【課題】高解像度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位ａ、スルホニウム塩を有する繰り返し単位ｂ１及びｂ２のいずれか１つ以上、アミノ基を有する繰り返し単位ｃを有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【化１】
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【課題】インキの密着性を維持したままで、オフセット印刷時に発生するミスチングを低減でき、かつ印刷外観に優れた活性エネルギー線硬化型のオフセット印刷インキ用樹脂および、ミスト量を低減された印刷インキ用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）スチレン類、（ｂ）（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（ｃ）親水性基含有ビニルモノマーおよび（ｄ）（メタ）アクリロニトリルを含有するモノマー成分を含有する共重合体であって、共重合体に使用する全モノマー成分に対する（ｄ）成分の使用割合が３〜１５重量％であり、重量平均分子量(Ｍｗ)が５,０００〜１３，０００であり、かつガラス転移温度（Ｔｇ）が７０〜１００℃であるオフセット印刷インキ用樹脂（Ａ）。 （もっと読む）

本明細書に記載し、開示され、説明されている本発明は、ゲストのリン光を発する金属錯体のための両極性小分子ホスト材料に関する。この両極性小分子の製造方法も記載されている。オキサジアゾールおよび1つまたは複数のカルバゾール基の両方を含むこれらの両極性小分子は、(I) R¹、R²、およびR³基の少なくとも1つが、場合によって置換されていてもよいカルバゾール基である本発明の材料を含んでいる予想外に効率的なOLEDデバイスの発光層を作製するために使用することができる。
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【課題】薄膜であっても、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際における露光余裕度が優れ、また、現像後の残渣を低減させるレジスト膜を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも下記式（ａ−１）で表される繰り返し単位を有する重合体、並びに（Ｂ）酸発生剤、（Ｄ）有機溶剤を含有することを特徴とする、感放射線性樹脂組成物。
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【課題】反応後の煩雑な単離精製操作を必要とせず、高分子量のポリマー等幅広い種類のポリマーに適用が可能であり、かつより温和な反応条件で十分な変換率が得られるポリマーの酸化方法を提供する。
【解決手段】粉末状のポリマー、過酸化水素水、尿素−過酸化水素及び過炭酸塩からなる群より選ばれる１種又は２種以上の酸化剤、及び水溶性の固体触媒を混合して粉末状の反応相とする工程、前記反応相を８０℃以下の反応温度で静置する工程、並びに、静置後、前記反応相を水洗する工程を有することを特徴とするポリマーの酸化方法。 （もっと読む）

【課題】露光量が少ない場合にも、露光により発生された酸の拡散制御性に優れた樹脂組成物層を形成できるバイオチップ製造用樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）含窒素基を有する重合体と、（Ｂ）増感剤と、（Ｃ）感放射線性酸発生剤と、（Ｄ）下記一般式（１）で表される化合物と、（Ｅ）溶媒とを含有するバイオチップ製造用樹脂組成物。
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【課題】低粘度であり、活性エネルギー線照射での硬化性に優れ、特に薄膜硬化性に優れ、得られる硬化膜が耐溶剤性に優れ、さらにはＬＥＤによる硬化性にも優れる活性エネルギー線硬化型被覆材用組成物の提供、特にインキ用途に適する活性エネルギー線硬化型被覆材用組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）に示す化合物（Ａ）を含む活性エネルギー線硬化型被覆材用組成物。
【化１】


〔式（１）において、Ｚは酸素原子、硫黄原子、又はモノ置換された窒素原子を表し、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ³は水素原子、ハロゲン原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】従来の吸液性樹脂は、成形体の吸液力が低下することや、吸液後にゲルが離脱してしまう。また、安全性や取り扱い性が悪い等の問題がある。さらに、成形できる形状がシート状や繊維状のみに限られる。
【解決手段】下記重合体（Ａ）を含んでなる吸液性樹脂であって、１６０℃で剪断速度１００ｓｅｃ^-1における溶融粘度が１００〜１００，０００Ｐａ・ｓであり、かつイオン交換水に対する吸液量が１０〜１，０００ｇ／ｇである吸液性樹脂、及びこれを使用した吸液性樹脂成形体の製造方法。
重合体（Ａ）：構成単位（ａ）を（Ａ）の重量を基準として２０〜１００重量％含有してなり、（Ａ）のオニウムカチオン置換率が３０〜１００モル％である重合体。 （もっと読む）

【課題】特に親水性プラスチックフィルム等に対する接着力に優れるプラスチックフィルム等用の活性エネルギー線硬化型接着剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）エチレン性不飽和基及び下記一般式（１）で表される環状イミド基を有する化合物、（Ｂ）１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物であって（Ａ）成分以外の化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含むプラスチック製フィルム又はシート用活性エネルギー線硬化型接着剤組成物。


〔式（１）において、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基若しくはアリール基を表すか、又はＲ¹及びＲ²は、一つとなって５若しくは６員環を形成する炭化水素基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】材料として十分な強度と伸びを併せ持ち、更に、広い温度範囲で高い水膨潤性を有するゲルであって、加えて乾燥した状態でも柔軟性を有するものであり、更に、ゲル状態においては、膨潤−収縮が温度、塩濃度、ｐＨなどの外部刺激により変化する刺激−応答性のゲルを提供する。
【解決手段】ラジカル重合性モノマー（Ａ）の重合体と、水膨潤性粘土鉱物（Ｂ）とが形成する三次元網目の中に、水（Ｃ）が包含されている有機無機複合ゲルであって、
前記ラジカル重合性モノマー（Ａ）が、重合前は親水性であるがそれ自身の単独重合体が疎水性となる親水性モノマー（Ａ１）を９９〜４０モル％と、重合前は親水性であり、それ自身の単独重合体が親水性となる親水性モノマー（Ａ２）を1〜６０モル％を含むことを特徴とする有機無機複合ゲルを提供する。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｘは−ＮＨ−又は−Ｓ−である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制できる。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、かつ解像度が優れるとともに、ドライエッチング耐性、感度、パターン形状等にも優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥発生を抑制し、半導体素子の歩留りを著しく向上させることができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸解離性基含有樹脂、
（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および
（C）分子構造中にシクロデキストリン骨格とフッ素原子とを有し、かつ、¹H NMRから算出した平均分子量が６０００以下である化合物、
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】硬化性と強靱性の両立を実現し、さらに速硬化性と優れた貯蔵安定性を示し、錫触媒を必要としない硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で示される化合物及び下記一般式（２）で示される化合物を反応させて得られるビニル系樹脂、及び（Ｂ）硬化触媒を含むようにした。


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【解決手段】〈１〉酸の作用でアルカリ溶解性が増加する繰り返し単位とラクトン構造含有繰り返し単位を有する高分子化合物を含むポジ型レジスト材料を、基板上に塗布して第１レジスト膜を形成し、加熱処理後に高エネルギー線で露光し、加熱処理後にアルカリ現像し、ラインパターンを主とした第１レジストパターン形成工程と
〈２〉上記パターン上にレジスト変性用組成物を塗布、加熱する変性処理工程と
〈３〉変性処理後の第１パターン上に第２ポジ型レジスト材料を塗布、加熱処理後に露光し、加熱処理後にアルカリ現像し、第１レジストパターンと平行にラインパターンを主とした第２レジストパターンを形成する工程
を含むパターン形成方法で、変性処理後のレジスト膜未露光部の純水接触角が５０〜８５度である。
【効果】本発明により、２回の露光と１回のドライエッチングで基板を加工するダブルパターニングプロセスを行える有用なパターン形成方法及びレジスト変性用組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】安定性、ハンドリング性に優れたポリマー組成物を提供すること。
【解決手段】下記成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含有し、成分（Ａ）の含有量が５〜３０重量％であるポリマー組成物。
（Ａ）特定のカチオン性基含有共重合体
（Ｂ）式Ｒ¹¹Ｏ−（ＡＯ）m−Ｈ（式中、Ｒ¹¹は水素又は炭素数１〜２０の炭化水素基、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基を示し、平均付加モル数ｍは１０〜６０の数を示す）で表される化合物、
（Ｃ）式Ｒ¹²Ｏ−（Ａ'Ｏ）n−Ｈ（式中、Ｒ¹²は炭素数８〜１０の炭化水素基、Ａ'Ｏは炭素数２〜４のオキシアルキレン基を示し、平均付加モル数ｎは０．５〜４の数を示す）
で表される化合物 （もっと読む）

【課題】高温で長時間の処理を行わないで架橋され、表面接着性に優れた絶縁層を形成可能な有機薄膜トランジスタ絶縁層用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ウレア結合もしくはウレタン結合を介して結合した感光性基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、（Ｂ）硬化剤と、（Ｃ）有機溶剤とを含有することを特徴とする有機薄膜トランジスタ絶縁層用樹脂組成物である。有機薄膜トランジスタ絶縁層用樹脂組成物をオーバーコート層に用いることを特徴とした有機薄膜トランジスタ。 （もっと読む）

【課題】位相差板などに有用な３置換ベンゼン誘導体の提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される化合物。式（Ｉ）中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³はそれぞれ独立に、下記式（II）で表される基を表し、式（II）中、ＸはＯ又はＳを、Ａｒは置換基を有していてもよいアリーレン基を、Ｌ¹はＯ、Ｏ−ＣＯ、ＣＯ−Ｏ、又はＯ−ＣＯ−Ｏを、Ｌ²はアルキレン基を、Ｑは重合性基又は水素原子を表す。
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【課題】硬化物の水に対する溶解性が良好で、特にインクジェット光造形法による支持体の形成用材料として有用な光硬化性液状樹脂組成物を提供する。
【解決手段】組成物の全量１００質量％に対して、（Ａ）（メタ）アクリロイル基を１つ有する（メタ）アクリルアミド１５〜９９質量％、（Ｂ）連鎖移動剤０．１〜５質量％、（Ｃ）光重合開始剤０．５〜１０質量％、を含有する光硬化性液状樹脂組成物。（Ａ）成分は、例えば、Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミドから選択される一種以上である。 （もっと読む）

【課題】簡易な組成でコーティング剤に添加されて優れた表面調整効果を発現させ、そのコーティング剤で形成される塗装膜に色分かれ、残泡、レベリング不良、濡れ不良を生じさせず、その塗装膜へ十分な上塗り特性を付与する耐熱性のコーティング剤用表面調整剤を提供する。
【解決手段】コーティング剤用表面調整剤は、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）−ＣＯ−Ｏ−Ｒ^２−Ｒ^Ｆ（Ｒ^１は水素原子又はメチル基、Ｒ^２は−（ＣＨ_２）_ｎ−で示されｎを０〜４とする基、Ｒ^Ｆは炭素数１〜１２のパーフルオロアルキル基）で表されるフッ素置換アルキル（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）の１０〜８０重量部と、Ｎ−ビニルアミドモノマー、Ｎ−ビニルイミドモノマー、Ｎ−ビニルカルバメートモノマー又は（メタ）アクリルアミドモノマーの窒素含有不飽和モノマー（Ｂ）の２０〜９０重量部とが共重合しており、それの重量平均分子量が３０００〜１０００００である共重合物を含有する。 （もっと読む）

本発明は、−２０〜＋６０℃の範囲のガラス転移温度Ｔ_gを有し、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーＭのラジカル乳化重合によって得られる水性ポリマー分散液ＰＤの形態の少なくとも１つのポリマーＰ、およびポリマーＰとオリゴマーとの合計基準で０．１質量％〜１０質量％の、エチレン性不飽和モノマーから形成され、１０００〜３００００ｇ／ｍｏｌの平均分子量Ｍ_Wおよび＋６０〜＋１２０℃の範囲のガラス転移温度Ｔ_gおよび５０〜３５０の範囲の酸価を有する１以上のオリゴマーを含む水性バインダー組成物、その製造法、それらを含むコーティング材料、ならびに光沢が増大したコーティングをもたらすコーティング材料において水性ポリマー分散液との混合物で水溶性オリゴマーを使用することに関する。 （もっと読む）