【課題】低臭気、低揮発性、低皮膚刺激性、および低毒性で、硬化性、基材密着性、および透明性に優れるため、インク、および塗料に代表されるインク用原料、ならびにレジスト、カラ−フィルタ、接着剤、製版材、封止材、および画像形成剤に代表される電子材料用原料などに用いられる、ジビニルエーテルホモポリマーの提供。
【解決手段】式（Ｉ）：


（式中、Ｘは単結合又は二重結合を示し、ｎは平均重合度を表す正の数である）
で表されるジビニルエーテルホモポリマー。 （もっと読む）

【課題】パターン形状、ラフネス性能、及び、オーバー露光マージンに優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、（Ｃ）下記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物、又は、下記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物の複数が連結基を介して結合された構造を有する化合物、及び、（Ｇ）溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】必要に応じて各種の特性を発揮して、水中接着剤等として使用されるのに好適な新しいタイプのポリマーを提供する。
【解決手段】ポリマーは、ポリアクリレートから成る主鎖に少なくとも３種類の側鎖が結合されているポリマーであって、前記側鎖のうちの第１の側鎖は、前記ポリアクリレートを構成するモノマーに由来する構造を有し、その末端にリンカー部位を介して親水性または疎水性の官能基または原子団が結合されていてもよく、前記側鎖のうちの第２の側鎖は、その末端に修飾されていてもよいカテコール性水酸基を有し、前記側鎖のうちの第３およびそれ以降の側鎖は、前記ポリマーを改変し、または該ポリマーに所定の機能を付与する官能基または原子団を有する。 （もっと読む）

【課題】中性表面を形成するためのランダム共重合体、及びその製造並びにその使用方法を提供する。
【解決手段】下記式の構造を有し、


式中、Ｒはホスホン酸基である。複数のヒドロキシ基を有するホスホン酸基を含む本発明のランダム共重合体は、基板又は粒子と複数のヒドロキシ基との脱水反応により形成される共有結合を有するため、中性層を形成するための工程時間が短縮される。 （もっと読む）

【課題】カチオン界面活性剤の吸着量、毛髪化粧料として用いたときの粘度や塗布時のなめらかさに優れた共重合体、それを含有する化粧料組成物及び毛髪化粧料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基を構造内に有するビニル系モノマー（Ａ）に相当する構成単位と、特定の親水性ノニオンビニル系モノマー（Ｂ）に相当する構成単位と、特定の疎水性ビニル系モノマー（Ｃ）に相当する構成単位とを有する共重合体であって、共重合体の全質量に対してビニル系モノマー（Ａ）に相当する構成単位の割合が１５〜８０質量％である共重合体。 （もっと読む）

【課題】セメント分散性やスランプ保持性等の性能をより高いレベルで発揮することができ、各種用途、特にセメント混和剤用途に有用なポリアルキレングリコール系重合体、それを用いたセメント混和剤及びセメント組成物を提供する。
【解決手段】ポリアルキレングリコール鎖の末端の少なくとも１つにおける末端酸素原子が、ビニル系単量体成分由来の構成単位を含む重合体の主鎖末端と直接又は有機残基を介して結合した構造を有するポリアルキレングリコール系重合体であって、特定の構造を有し、該ビニル系単量体成分は、スルホン酸基を有する単量体を必須に含むポリアルキレングリコール系重合体。 （もっと読む）

【課題】密着性と解像度が優れ、レジストの微少な欠損が少なく、断面形状が矩形に近いレジストパターンを形成可能な感光性エレメント、並びに、これを用いたレジストパターンの形成及びプリント配線板の製造方法の提供。
【解決手段】支持フィルム１０と、その上に形成された感光層２０と、保護フィルムを備える感光性エレメント１であって、支持フィルムのヘーズが、０．０１〜１．５％であり、かつ、該支持フィルムに含まれる直径５μｍ以上の粒子及び直径５μｍ以上の凝集物の総数が５個／ｍｍ^２以下であり、また、バインダーポリマーとエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含有する感光層の厚さＴ（μｍ）と３６５ｎｍにおける吸光度Ａとが、０．００５≦Ａ／Ｔ≦０．０２０で表される関係を満足し、更に、保護フィルムの酸素透過率が、５×１０^−２ｍ^３／ｍ^２・日・ＭＰａ以下である感光性エレメント。 （もっと読む）

【課題】低臭気、低揮発性、低皮膚刺激性、および低毒性で、硬化性、基材密着性、および透明性に優れるため、インク、および塗料に代表されるインク用原料、ならびにレジスト、カラ−フィルタ、接着剤、製版材、封止材、および画像形成剤に代表される電子材料用原料などに用いられる、ジビニルエーテルホモポリマーの提供。
【解決手段】式（Ｉ）：


（式中、Ｘは単結合又は二重結合を示し、ｎは平均重合度を表す正の数である）
で表されるジビニルエーテルホモポリマー。 （もっと読む）

【課題】押出コーティング、押出異形材および押出キャストフィルムを作製するのに適したポリエチレン系樹脂を提供する。
【解決手段】押出コーティングでの使用に特に適した組成物が開示される。組成物は、損失弾性率（またはＧ”）対貯蔵弾性率（またはＧ’）の自然対数−自然対数プロットの傾きＳが［０．６３５＊（メルトインデックス）＋１３．２］／［（メルトインデックス）＋１６．６］を超えるようなレオロジーを有するポリマー材料を含み、該ポリマー材料は、８５，０００ｇ／ｍｏｌを超える分子量を有するＧＰＣクロマトグラムの０．２３未満のＣＤＦＲＩ画分、および１，７５０，０００ｇ／ｍｏｌまたはそれ以上の従来のＧＰＣ分子量における０．０７超のＣＤＦＬＳ画分を有する。組成物は、押出コーティングで使用したときに低下したネックインを示し、ネックインは溶融強度から独立しており、そのために改良された押出工程を促進する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性が高く、かつ透明性、耐湿熱性、成型加工性にも優れたメタクリル系樹脂を含む計器カバーを提供する。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位（Ａ）：７０〜９５質量％及びマレイミド系単量体単位（Ｂ）：５〜３０質量％を含有し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した重量平均分子量が６万〜３０万であるメタクリル系樹脂を含む計器カバーを提供する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びレジストパターン形状に優れ、且つ高感度なレジストパターンを形成できるレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）と、ヒドロキシアダマンチル基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ５）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有し、酸分解性基を分解させるための活性化エネルギーが１００ｋＪ／ｍｏｌ以下であるレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｒ^１−５、Ｌ^１−ＣＨ_２−、Ｙは特定の基。］ （もっと読む）

【課題】高い流動性、加工性、耐衝撃性、耐溶剤性、耐熱性を有するアクリル系樹脂を得
る。
【解決手段】ＪＩＳ−Ｚ８８０１に基づく篩を用いて篩い分けを行ったときの、
５００μｍ以上の粒子径の粒子の重量平均分子量（Ａ）と、
３５５μｍ〜３００μｍの粒子径の粒子の重量平均分子量（Ｂ）と、
１５０μｍ以下の粒子径の粒子の重量平均分子量（Ｃ）と、
において、下記関係式（１）、（２）を満たすアクリル系樹脂。
０≦｜[（Ａ）−（Ｂ）] ／（Ｂ）｜×１００（％）≦１０ ・・・（１）
０≦｜[（Ｃ）−（Ｂ）] ／（Ｂ）｜×１００（％）≦１０ ・・・（２） （もっと読む）

【課題】重合体を抽出する時に通常の脱溶媒手順を用いることができ、かつ低い分子量を有するブタジエン重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】ａ）触媒存在下の適切な溶媒中で、場合により他の１種以上の共役単量体の存在下にジエンを重合させて１番目の重量平均分子量を有する重合体を生成させ、ｂ）前記重合体をカップリング剤と反応させて前記１番目の重量平均分子量より高い２番目の重量平均分子量を有する結合重合体を生成させ、ｃ）前記結合重合体の脱溶媒を行い、そして、ｄ）前記脱溶媒した結合重合体を脱結合させて前記結合重合体の重量平均分子量より低い重量平均分子量を有する脱結合ジエン含有重合体を生成させる、製造方法。 （もっと読む）

【課題】インク、塗料、コーティング、粘着剤、接着剤等の分野において、バインダーや添加剤として、水性系溶媒に対する溶解性又は分散性、成膜性に優れたビニルエーテル共重合体を提供する。
【解決手段】ビニルエーテルのエーテル部分が、−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−）ｐ−Ｈ、（ｐは１〜２の整数）、であるビニルエーエーテル単量体（Ｉ）、及びビニルエーテルのエーテル部分がエチル基からなるビニルエーテル単量体（ＩＩ）を構成単位として含むビニルエーテル共重合体。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びレジストパターン形状に優れ且つ高感度なレジストパターンを形成できるレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（ａ５−１）で表される構成単位と、酸分解させるための活性化エネルギーの差が１〜５０ｋＪ／ｍｏｌである、少なくとも２種のアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】混練り加工性、低発熱性、耐屈曲疲労性、耐空気透過性、操縦安定性がバランスよく得られるタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】エポキシ化率が１５〜６５モル％のエポキシ化天然ゴムと、エポキシ化率が１５〜６５モル％のエポキシ化ブタジエンゴムとを含み、前記エポキシ化天然ゴム及び前記エポキシ化ブタジエンゴムの合計含有量がゴム成分１００質量％中６５質量％以上であり、ゴム成分１００質量部に対して、シリカを２０〜１００質量部含むタイヤ用ゴム組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、良好な感度に加え、未露光部の膜厚変化量が少ない感放射線性樹脂組成物、この感放射線性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜、並びにその形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］同一又は異なる重合体分子中に、下記式（１）で表される基を有する構造単位（Ｉ）及びエポキシ基を有する構造単位（ＩＩ）を含み、構造単位（Ｉ）の含有率が１０モル％以上９０モル％以下である重合体を含有する感放射線性樹脂組成物である。現像前の塗膜の膜厚Ｔ_０に対する現像後の膜厚Ｔ_１の膜厚変化率は、９０％以上であることが好ましい。
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【課題】燃料電池等に使用するのに実用上必要な膜強度を与え、含水状態において高い導電性を与えると共に、低湿度状態においても高い導電性を与えるイオン伝導性膜を形成でき、かつ環境上安全な溶媒を用いて安価に製造できるイオン伝導性高分子物質の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（１）


で示される不飽和モノマーと、
（Ｂ）分子内に１個以上のスルホン酸基と１個以上のエチレン性不飽和結合とを有するスルホン酸基含有不飽和モノマーと、
（Ｃ）分子内に１個以上のホスホン酸基と１個以上のエチレン性不飽和結合とを有するホスホン酸基含有不飽和モノマーと
を含む不飽和モノマーを親水性重合触媒及び親油性重合触媒存在下に共重合させるイオン伝導性高分子物質の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた加工性を有すると共に、低燃費性、ウェットグリップ性能を向上できるタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ゴム成分と、シリカと、式（Ｉ）で表される化合物とを含み、シリカとの相互作用を有する変性ジエン系ゴムの含有量が、ゴム成分１００質量％中１０〜１００質量％であり、シリカの含有量が、ゴム成分１００質量部に対して、１０〜１５０質量部であるタイヤ用ゴム組成物。


（Ｒ^２及びＲ^３は、式（ＩＩ）で表される基でも良い。ｑは、０〜８。）


（ｐは、０〜１０。） （もっと読む）