【課題】高感度、高解像度で細線密着性及びパターン形状も良好であり、残渣の発生がなく、且つ熱安定性も良好な光重合性組成物を提供する。また、ハードベーク時の着色がなく、可視光領域での光透過率が良好な光重合性組成物を提供する。
【解決手段】次の（Ａ）〜（Ｃ）の各成分を含有する光重合性組成物。
（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表されるアルカリ可溶性樹脂
（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する化合物
（Ｃ）光重合開始剤


（Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は水素原子又はメチル基。Ｒ^４は炭素数１以上１５以下の１級アルキル基。ｘ、ｙ、ｚは各構成単位のモル％。０≦ｙ、１０≦ｚ、１．５≦ｘ／ｚ、且つｘ＋ｙ＋ｚ＝１００。） （もっと読む）

【課題】光学部材に必要な諸特性（優れた機械的特性、黄変度の低さ等）を有し、かつ、高い屈折率を備えた硬化物を与えることのできる放射線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】本発明の水酸基含有化合物の製造方法は、（ａ）少なくとも１つのエポキシ基を有するエポキシ化合物と（ｂ）チオールとを開環付加反応させることを特徴とする。また、本発明の硬化性化合物の製造方法は、上記水酸基含有化合物の水酸基に、（メタ）アクリロイル基を付加することを特徴とする。得られた硬化性化合物を含む放射線硬化性組成物の硬化物は、屈折率（ｎ_Ｄ^２５）が１．６０以上であり、かつ、イエローインデックスも例えば４以下に調整し得るため、光学レンズ等に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】 反応効率を向上させると共に高純度の熱可塑性樹脂の製造方法を提供する事を課題とする。
【解決手段】第１押出機、第２押出機、及び、第１押出機の樹脂吐出口と第２押出機の原料供給口を接続する部品を有するタンデム型押出機を用いて、第１押出機において主原料と副原料とを処理する第１段目反応を行い、第２押出機において、第１押出機における反応生成物をさらに他の副原料と処理する第２段目反応を行うことで、劣化や異物の良好な熱可塑性樹脂を効率良く製造することができる。 （もっと読む）

【課題】フェノール系アクリレート系モノマーの新規合成方法ならびにかかるフェノール系アクリレート系モノマーを含むポリマーを提供する。
【解決手段】フェノール系アクリレート系モノマーの新規合成方法ならびにかかるフェノール系アクリレート系モノマーを含むポリマーが提供される。本発明の好ましいポリマーは、化学的増幅型ポジ型レジストの樹脂成分として有用である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、十分な作業時間を確保しながら、必要時には速硬化させることが可能で、硬化物の耐熱性、耐ブレークオイル性、耐不凍液性に優れる、架橋性シリル基を末端に有するビニル系重合体を含有する硬化性組成物の提供を目的とする。
【解決手段】
以下の２成分：架橋性シリル基を平均して少なくとも一個、末端に有するビニル系重合体（Ｉ）、及び、光酸発生剤または光塩基発生剤（ＩＩ）を含有することを特徴とする硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】分散性、流動性、及び、保存安定性に優れた顔料分散体を製造することができるビニル系分散剤、その製造方法、それを用いた顔料分散体の提供をする。
【解決手段】芳香族カルボン酸を２個または３個有する単位（Ｇ）と、数平均分子量５００〜１５０００の側鎖を有する単位（Ｂ）とを含み、全単位合計に対する側鎖の割合が３０〜７０重量％であることを特徴とするビニル系分散剤を作製し、それを用いて顔料分散体を調整する。 （もっと読む）

【課題】高感度とともに疎密依存性、パターン形状、溶解コントラスト性について良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する性質をもつ、フェノール性水酸基を有する重量平均分子量１５００〜３５００の樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物を含有し、２３℃常圧におけるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド ２．３８ｗｔ％水溶液に対する露光部と非露光部の溶解速度の比が２００〜５０００倍の範囲にあるポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】組成分布が狭い樹脂の再現性の高い製造方法、それにより得られた樹脂、それに用いる化合物を提供する。また、感度、ＬＥＲ及びパターン倒れ性能を向上させたレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】所定の２つの繰り返し単位を含有し、かつ、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を製造する方法であって、所定の官能基を含有するモノマーを重合する工程、および、所定の官能基を脱保護する工程、を含む製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、位相差フィルムや偏光回折素子などの分子配向を制御した光学素子や液晶配向膜の製造に好適な、安価な材料を提供する。
【解決手段】光照射と加熱冷却する操作を含む工程によって作製される位相差フィルムや偏光回折素子などの分子の配向を制御した光学素子や液晶配向膜の製造に用いる材料として、光反応性基を有し、かつそれらが少なくとも１つの水素結合部位により、２量体を形成する側鎖に、光反応性を有さず、少なくとも１つの水素結合部位により、２量体を形成する側鎖を添加した材料を用いることによって、偏光照射による配向性を損なうことなく材料の製造コストを低減できる。 （もっと読む）

【課題】 ハロゲン系難燃剤を用いずに十分な難燃性を確保することができ、アルカリ現像液で十分な解像性が得られ、ＰＣＴ試験での表面の変色及び配線板上の銅と樹脂との界面でのふくれがなく、且つ、ブリードアウトの問題が十分に低減されたリン含有化合物、このリン含有化合物を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】側鎖にリン化合物構造を有するビニルモノマー、側鎖にカルボキシル基を有するビニルモノマー、側鎖にアリール基又はエステル基を有するビニルモノマーを構造単位として含むリン含有化合物、該化合物を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた感光性フィルム１、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板。 （もっと読む）

【課題】Δｎ／ｎが大きく、配向制御や光学特性に優れる重合性組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物及び下記一般式（２）で表される重合性化合物を含んでなる重合性組成物。


（一般式（１）中、Ｘ１及びＸ２は、各々独立に、分岐を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキル基又は分岐を有してもよい炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、一般式（１）中のシクロヘキサン環は何れもトランス体を表す。）
（もっと読む）

【課題】光学部材に必要な諸特性（優れた機械的特性、黄変度の低さ等）を有し、かつ、高い屈折率を備えた硬化物を与えることのできる放射線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）少なくとも１つのエポキシ基を有するエポキシ化合物に由来する構造単位と（ｂ）チオールに由来する構造単位とを含む水酸基含有化合物の水酸基に、（メタ）アクリロイル基を付加してなる硬化性化合物を含む。本発明の放射線硬化性組成物の硬化物は、屈折率（ｎ_Ｄ^２５）が１．６０以上であり、かつ、イエローインデックスも例えば４以下に調整し得るため、光学レンズ等に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】長期に亘り、クラック、剥離、黄変等の欠点がなく、耐候性に優れた保護被膜を形成するためのプライマー組成物及びこれを用いた被覆物品を提供する。
【解決手段】加水分解性シリル基及び／又はＳｉＯＨ基と有機系紫外線吸収性基とが側鎖に結合したビニル系重合体（Ａ）と、下記式（１）で表されるオルガノポリシロキサン（Ｂ）とを含むプライマー組成物であり、該組成物を硬化させることにより形成されるプライマー層の線膨張係数が、１５０×１０^-6／℃以下であるポリシロキサン硬質被膜用のプライマー組成物。
（Ｒ）_aＳｉ（Ｙ）_bＯ_(4-a-b)/2 （１）
｛Ｒはアミノ基含有一価炭化水素基以外の一価炭化水素基、Ｙは水酸基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アシロキシ基、アルケノキシ基又はイソシアネート基、０＜ａ＜２、０＜ｂ＜３、０＜ａ＋ｂ＜４を満たす数｝ （もっと読む）

【課題】樹脂フイルムとの密着性に優れ、樹脂膜との界面における凹凸が小さい導電性層をその表面に容易に形成しうる、導電性物質吸着性樹脂フイルムおよびその製造方法、それを用いて得られる、絶縁性の樹脂フイルムとの密着性に優れた高精細の配線を形成しやすい金属層付樹脂フイルムおよび高精細の配線を有するプリント配線板を簡易な方法で作製しうる材料である金属層付き樹脂フイルムの製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも２層の樹脂層からなり、該樹脂層の少なくとも１層が、導電性物質もしくは金属を吸着する性質をもつ吸着性樹脂層である導電性物質吸着性樹脂フイルム。この導電性物質吸着性樹脂層に金属を吸着させ、めっき処理を行うことで金属層付き樹脂フイルムを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】活性エネルギー線の照射により、効率良く反応（硬化）する新規な光架橋性の高分子化合物、該化合物を含む液体、及び該液体を用いたゲル形成方法を提供すること。
【解決手段】活性エネルギー線を照射することにより重合性基に対して付加反応性を示すラジカルが側鎖自身に発生する側鎖ａと、重合性基を有する側鎖ｂとを有することを特徴とする高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度及び密着性の全てを従来よりも十分に満足するレジストパターンを形成する感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
上記目的を達成する本発明は、（Ａ）特定のスチレン及びその誘導体から得られる２価の基１０〜６５質量部と、特定の（メタ）アクリル酸エステル及びその誘導体から得られる２価の基５〜５５質量部と、（メタ）アクリル酸から得られる２価の基１５〜５０質量部とを有する１００質量部のバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 押出機内の脈動を軽減するイミド樹脂の製造方法及び押出反応方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明のイミド樹脂の製造方法は、1台の二軸押出機内で連続的にイミド化反応とエステル化反応を実施するイミド樹脂の製造方法であって、該押出機が、二箇所以上の反応部を有することを特徴とする。
ふたつ以上に分割した反応部を介し、段階的に反応を進めていくことで、押出機内の生成量の割合を減らし押出機内の脈動を低減できる。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、定在波の残存、パターンプロファイルを同時に満たす良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】
２４８ｎｍに吸収を有する基を主鎖末端に有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高い撥水及び撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの基板密着性に優れた樹脂組成物を提供する。
【解決手段】フッ素原子を７つ以上含む繰り返し単位と、ヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基を有する繰り返し単位とを有する含フッ素化合物を含んでいる。 （もっと読む）

光ファイバのための新規な放射線硬化性二次被覆が記述され特許請求されているが、ここで、前記組成物が二次被覆オリゴマーブレンド物を含み、そのブレンド物を、第一の希釈剤モノマー；第二の希釈剤モノマー；場合によっては、第三の希釈剤モノマー；抗酸化剤；第一の光重合開始剤；第二の光重合開始剤；および場合によってはスリップ添加剤もしくはスリップ添加剤のブレンド物と混合し；前記二次被覆オリゴマーブレンド物が、α）オメガオリゴマー；およびβ）ウプシロンオリゴマー；を含み、前記オメガオリゴマーが、α１）ヒドロキシル含有（メタ）アクリレート；α２）イソシアネート；α３）ポリエーテルポリオール；およびα４）トリプロピレングリコール；との、α５）重合防止剤；およびα６）触媒；の存在下による反応により合成されて、オメガオリゴマーが生成し；前記触媒が、ジブチルスズジラウレート金属カルボキシレート、非限定的に挙げれば、オルガノビスマス触媒たとえば、ビスマスネオデカノエート；亜鉛ネオデカノエート；ジルコニウムネオデカノエート；亜鉛２−エチルヘキサノエート；スルホン酸、非限定的に挙げれば、たとえばドデシルベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸；アミノまたは有機塩基触媒、非限定的に挙げれば、１，２−ジメチルイミダゾールおよびジアザビシクロオクタン；トリフェニルホスフィン；ジルコニウムおよびチタンのアルコキシド、非限定的に挙げれば、ジルコニウムブトキシドおよびチタンブトキシド；ならびにイオン性液状ホスホニウム塩；およびテトラデシル（トリヘキシル）ホスホニウムクロリドからなる群から選択され、そしてここで、前記ウプシロンオリゴマーがエポキシジアクリレートである。 （もっと読む）