該開始剤の10時間半減期温度に対して0〜30℃高い温度で製造できる方法を提供する。
【解決手段】アクリル酸エステル単量体(A)と、ノルボルネン系単量体(B)とを、
ルイス酸(C)とニッケル化合物(D)の存在下において、アゾビス系ラジカル重合開始剤を用いて、重合開始温度及び重合発熱によるピーク温度が、該ラジカル重合開始剤の10時間半減期温度に対して0〜30℃高い温度で共重合させるアクリル系共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】歯質及びボンディング材との接着性に優れる歯科用コンポジットレジンを提供する。
【解決手段】４個以上の炭素が連続して結合した非共役の炭素鎖、２個以上の重合性基及び２個以上の水酸基を有する重合性単量体（Ａ）を含有してなる歯科用コンポジットレジンとする。好ましい実施態様においては、歯科用コンポジットレジンは、重合性単量体成分の全量１００質量部中において、重合性単量体（Ａ）を５〜７０質量部及び架橋性の重合性単量体（Ｂ）を５〜７０質量部含み、かつ重合性単量体成分の全量１００質量部に対して、重合開始剤（Ｅ）を０．１〜１０質量部、及びフィラー（Ｇ）を８０〜９００質量部含む。 （もっと読む）

【課題】シリカ及びカーボンブラックとの相互作用を高め、破壊特性、耐摩耗性、低発熱性を向上させ、かつ、良好な作業性を発揮し得るシリカ及び／又はカーボンブラック配合のゴム組成物を与える変性重合体の製造方法、及びゴム組成物を提供すること。
【解決手段】ジエン系重合体を変性して変性重合体を製造する方法において、特定のプロトン性官能基含有化合物（Ａ）を、有機アルカリ金属又はアルカリ土類金属化合物（Ｂ）と反応させて、該プロトン性官能基中の活性プロトンをアルカリ金属化又はアルカリ土類金属化する予備処理により変性剤（Ｃ）を得る工程と、（２）該変性剤（Ｃ）を、活性部位を有する重合体の該活性部位と反応させる重合体の中間変性体を得る工程と、（３）アルコール及び／又は水と処理することにより、得られた中間変性体の該金属化部位から該金属を離脱して活性プロトンを再生させる工程とからなることを特徴とする変性重合体の製造方法、上記方法で得られた変性重合体、並びにそれを用いたゴム組成物及びタイヤである。 （もっと読む）

【課題】 ハイドロタルサイトの粒子が凝集せずに高濃度であっても微分散したＰＶＡ系樹脂組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 ビニルエステル系樹脂溶液を、ハイドロタルサイトの存在下で、ケン化度６５モル％超〜１００モル％の範囲でケン化する。ＰＶＡ系樹脂の製造段階でハイドロタルサイトを混合することにより、ハイドロタルサイトを高濃度に含有させたＰＶＡ系樹脂組成物であっても、前記ハイドロタルサイトの９０％以上の粒子の粒径が６００ｎｍ以下で微分散したＰＶＡ系樹脂組成物を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの現像溶解時にパターン倒れを抑制することができるフォトレジストとの密着性とエッチング特性を改良された反射防止膜の形成に使用される反射防止膜形成用組成物、その為の重合体の提供。
【解決手段】下記式（１）


（Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４、Ｒ５は炭素数１から６のアルキル基を示し、Ｘは炭素数１から５のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１から５のアルコキシ基、アセチル基、又はシアノ基で置換されていてもよい単環式の脂肪族炭化水素である。）で表されるモノマー単位を少なくとも１つ有する反射防止膜形成用重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明はノルボルネンを含む重合体で形成された配向膜を用いてフィルムの進行方向と光軸が成す角度を任意で調節することができ、熱的安定性及び光反応速度が改善された位相差フィルム、その製造方法及び本発明の位相差フィルムを含む偏光板に関する。
【解決手段】基材と、基材上に形成されたノルボルネンを含む重合体で形成された配向膜及び上記配向膜上に液晶物質で形成された配向膜固定層を含んで成る位相差フィルムと、基材にノルボルネンを含む重合体溶液をコーティング及び乾燥して膜を形成する段階、上記膜にフィルムの進行方向に対して一定な方向に配向性を有するよう線偏光された紫外線を照射して配向膜を形成する段階、配向膜上にネマチック液晶溶液をコーティング及び乾燥させ液晶層を形成する段階、及び上記液晶層を硬化させ液晶の配向を固定する段階を含む位相差フィルムの製造方法；及び上記位相差フィルムと偏光フィルムが積層された偏光板が提供される。本発明による位相差フィルムは熱的安定性及び光反応速度が改善され、偏光された紫外線の照射によって位相差フィルムの光軸がフィルムの進行方向に対して所望の任意の配向角度を有する位相差フィルムに製造することができる。 （もっと読む）

【課題】光照射量によって液晶配向制御能を発現する新規な液晶配向剤を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する重合体からなることを特徴とする液晶配向剤である。式中、Ｒ¹〜Ｒ³はそれぞれ水素原子又は置換基；Ｙ¹は所定の連結基；Ａｒ¹は、炭素数１〜１０の置換もしくは無置換の芳香環の基；Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ独立して、置換基；ｍは２〜５の整数を表し、ｎは１〜３の整数を表し、ｐは０〜４の整数を表し、及びｑは０〜５の整数を表す。
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