【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｘは−ＮＨ−又は−Ｓ−である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制できる。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】シリコーンオイルとの親和性に優れ、且つ、分散粒子に立体安定化作用を与え、シリコーンオイルへの分散度を向上させた分散液の提供。
【解決手段】シリコーンオイル中に、少なくともシリコーンオイルに不溶な粒子成分と、繰り返し単位が自然数であるジメチルシロキサン単位を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体を重合した重合体とを含有し、前記重合体が、繰り返し単位が２５以下の自然数であるポリアルキレンエーテル単位を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体をさらに含んで重合したものであることを特徴とする分散液。 （もっと読む）

【課題】融点が比較的低く、かつ溶液状態からの単離が困難なポリオレフィンをハロゲン化する反応において、反応器壁や撹拌翼への付着を抑制して、反応後のポリマーの回収を容易にする方法を提供する。
【解決手段】特定のα−オレフィン系（共）重合体のうち、融点が２０℃以上７０℃未満であり、かつ数平均分子量が５×１０^３〜１×１０^６の範囲であるオレフィン系重合体ペレットを、該ペレットが溶融しない条件下で（つまり、２０℃以上５０℃以下の水中に分散させて）、ハロゲン化剤と反応させてハロゲン変性オレフィン系重合体ペレットを製造する。 （もっと読む）

本発明は、異なる分子量および異なる陽イオン活性の両方を有する新規かつ安定な双峰性陽イオン性逆エマルジョンポリマー(W/O)であって、水性相中、低分子量ポリマーの存在下における高分子量の陽イオン性ポリマーの「系内」乳化重合により調製されたものに関する。低分子量陽イオン性ポリマーは、溶液中における予備重合で生成される。この新規かつ安定な陽イオン性油中水型エマルジョンは、容易に転移可能であり、製紙における凝集剤、脱水助剤および歩留向上剤として有用である。 （もっと読む）

【課題】水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖に多環構造を有し、かつ該多環構造が酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する部位を有する繰り返し単位（a）を含む樹脂（ＨＲ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】２種類以上配合しても、生産性及び溶融成形性に優れたエチレン−ビニルエステル共重合体加溶媒分解物組成物の提供
【解決手段】エチレン−ビニルエステル共重合体(Ａ'）及び、特定の水酸基、アルコキシ基、アシル基又は環状カーボネート構造又は環状アセタール構造を有する不飽和化合物に由来する構造単位を含有する変性エチレン−ビニルエステル共重合体（Ｂ'）を同一系内で加溶媒分解して、エチレン−ビニルエステル共重合体の加溶媒分解物（Ａ）及び水酸基を側鎖に２個有する構造単位を有する変性エチレン−ビニルエステル共重合体の加溶媒分解物（Ｂ）を含有するエチレン−ビニルエステル共重合体加溶媒分解物組成物を製造する工程を含み、該加溶媒分解工程における各成分の含有量の比（Ｂ'）／（Ａ'）が１以上であり、かつ、各成分の配合割合（Ｂ'）／（Ａ'）が、重量比にて５０／５０〜１／９９である該加溶媒分解物組成物を製造する。 （もっと読む）

【課題】式(1)または(2)の構成単位と環構造を有しながら、異物の含有量が少ないアクリル系重合体を提供する。
【解決手段】式(1)または(2)の構成単位を有し、主鎖に環構造を有し、Tgが110℃以上であり、濃度15重量％のクロロホルム溶液としたときに、測定光透過距離が1cmの測定セルに収容、測定した溶液の濁度が2％以下のアクリル系重合体とする。R¹-R⁴は水素または有機残基、R⁵はO¹に結合する炭素が2または3級の有機残基、Arはアリール基。


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【課題】高感度化だけではなく、基板密着性、耐熱性、保存性を改良することができる感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、連鎖移動剤、及び熱架橋剤を含有してなり、前記連鎖移動剤が、下記一般式（Ａ)で表される化合物である感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。


Ｒ_１及びＲ_２は、いずれも水素原子及び有機官能基のいずれかを表し、Ｒ_１及びＲ_２のうち少なくとも１つは、有機官能基を表し、Ｒ_１とＲ_２とは環を形成してもよい。Ｙは、酸素原子、及び硫黄原子のいずれかを表す。ｎは、２〜８を表し、Ｚは、ｎ官能の有機連結鎖を表す。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターン転写を行っても良好なパターン形成性、および基板加工用途に用いた際にエッチング後のラインエッジラフネスが良好であるインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体を少なくとも１種と、（Ｂ）光重合開始剤とを含有するインプリント用硬化性組成物であって、
前記（Ａ）重合性単量体が、フロロアルキル基およびフロロアルキルエーテル基から選ばれる含フッ素基を少なくとも２つ含有し、かつ、該含フッ素基の少なくとも２つは、炭素数２以上の連結基により隔てられている化合物であることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】従来の製造方法は、ポリマーの体積均粒子径が１μｍ以上のポリマーポリオールしか得られない。その結果、そのポリマーポリオールを用いたウレタン樹脂（例えば、ウレタンフォーム）の硬さ、切断伸度及び引裂き強度が不十分となる。
【解決手段】ポリマーの粒子がポリオール（Ｃ）中に分散されてなるポリマーポリオールの製造方法であって、熱可塑性ポリマー（Ａ）を、分散剤（Ｅ）の存在下、及び必要によりさらに可塑剤（Ｆ）の存在下、回転式分散混合装置及び高圧式分散混合装置からなる群より選ばれる少なくとも１種の分散混合装置(Ｂ)を用いて、８０℃〜２００℃で、ポリオール（Ｃ）中に分散させる工程（Ｉ）を含んでなるポリマーポリオールの製造方法。 （もっと読む）

【課題】焦点深度、ＬＷＲ、ＭＥＥＦに優れるとともに、現像欠陥にも優れた化学増幅型レジストである感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の二種の繰り返し単位を含有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤および（Ｃ）特定のアンモニウム構造を有する化合物を含有する、感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】耐疲労性に優れたシス−１，４−ポリブタジエンとシンジオタクチック−１，２−ポリブタジエンからなる補強ポリブタジエンゴムを提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエンを不活性有機溶媒中で可溶性コバルト化合物、ハロゲン含有の有機アルミニウム化合物、および水からなる触媒でシス−１，４重合し、得られた重合反応混合物に可溶性コバルト化合物、トリアルキルアルミニウムを添加し、二硫化炭素の存在下でシンジオタクチック−１，２重合する補強ポリブタジエンゴムの製造方法であって、シス−１，４重合終了時の重合体の１００℃におけるムーニー粘度を１５〜２９、かつ、得られる補強ポリブタジエンゴム中の沸騰ｎ−ヘキサン不溶分の含有量を１０〜２０重量％とすることを特徴とする補強ポリブタジエンゴムの製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が下記一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ¹は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基又はアルコキシカルボニル基、炭素数６〜１０のアリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基である。ｍは１〜４の整数である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】露光部における指紋部の画像抜けや、空気中の水分、塩（Ｎａｃｌ）などによる画像故障が改善された平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、（Ｂ）酸により架橋する架橋剤、（Ｃ）バインダーポリマー、（Ｄ）赤外線吸収剤、及び（Ｅ）（ａ）側鎖にフッ素原子の数が９以上のフルオロアルキル基等含有置換基を有する（メタ）アクリレート（１）と、（ｂ）下記一般式（２）で示される側鎖に、カルボキシル基含有の炭素数３〜３０の脂肪族環状構造を有する（メタ）アクリレート（２）と、を共重合成分として有する高分子化合物、を含有する画像記録層を有するネガ型平版印刷版原版。
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【課題】簡便かつ効率的に、分子量分布が狭い芳香族ビニル化合物重合体を得ることができる芳香族ビニル化合物重合体の製造方法、該方法により製造された芳香族ビニル化合物重合体、ゴム組成物およびタイヤの提供。
【解決手段】飽和炭化水素溶媒、脂環式炭化水素溶媒および芳香族炭化水素溶媒よりなる群から選ばれる１種以上からなる溶媒中に、下記一般式（Ｉ）、


の単独重合体、もしくは一般式（Ｉ）と一般式（Ｉ）の置換基自由度として、ヒドロキシル基をさらに加えたものとの共重合体を添加し、さらに、フリーデルクラフツ触媒を開始剤として使用し、開始剤を滴下し始めた後、開始剤を滴下した始めた温度ｔ℃に対し、ｔ℃未満（ｔ−６）℃以上の温度範囲で、滴下を終了させ、その後、アルコール溶媒で精製する芳香族ビニル化合物重合体の製造方法、該製造方法により製造された芳香族ビニル化合物重合体、ゴム組成物およびタイヤである。 （もっと読む）

１−ブテンホモポリマー類又は１−ブテン／アルファオレフィンコポリマー類の製造法であり、ここで、アルファオレフィン類は、エチレン、プロピレン若しくは式ＣＨ_２＝ＣＨＺ（式中、ＺはＣ_３−Ｃ_２０アルキル基である）のアルファオレフィンから選択し、１−ブテン若しくは１−ブテンと１種以上のアルファオレフィンとを、触媒系の存在下、重合条件下で接触させることを含み、前記触媒系は、（ａ）ＭｇＣｌ_２に担持させたＴｉ化合物及び内部供与体化合物を含む固体成分；（ｂ）アルキルアルミニウム助触媒；及び（ｃ）外部供与体として、式（Ｉ）（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は互いに等しいか異なり、水素原子、又はＣ_１−Ｃ_２０炭化水素基であり、場合により、元素の周期表の１３〜１７族に属するヘテロ原子を含有しても良く；あるいは２個のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４が結合してＣ_５−Ｃ_２０飽和若しくは不飽和環を形成できる）の化合物、を含む。
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【課題】解像性およびＭＥＦなどのリソグラフィー特性に優れるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、窒素原子を側鎖に含む構成単位（ａ_Ｎ）と、側鎖に、酸解離性基を有するエステル結合を連結基を介して有する（メタ）アクリレート単位（ａ０）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、耐熱性及び透明性に優れ、結晶化度が速く、成形サイクルを短縮でき、生産性を向上させることができるポリオレフィン系樹脂組成物およびそれからなる成形体を提供することにある。
【解決手段】
プロピレン単独重合体（Ａ）５５〜９７重量部、およびα−オレフィン重合体（Ｂ）（ただし、重合体（Ａ）である場合を除く。）３〜４５重量部からなるポリオレフィン系樹脂組成物であって、
前記プロピレン単独重合体の（Ａ）は、メルトフローレートが２〜７０ｇ／１０分（ＪＩＳ Ｋ７２１０、温度２３０℃、荷重２１．１８Ｎ）、荷重たわみ温度が９０℃以上であり、
前記α−オレフィン重合体（Ｂ）は、１９０℃の粘度が５０００〜５０００００ｍＰａ・ｓ、数平均分子量が１０００〜５００００で、軟化点が１００〜１７０℃であり、
ポリオレフィン系樹脂組成物は、メルトフローレート（ＪＩＳ Ｋ７２１０、温度２３０℃、荷重２１．１８Ｎ）が３〜８０ｇ／１０分の範囲であることを特徴とするポリオレフィン系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】機械的強度と加工性とのバランスに優れたエチレン−α−オレフィン共重合体を提供する。
【解決手段】ＭＦＲが０．０１〜３０であり、Ｍｗ／Ｍｎが１．５〜６であり、Ｍｗが５００００００ｇ／ｍｏｌ以上の成分及び１０００ｇ／ｍｏｌ以下の成分のいずれもが検出されず、ＮＭＲで検出される長鎖分岐度が０．３／１０００Ｃ未満であり、かつ歪硬化の非線形指数が０．４以上であるエチレン‐α‐オレフィン共重合体。ＭＦＲが０．０１〜３０であり、Ｍｗ／Ｍｎが１．５〜６であり、Ｍｗが５００００００ｇ／ｍｏｌ以上の成分及び１０００ｇ／ｍｏｌ以下の成分のいずれもが検出されず、ＮＭＲで検出される長鎖分岐度が０．３／１０００Ｃ未満であり、かつ温度１９０℃および角周波数１００ｒａｄ／秒における動的複素粘度が、１２００Ｐａ・秒以下であるエチレン‐α‐オレフィン共重合体。 （もっと読む）

【課題】メタクリル樹脂の連続重合において、一時的な運転停止に際し、無駄になる原料および運転再開までの所要時間を最小にし、有色異物の発生を防止し円滑に運転を再開できる方法を提供する。
【解決手段】メタクリル酸メチル系単量体を、１４０℃での半減期が０．５〜２０秒であるラジカル重合開始剤を用い、１３０〜１６０℃で、重合率を４０〜６５質量％に維持しつつ、完全混合型反応槽内で連続的に重合して、メルトフローレートが９ｇ／１０分未満のメタクリル樹脂を製造する反応において；
単量体および開始剤の供給を停止して、完全混合型反応槽内の、反応液量、温度および重合率を維持したまま、反応を一時的に停止させる方法であって；
メタクリル酸メチル系単量体およびラジカル重合開始剤の供給を止める前に、重合体のメルトフローレートが９〜２５ｇ／１０分となるように連鎖移動剤を加える、連続重合の一時停止方法。 （もっと読む）