【課題】基板に形成されたレジストパターンとミキシングすることがなく、このパターン間に良好に埋め込むことができ、且つパターンとの密着性に優れると共に、酸素アッシング耐性及び保存安定性に優れるパターン反転用樹脂組成物及び反転パターン形成方法を提供する。
【解決手段】パターン反転用樹脂組成物は、被加工基板上にレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンのパターン間にパターン反転用樹脂組成物を埋め込む工程と、レジストパターンを除去し、反転パターンを形成する工程と、を備える反転パターン形成方法において用いられるものであって、特定のアクリロイルオキシアルキル基を有する構成単位を含むポリシロキサンと、有機溶剤と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】加熱硬化後のインプリント性、基板密着性、耐熱性および表面硬度に総合的に優れたナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】Ａ）シランカップリング剤、Ｂ）高分子ケイ素化合物、Ｃ）光重合性単量体およびＤ）光重合開始剤を含有することを特徴とする光ナノインプリント用組成物。Ａ）シランカップリング剤が重合性基を含有し、Ｂ）高分子ケイ素化合物が、シルセスキオキサンである、光ナノインプリント用組成物。Ａ）シランカップリング剤が重合性基を含有する光ナノインプリント用組成物。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング速度の選択性が高く、かつレジスト等に用いる微細パターンを熱またはＵＶナノインプリント法によって形成することのできる転写材料用硬化性組成物およびその形成方法を提供する。
【解決手段】式（１）、（２）で表される構造単位を有し、分子の末端が−Ｏ−Ｓｉ（ＯＲ）₃または−Ｏ−Ｓｉ（ＯＸ）₃である硬化性ケイ素化合物を含有する、微細パターンを形成するための転写材料用硬化性組成物およびこれを用いた微細パターン形成方法。




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【課題】
機械強度等の基本的性能を充分なものとしながら耐熱性や耐溶剤性等の特性が顕著に向上されたものであり、高温環境下においても各種物性の低下が低い硬化物を形成できる硬化性組成物として、特に、パワーモジュール用絶縁材料、アセンブリ用接着剤、航空／宇宙産業用接着剤等に好適に使用することができるシロキサン化合物、及び、このようなシロキサン化合物を含有する硬化性組成物を提供する。
【解決手段】
イミド結合及びシロキサン結合を有するシロキサン化合物（Ｉ）であって、上記シロキサン化合物（Ｉ）は、分子骨格中及び分子末端にイミド結合を有することを特徴とするシロキサン化合物（Ｉ）である。 （もっと読む）

【課題】硬度、耐擦傷性、低カ−ル性等に優れた被膜を各種基材の表面に形成し得る組成物を提供する。
【解決手段】成分（Ｈ）以外の全量を100質量％として、（Ａ）（メタ）アクリロイル基を有する特定の金属酸化物を主成分とする粒子50〜85質量％、（Ｂ）環状構造及び（メタ）アクリロイル基を３個以上有する特定の化合物10〜40質量％、（Ｃ）式（１）：


［式中、Ｒ^４はアルキル基、Ｒ^６は単結合等、Ｒ^７及びＲ^８はパーフルオロアルキレン基、Ｚは（メタ）アクリロイル基を5個以上有する基、ｍ及びｎは整数である。］で示される化合物0.01〜10質量％、（Ｇ）光重合開始剤0.1〜10質量％、及び（Ｈ）有機溶剤、を含有するスプレーコート用コーティング組成物。 （もっと読む）

【課題】高プロトン伝導性を有し、燃料遮断性及び耐久性にも優れるプロトン伝導性膜の提供。
【解決手段】ケイ素−酸素結合を有する架橋性化合物（Ａ’）、ケイ素−酸素−ケイ素結合を形成し得る基及び重合性不飽和二重結合を有するシラン化合物（α）、酸基及び重合性不飽和二重結合を有する酸基含有化合物（β）及び重合開始剤を混合して、重合性組成物を調製する第一工程と、該重合性組成物を成膜する第二工程と、成膜した重合性組成物を重合させる第三工程とを有し、前記構造体（Ａ’）が、下記一般式（１’）で表され、前記重合開始剤として、１０時間半減期温度が異なる複数種類の重合開始剤を使用することを特徴とするプロトン伝導性膜の製造方法。
〔化１〕
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【課題】 付着した汚れを水洗によって簡易に取り除くことが出来、水滴が付き難い表面を形成するフィルムを得るためのビニル基含有ポリシロキサン化合物とこれを含有する活性エネルギー線硬化性組成物及びフィルムとその製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式（１）で示される化合物と一般式（２）で示されるシランカップリング剤を、一般式（１）中の−ＯＲ^１及び一般式（２）中の−ＯＲ^３，−ＯＲ^４，−ＯＲ^５で示される官能基の総モル数をＭとし、水のモル数をＷとしたとき、（Ｗ×４／Ｍ）＋ａの値が１．００以上１．４０以下となる量の水を用いて縮合させて得られるビニル基含有ポリシロキサン化合物。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング速度の選択性が高く、かつレジスト等に用いる微細パターンを熱またはＵＶナノインプリント法によって形成することのできる転写材料用硬化性組成物およびその形成方法を提供する。
【解決手段】アクリロイル基を有するポリシロキサンからなり、分子の末端が−Ｏ−Ｓｉ（ＯＲ）_３（ここでＲは炭素数１〜４のアルキル基である）または−Ｏ−Ｓｉ（ＯＸ）_３（ここでＸはアクリロイル基を含有する基である）であって、すべてのＲに対するＸの存在割合が０．１以上である硬化性ケイ素化合物を含有する、微細パターンを形成するための転写材料用硬化性組成物およびこれを用いた微細パターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）一分子中に少なくとも２個の珪素原子と結合するアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン １００質量部、
（Ｂ）平均一次粒子径が１００μｍ以下の金属珪素粉末 ２０〜５００質量部、
（Ｃ）カーボンブラック ０．０１〜５０質量部
（Ｄ）上記（Ａ）成分を硬化し得る量の硬化剤
を含有し、硬化物の熱伝導率が０．５Ｗ／ｍＫ以上であることを特徴とする高熱伝導性シリコーンゴム組成物。
【効果】本発明の熱定着ロール、定着ベルトは、金属珪素粉末を配合した場合に特徴的に発生する成形色ムラが低減され、外観が良好なものである。 （もっと読む）

【課題】液体状態での揮発性が低く、硬化性に優れ、かつ良好な硬度を有する硬化物を与える多官能（メタ）アクリルアミド化合物の提供。
【解決手段】下記式（１）（２）で表される構造単位を有し、分子の末端が−Ｏ−Ｓｉ（ＯＲ）３または−Ｏ−Ｓｉ（ＯＸ）３であって、すべてのＲに対するＸの存在割合が０．１以上である多官能アクリルアミド化合物。


（式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を示す。）


（式中、Ｘは（メタ）アクリルアミド基を示す。） （もっと読む）

【課題】低比誘電率であり、かつ機械的強度に優れたシリカ系膜およびその製造方法、ならびにシリカ系膜の形成に用いられる絶縁膜形成用組成物の提供。
【解決手段】本発明の一態様に係る絶縁膜形成用組成物は、下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも１つと、下記一般式（２）で表される化合物と、下記一般式（３）で表される化合物とをアルカリ触媒を用いて加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒と、を含む。


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^８は、同一または異なり、アルキル基を示し、Ｘは、ビニル成分を有する基を示す。）・・・（１）Ｒ^９_a（Ｒ^１０Ｏ）_３−aＳｉ−（Ｒ^１３）_c−Ｓｉ（ＯＲ^１１）_３−bＲ^１２_b・・・（２）Ｒ^１４_ｄＳｉ（ＯＲ^１５）_４−ｄ・・・（３） （もっと読む）

【課題】籠構造を主鎖に取組んだ共重合体及びこれを含んだ硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)Ｙ−[Ｚ−(Ｏ_1/2−Ｒ²₂ＳｉＯ_1/2)_a−(Ｒ¹ＳｉＯ_3/2)_n−（Ｏ_1/2）_b]_m−Ｚ−Ｙ[Ｒ¹及びＲ²はビニル基、アルキル基、フェニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基、Ｚは下記一般式（2）


の２価の基であり、Ｙは下記（3）〜（5）のいずれかである。（3）[(Ｒ⁴Ｏ)Ｒ²₂ＳｉＯ_1/2]_a−[Ｒ¹ＳｉＯ_3/2]_n−[Ｏ_1/2]−（4）[Ｒ⁴Ｏ_1/2]_b−[Ｒ¹ＳｉＯ_3/2]_n−[Ｏ_1/2−Ｒ²₂ＳｉＯ_1/2]−（5）(Ｒ⁴Ｏ_1/2)−（6）(Ｒ²₃ＳｉＯ_1/2)−（Ｒ⁴は水素原子、メチル基又はエチル基）｝で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体である。 （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適な感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】重合性不飽和結合を有するポリシロキサン、および１，２−キノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】コンタクトレンズ用に十分な酸素透過性、濡れ性、および低いモジュラスを示すヒドロゲルを提供する。
【解決手段】テトラアルコキシシラン化合物と、エチレン性不飽和有機シロキサンモノマーと、親水性ケイ素含有多官能性モノマーとを持つ第１の混合物の加水分解-縮合によって製造された三次元ネットワーク構造のポリシロキサンベースのプレポリマー。ヒドロゲルは、先述のポリシロキサンベースのプレポリマーと、アクリル化ケイ素含有モノマーと、エチレン性不飽和親水性モノマーとを持つ第２の混合物を重合させることによって調製される。 （もっと読む）

【課題】パターン転写精度、硬化膜の機械特性（弾性回復率）、および、硬化物の硬度に優れたナノインプリント用硬化性組成物、並びに、これを用いた硬化物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】シルセスキオキサン化合物と、無機微粒子と、を少なくとも含み、更に必要に応じて、エチレン性不飽和結合含有基を１個以上有する重合性不飽和単量体、および重合開始剤を含む組成物を重合することを特徴とするナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】接着性や柔軟性に優れ、硬化物の透明性、耐熱性及び耐光性に優れ、上記透明性が優れているだけでなく、硬化直後及び使用中において透明性を維持し得る光硬化型接着剤を提供する。
【解決手段】不飽和二重結合含有基を有するポリシロキサン化合物であって、下記の一般式（１）で表わされる第１の構造単位と、下記の一般式（２）で表わされる第２の構造単位とを主成分とするポリシロキサン化合物と、光ラジカル重合開始剤とを含むことを特徴とする。
Ｒ^１Ｒ^２ＳｉＯ_２／２ ………式（１）
Ｒ^３ＳｉＯ_３／２ ………式（２）
一般式（１）及び（２）において、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、少なくとも１つが不飽和二重結合含有基であり、不飽和二重結合含有基以外のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は、炭素数１〜８の炭化水素基またはそのフッ化物基を表わし、これらは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 （もっと読む）

【課題】硬化膜の耐擦傷性や耐汚染性を維持しつつ、シリコーン化合物の硬化膜からの染み出し量を低減することができる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）エチレン性不飽和基を有する含フッ素重合体、（Ｂ−１）シロキサン骨格を有するとともに、（メタ）アクリロイル基を３個以上有し、数平均分子量が４，０００以上であるシリコーン化合物、及び（Ｂ−２）シロキサン骨格を有するとともに、（メタ）アクリロイル基を２個以上有し、数平均分子量が１，０００以上４，０００未満であるシリコーン化合物を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、反射防止コーティングに有用なシルセスキオキサン樹脂であって、式：（ＰｈＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＲ’）_x）_m（ＨＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＲ’）_x）_n（ＭｅＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＲ’）_x）_o（ＲＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＲ’）_x）_p（式中、Ｐｈはフェニル基であり、Ｍｅはメチル基であり、Ｒは反応性の有機官能基又は硬化性基から選択され、Ｒ’はヒドリド基又は炭化水素基であり、ｘの値は０、１又は２であり、ｍの値は０．０１〜０．９７であり、ｎの値は０．０１〜０．９７であり、ｏの値は０．０１〜０．９７であり、ｐの値は０．０１〜０．９７であり、且つｍ＋ｎ＋ｏ＋ｐ＝１）を有するシルセスキオキサン樹脂に関する。この樹脂は高温でベークすると硬化する。代替的に、この組成物は、樹脂の硬化プロファイルを改善するために、遊離基開始剤、又は熱酸若しくは光酸及び熱塩基若しくは光塩基のような他の添加剤を含み得る。さらに、シルセスキオキサン樹脂におけるヒドリド基の存在が、１９３ｎｍのＡＲＣ材料としての所望の剥離能に必須である。 （もっと読む）

【課題】 透明性及び耐擦傷性を損なわずに、ハードコート層表面に所望の凹凸形状を付与したハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】 （１）平均一次粒子径が５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、少なくとも表面の一部を有機成分で被覆し、該有機成分により導入された反応性官能基ａを表面に有する反応性無機微粒子Ａ、（２）平均一次粒子径が１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の親水性微粒子Ｂ、（３）前記反応性無機微粒子Ａの反応性官能基ａとの架橋反応性を有する反応性官能基ｃを有するバインダー成分Ｃを含有する、硬化反応性マトリクスを含み、前記親水性微粒子Ｂの含有量が、全固形分に対して０.１〜５.０重量％である、ハードコート層用硬化性樹脂組成物を透明基材フィルム上に塗布、乾燥、硬化させて、好ましくは、ハードコート層表面に３ｎｍより大きく５０ｎｍ以下の高さの凸部を有し、且つ凸部同士の間隔が５０ｎｍ〜５μｍである凹凸を形成した、ハードコートフィルム。 （もっと読む）

【課題】硬化皮膜表面の耐擦傷性及び耐摩耗性が良好であると共に、低屈折率化及び低反射率化を実現することができ、かつ硬化皮膜の耐水性を向上させることができる含フッ素硬化性塗液及びそれを用いた減反射材を提供する。
【解決手段】含フッ素硬化性塗液は、成膜性を有し、重合性二重結合をもつ含フッ素化合物と、水熱処理が施されると共に、重合性二重結合を有するシランカップリング剤により変性され、中空部の空隙率が４０〜４５％であり、平均粒子径が１０〜１００ｎｍの変性中空シリカ微粒子とを含有している。さらに、含フッ素化合物及び変性中空シリカ微粒子の合計量中における含フッ素化合物の含有量が４０〜８０質量％及び変性中空シリカ微粒子の含有量が２０〜６０質量％に設定される。減反射材は、含フッ素硬化性塗液の硬化皮膜が、基材の片面上又は両面上に直接又は機能層を介して最表面に形成されたものである。 （もっと読む）