【課題】透明ガラス基板上に、金属ナノ粒子インクを用いて細線パターンを印刷する場合に、インクのハジキや液寄りがなく、表面凹凸の少ない細線パターンを得る。特に、スクリーン印刷において、高精細な細線パターンを得る。さらに、細線パターン上に、ポリマー導電層を積層することで、導電性、透明性、導電性の面均一性に優れた透明電極を実現する。
【解決手段】透明ガラス基板１１上に、金属ナノ粒子を含む金属インクを用いて、金属細線パターンからなる金属導電層１２を形成し、該金属導電層１２の上に、導電性ポリマーからなるポリマー導電層１３を積層する透明電極の製造方法において、該透明ガラス基板１１の２次元表面エネルギーの分散項γｄが、γｄ≧３０ｍＮ／ｍであることを特徴とする透明電極１４の製造方法。 （もっと読む）

【課題】剛性、耐熱性、高発泡加工性に優れ、エアコン配管用保温材、冷凍・冷蔵機用保温材、給水・給湯管用保温材向けに適したポリエチレン系樹脂製断熱材基材及びそれよりなる断熱パイプカバーを提供する。
【解決手段】ポリエチレン系樹脂組成物を含んでなり、見掛け密度が９０ｇ／Ｌ以上、６５０ｇ／Ｌ以下、独立気泡率が７０％以上の発泡シートであるポリエチレン系樹脂製断熱材基材であって、該ポリエチレン系樹脂組成物が、直鎖状ポリエチレン（α）９０〜４０質量％と、高圧法低密度ポリエチレン（β）１０〜６０質量％を含むポリエチレン系樹脂組成物であり、該ポリエチレン系樹脂組成物の密度が９３０〜９６０ｋｇ／ｍ^３、１９０℃、２．１６ｋｇ荷重におけるメルトフローレートが０．１〜２０ｇ／１０分、示差走査型熱量計による昇温測定において得られる吸熱曲線の融点ピークが一つ、伸長粘度の測定においてひずみ硬化性を有し、かつ、ひずみ硬化度（λｍａｘ）が２．０〜３０であることを特徴とする、上記ポリエチレン系樹脂製断熱材基材。 （もっと読む）

【課題】調製するＡＥコンクリートの流動性や空気連行量、また得られる硬化体の圧縮強度や中性化抑制に悪影響を及ぼすことなく、得られる硬化体の収縮率を５０マイクロ以下に抑えて該硬化体を実質的に無収縮のものにすることができる無収縮ＡＥコンクリートの調製方法を提供する
【解決手段】セメント、細骨材、粗骨材、乾燥収縮低減剤、膨張材、セメント分散剤、空気量調節剤及び水を用いてＡＥコンクリートを調製するに際し、セメントとして早強ポルトランドセメントを特定割合で用い、また細骨材の少なくとも一部として特定の高炉スラグ細骨材を特定割合で用い、同時に乾燥収縮低減剤及び膨張材を特定割合で用い、且つ単位量率が特定範囲となるようにした。 （もっと読む）

【課題】遷移金属錯体を重合触媒とするビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合により製造されるビニル系重合体の着色低減方法を提供することを目的とする。
【解決手段】遷移金属錯体を重合触媒とするビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合により製造されるビニル系重合体の着色低減方法であって、加水分解性シリル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基から選択される少なくとも一つの架橋性官能基を平均して少なくとも一個有するビニル系重合体（Ｉ）に対し、過酸化水素水を１００℃以上で接触させることを特徴とする着色低減方法である。 （もっと読む）

【課題】高収率で、分子量分布が狭い樹脂を製造することができるレジスト組成物用樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】溶解度パラメーターが１１．８〜１３．０[ｃａｌ／ｍｏｌ]^１／２の範囲内である溶剤（１）中に、アセチル基含有溶剤である溶剤（２）［ただし溶剤（１）とは異なる。］、モノマー及び重合開始剤を添加する工程、好ましくは、溶剤（２）、モノマー及び重合開始剤を混合してなる混合物を滴下する工程を有するレジスト組成物用樹脂の製造方法の提供。 （もっと読む）

【課題】被めっき層のプラズマエッチング処理を容易に実施することができ、パターン状金属膜間の絶縁性に優れた積層体を得ることができる、パターン状金属膜を有する積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】所定のユニットからなる二元共重合体を含む被めっき層形成用組成物を用いて基板上に被めっき層１２を形成する被めっき層形成工程と、被めっき層にめっき触媒またはその前駆体を付与する触媒付与工程と、めっき処理を行い、被めっき層上に金属膜１４を形成するめっき工程と、エッチング液を使用してパターン状金属膜を形成するパターン形成工程と、パターン状金属膜を有する基板と酸性溶液とを接触させる酸性溶液接触工程と、パターン状金属膜が形成されていない領域３０の被めっき層１２をプラズマエッチング処理により除去する被めっき層除去工程とを備える、パターン状金属膜１６を有する積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ビニルエステル樹脂を原料として水溶媒系で簡単にけん化して、アルカリ金属を含まず、着色のない、高重合度のビニルアルコール樹脂の水溶液を製造できるビニルアルコール樹脂水溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】ビニルエステル樹脂を、アミン化合物を含む温度１００〜２５０℃、圧力０．２〜１００ＭＰａの高温高圧水と接触させてけん化するビニルアルコール樹脂水溶液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターを有し、かつ欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、酸発生剤、式（ＩＩ）で表される化合物及び溶剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−又は−（ＣＨ_２）_ｍ４−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ５−；ｍ１〜ｍ５は、それぞれ独立に、１〜６の整数；Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基；環Ｗ^１は飽和複素環を表す。］ （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体形成用塗布液の調製のために好適なポリマー組成物を製造するための手段を提供すること。
【解決手段】ポリマー組成物の製造方法。前記ポリマー組成物は、所定の４種のモノマー（モノマー１〜４）を含む原料モノマーの重合反応により得られるポリマーを含み、モノマー１を水または水とアルコールとの混合溶媒に添加して調製した溶液Ａと、モノマー２、３および４をケトン系溶媒に添加して調製した溶液Ｂとを混合して原料モノマー混合液を調製し、該原料モノマー混合液中で前記重合反応を行う。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、露光ラチチュード及びドライエッチング耐性に優れ、かつ露光により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）、及び酸の作用により分解してアルコール性水酸基を生じる基と多環の脂環式炭化水素基とを有する繰り返し単位（ｂ）を有する樹脂（Ｐ）並びに活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】従来の重合体と比較して十分な再汚染防止能を有する重合体を提供することを目的とする
【解決手段】
１質量％以上、８９質量％以下のヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート由来の構造単位（ａ）、１０質量％以上、９８質量％以下のカルボキシル基含有単量体（Ｂ）由来の構造単位（ｂ）、及び、１質量％以上、８９質量％以下のスルホン酸基含有単量体（Ｃ）由来の構成単位（ｃ）、を必須構造単位として有する共重合体である。 （もっと読む）

【課題】優れた加工性を有しかつ省燃費性が良好な重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体を提供する。
【解決手段】ピークＨのピーク面積が３〜３０％であり、ピークＭの総ピーク面積が５〜４５％であり、ピークＬの総ピーク面積が４０〜８０％である共役ジエン系重合体。
ピークＨ：ピークトップの分子量がピークＭのピークトップの分子量よりも高いピークであり、特定のケイ素化合物１モル量と共役ジエン系重合体３モル量とが反応した重合体
ピークＭ：ピークＨのピークトップの分子量をＭＨとして、ピークトップの分子量が０．６×ＭＨ〜０．８×ＭＨであるピークであり、特定のケイ素化合物１モル量と共役ジエン系重合体２モル量とが反応した重合体
ピークＬ：ピークＨのピークトップの分子量をＭＨとして、ピークトップの分子量が０．２×ＭＨ〜０．４×ＭＨであるピークであり、特定のケイ素化合物１モル量と共役ジエン系重合体１モル量とが反応した重合体 （もっと読む）

【課題】高温下での保持力を始めとする各種粘着特性に優れると共に、耐熱性及び耐候性が良好であり、ホットメルト塗工や溶融押出しにも優れる粘着剤として好適な高分子素材、これらの特長を具備した粘着剤、並びにこれらの特長を具備した粘着層を有する粘着テープ及び粘着型光学フィルムを提供する。
【解決手段】特定のアクリル系ジブロック共重合体（a）からなるペレット、かかるペレットを含む粘着剤組成物、並びにかかる粘着剤組成物からなる粘着層を有する粘着テープ及び粘着型光学フィルムを作製する。 （もっと読む）

【課題】膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基及び、熱又は酸の作用によりカルボン酸又はフェノール性ヒドロキシ基を生成する基からなる群から選択される少なくとも一種類の基を有し、且つ、数平均分子量が２，０００乃至３０，０００であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）成分：一分子の末端に２個以上の不飽和基を有する化合物、
（Ｃ）成分：光酸発生剤、
（Ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いて得られる硬化膜。 （もっと読む）

【課題】流動性および成形加工性に優れ、その材料単味で（他に重合体成分を必要としない）、自動車工業部品、工業用ゴム製品、電気絶縁材、土木建材用品およびゴム引布等のゴム製品などを形成することができる新規材料を提供すること。
【解決手段】エチレン［Ａ］、炭素原子数３〜２０のα−オレフィン［Ｂ］および少なくとも一種の非共役ポリエン［Ｃ］に由来する構造単位を含むエチレン系共重合体であって、前記エチレン［Ａ］に由来する構造単位および非共役ポリエン［Ｃ］に由来する構造単位の、前記共重合体の全構造単位１００モル％中の含有量が一定範囲にあり、前記共重合体の１３５℃のデカリン溶液中で測定した極限粘度[η]が０．２５〜０．５５ｄＬ／ｇであり、前記共重合体のインバージョン値が０．０１〜０．５０であることを特徴とするエチレン系共重合体。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される酸によって分解しカルボキシル基を生じる繰り返し単位（ａ１）を有する樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】従来の重合体と比較して十分な再汚染防止能を有する重合体を提供することを目的とする
【解決手段】
１質量％以上、８９質量％以下のヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート由来の構造単位（ａ）、１０質量％以上、９８質量％以下のカルボキシル基含有単量体（Ｂ）由来の構造単位（ｂ）、及び、１質量％以上、８９質量％以下のポリアルキレングリコール系単量体（Ｃ）由来の構成単位（ｃ）、を必須構造単位として有する共重合体である。 （もっと読む）

【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）カルボキシ基又はフェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（ａ１）と、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有するモノマー単位（ａ２）と、アミノ基、アミド基、イミド基、スルホンイミド基、スルホンアミド基、イミノ基、ウレタン結合及びウレイド結合よりなる群から選ばれた構造を有するモノマー単位（ａ３）と、を有する重合体、（成分Ｂ）光酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤、を含むことを特徴とする
ポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】溶剤に対する分散性と溶解性に優れ、紡糸工程の安定性を向上できるアクリロニトリル系重合体粒子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】アクリロニトリル100質量部とヒドロキシアルキルメタクリレート及び／又はヒドロキシアルキルアクリレート１質量部以上5質量部以下を含む単量体、亜硫酸水素アンモニウムと過硫酸アンモニウムをモル比0.5以上3.8以下となる割合で含む開始剤及び水を水／単量体の質量比1.5以上2.6以下となるよう連続的に反応器内に供給し、反応器内の攪拌動力を2.4kW/m³以上5.3kW/m³以下の範囲内とするレドックス水系析出重合によるポリアクリロニトリル系重合体粒子の製造方法；並びにこの方法によって得られる重合体粒子嵩比重が0.33g/cm³以上0.50g/cm³以下、体積平均粒径が15μｍ以上30μｍ以下のポリアクリロニトリル系重合体粒子。 （もっと読む）

【課題】新規な高活性触媒成分およびそれを用いた分岐が少なく結晶性を有するα−オレフィン重合体またはα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ａ）で表される金属錯体、及びそれの使用。


［式中、Ｍは１０族等の遷移金属を表す。Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基等を表す。Ｌ^１は、Ｍに配位したリガンドを表す。Ｅ^１はリン、砒素又はアンチモンを表す。Ｘ^１は、酸素又は硫黄を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に炭素数１〜３０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。Ｒ^４及びＲ^６は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の炭化水素基等を表す。Ｒ^５及びＲ^７は、それぞれ独立に炭素数１〜３０のハロゲン化炭化水素基又はトリアルキルシリル基を表す。］ （もっと読む）