感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズならびにそれらの形成方法
【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適な感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】重合性不飽和結合を有するポリシロキサン、および１，２−キノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。
【解決手段】重合性不飽和結合を有するポリシロキサン、および１，２−キノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズならびにそれらの形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」と記す。）型液晶表示素子や有機ＥＬ表示素子、磁気ヘッド素子、集積回路素子、固体撮像素子などの電子部品には、一般に層状に配置される配線の間を絶縁するために層間絶縁膜が設けられている。層間絶縁膜を形成する材料としては、必要とするパターン形状を得るための工程数が少なくしかも十分な平坦性を有するものが好ましいことから、感放射線性樹脂組成物が幅広く使用されている（特許文献１および特許文献２参照）。
上記電子部品のうち、例えばＴＦＴ型液晶表示素子は、上記の層間絶縁膜の上に、透明電極膜を形成し、さらにその上に液晶配向膜を形成する工程を経て製造されるため、層間絶縁膜は、透明電極膜の形成工程において高温条件に曝されたり、電極のパターン形成に使用されるレジストの剥離液に曝されることとなるため、これらに対する十分な耐性が必要となる。
【０００３】
また近年、ＴＦＴ型液晶表示素子は、大画面化、高輝度化、高精細化、高速応答化、薄型化などが進行する傾向にあり、それに用いられる層間絶縁膜形成用組成物としては高感度であり、形成される層間絶縁膜には低誘電率、高透過率などにおいて、従来にも増して高性能が要求されている。
このような低誘電率、高透過率の層間絶縁膜としてアクリル樹脂とキノンジアドの組み合わせや（特許文献３）、フェノール樹脂とキノンジアジドの組み合わせ（特許文献４）が知られている。しかしながら、これらの材料は膜形成後の加熱工程によりアウトガスが発生したり、透明性が低下するなどの問題がある。
【０００４】
さらに、従来知られている感放射線性樹脂組成物から層間絶縁膜を形成する際の現像工程において、現像時間が最適時間よりもわずかでも過剰となるとパターンに剥がれが生じることがあった。
液晶表示素子の生産歩留まり向上、信頼性向上の観点から、“焼きつき”と呼ばれる液晶表示素子の表示不良の改善が求められている。“焼きつき”は、液晶表示素子内部にある硬化膜等から液晶へ不純物、未硬化物等が溶出し、電圧印加時の液晶の応答に不具合を発生させ、液晶表示素子に残像が発生する問題である。このような問題は、液晶表示素子の生産性を低下させ、信頼性を損なう大きな問題である。
このように、層間絶縁膜を感放射線性樹脂組成物から形成するにあたっては、組成物としては高感度であることが要求され、また形成工程中の現像工程において現像時間が所定時間より過剰となった場合でもパターンの剥がれが生じずに良好な密着性を示し、かつそれから形成される層間絶縁膜には高耐熱性、高耐溶剤性、低誘電率、高透過率、高電圧保持率などが要求されるが、そのような要求を満足する感放射線性樹脂組成物は従来知られていなかった。
【０００５】
一方、ファクシミリ、電子複写機、固体撮像素子などのオンチップカラーフィルターの結像光学系あるいは光ファイバコネクタの光学系材料として３〜１００μｍ程度のレンズ径を有するマイクロレンズ、またはそれらのマイクロレンズを規則的に配列したマイクロレンズアレイが使用されている。
マイクロレンズまたはマイクロレンズアレイの形成には、レンズに相当するレジストパターンを形成した後、加熱処理することによってメルトフローさせ、そのままレンズとして利用する方法や、メルトフローさせたレンズパターンをマスクにしてドライエッチングにより下地にレンズ形状を転写させる方法などが知られている。前記レンズパターンの形成には、感放射線性樹脂組成物が幅広く使用されている（特許文献５および特許文献６参照）。
【０００６】
ところで、上記のようなマイクロレンズまたはマイクロレンズアレイが形成された素子はその後、配線形成部分であるボンディングパッド上の各種絶縁膜を除去するために、平坦化膜およびエッチング用レジスト膜を塗布し、所望のマスクを用いて露光、現像してボンディングパッド部分のエッチングレジストを除去し、次いで、エッチングにより平坦化膜や各種絶縁膜を除去してボンディングパッド部分を露出させる工程に供される。そのためマイクロレンズまたはマイクロレンズアレイには、平坦化膜およびエッチングレジストの塗膜形成工程ならびにエッチング工程において、耐溶剤性や耐熱性が必要となる。
このようなマイクロレンズを形成するために用いられる感放射線性樹脂組成物は、高感度であり、また、それから形成されるマイクロレンズが所望の曲率半径を有するものであり、高耐熱性、高透過率であることなどが要求される。
【０００７】
また、従来知られている感放射線性樹脂組成物から得られるマイクロレンズは、これらを形成する際の現像工程において、現像時間が最適時間よりわずかでも過剰となると、パターンと基板との間に現像液が浸透して剥がれが生じやすくなるため、現像時間を厳密に制御する必要があり、製品の歩留まりの点で問題があった。
このように、マイクロレンズを感放射線性樹脂組成物から形成するにあたっては、組成物としては高感度であることが要求され、また形成工程中の現像工程において現像時間が所定時間より過剰となった場合でもパターンの剥がれが生じずに良好な密着性を示し、かつマイクロレンズとして良好なメルト形状すなわち所望の曲率半径のメルト形状、高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率が要求されることとなるが、そのような要求を満足する感放射線性樹脂組成物は従来知られていなかった。
【０００８】
なお、高耐熱性・高透明性・低誘電率の材料としてシロキサンポリマーが知られており、これを層間絶縁膜に用いることも知られているが（特許文献７参照）、シロキサンを十分に架橋させるには２５０〜３００℃以上の高温焼成が必要であり、表示素子を生産する工程に適用することはできないという問題があった。また、シロキサンポリマーをマイクロレンズに応用しようとする試みはなされてはいるものの、工業的に成功した例はこれまで知られていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００１−３５４８２２号公報
【特許文献２】特開２００１−３４３７４３号公報
【特許文献３】特開２００５−３２０５４２号公報
【特許文献４】特開２００３−２５５５４６号公報
【特許文献５】特開平６−１８７０２号公報
【特許文献６】特開平６−１３６２３９号公報
【特許文献７】特開２００６−１７８４３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は以上のような事情に基づいてなされたものである。それ故、本発明の目的は、２５０℃未満の焼成条件にて、層間絶縁膜の形成に用いる場合にあっては高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率、低誘電率、高電圧保持率の層間絶縁膜を形成でき、またマイクロレンズの形成に用いる場合にあっては高い透過率と良好なメルト形状を有するマイクロレンズを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【００１１】
本発明の他の目的は、高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物を提供することにある。
【００１２】
本発明のさらに別の目的は、上記感放射線性樹脂組成物を用いて層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供することにある。
【００１３】
本発明のさらに他の目的は、本発明の方法により形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供することにある。
【００１４】
本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになろう。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第１に、
［Ａ］（ａ１）下記式（１）で表されるシラン化合物と（ａ２）下記式（２）で表されるシラン化合物との加水分解縮合物であるポリシロキサン、
［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物によって達成される。
【００１６】
【化１】
【００１７】
（式（１）中、Ｘ１はビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、スチリル基またはビニルベンジロキシ基を表し、Ｙ１は単結合、メチレン基または炭素数２〜６のアルキレン基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数２〜６のアシルオキシ基を表し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数６〜１２の置換もしくは非置換のアリール基を表し、ａおよびｂはそれぞれ１〜３の整数を表し、ｃは０〜２の整数を表し、そしてａ＋ｂ＋ｃ＝４である。）
【００１８】
【化２】
【００１９】
（式（２）中、Ｒ５は炭素数１〜６の置換もしくは非置換のアルコキシ基、炭素数６〜１８の置換もしくは非置換のアリールオキシ基または炭素数２〜６のアシルオキシ基を表し、Ｒ６は炭素数１〜６の置換もしくは非置換のアルキル基または炭素数６〜１８の置換もしくは非置換のアリール基を表し、ｇは１〜４の整数を表し、ｈは０〜３の整数を表し、そしてｇ＋ｈ＝４である。）
【００２０】
本発明の上記目的および利点は、第２に、
以下の工程を以下に記載の順で含む、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成方法によって達成される。
（１）基板上に上記の感放射線性樹脂組成物の被膜を形成する工程、
（２）該被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）放射線照射後の被膜を現像する工程、および
（４）現像後の被膜を加熱する工程。
【００２１】
さらに本発明の上記目的および利点は、第３に、
上記方法によって形成された層間絶縁膜またはマイクロレンズによって達成される。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の感放射線性樹脂組成物によれば、２５０℃未満の焼成条件においても十分な硬度を有し、耐溶剤性および耐熱性にも優れ、さらに高透過率、低誘電率、高電圧保持率の層間絶縁膜を形成することができる。
また、本発明の感放射線性樹脂組成物は、高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる。
また、上記組成物から形成された本発明のマイクロレンズは、基板への密着性が良好であり、耐溶剤性および耐熱性に優れ、かつ高い透過率と良好なメルト形状を有するものであり、固体撮像素子のマイクロレンズとして好適に使用できる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】マイクロレンズの断面形状の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の感放射線性樹脂組成物について詳述する。
【００２５】
［Ａ］成分
本発明で用いられる［Ａ］成分は、重合性不飽和結合を有するポリシロキサンであり、例えば、重合性不飽和結合と加水分解性基とを有するシラン化合物（以下、「化合物（ａ１）」ということがある。）の加水分解縮合物（以下、「ポリシロキサン［Ａ］」ということがある。）を挙げることができる。
化合物（ａ１）は、好ましくは下記式（１）
【００２６】
【化３】
【００２７】
（式（１）中、Ｘ１はビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、スチリル基またはビニルベンジロキシ基を表し、Ｙ１は単結合、メチレン基または炭素数２〜６のアルキレン基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数２〜６のアシルオキシ基を表し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数６〜１２の置換もしくは非置換のアリール基を表し、ａおよびｂはそれぞれ１〜３の整数を表し、ｃは０〜２の整数を表しそしてａ＋ｂ＋ｃ＝４である。）
で表されるシラン化合物である。
【００２８】
上記式（１）におけるＹ１としては、メチレン基または炭素数２もしくは３のアルキレン基が好ましい。炭素数２または３のアルキレン基としては、例えばエチレン基、トリメチレン基などを挙げることができる。
また、上記式（１）におけるＲ１としては、炭素数１〜３のアルコキシ基または炭素数２〜４のアシルオキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、アセトキシ基などを挙げることができる。
また、上記式（１）におけるＲ２としては、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜８のアリール基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、フェニル基などを挙げることができる。Ｒ２の置換アリール基の置換基としては、例えばハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基または炭素数１〜６のアルキル基などを挙げることができる。
【００２９】
かかる化合物（ａ１）の具体例としては、例えばビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｉ−プロポキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルエチルジメトキシシラン、ビニルエチルジエトキシシラン、ビニルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、ビニルエチルジアセトキシシラン、ビニルフェニルジメトキシシラン、ビニルフェニルジエトキシシラン、ビニルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、ビニルフェニルジアセトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリ−ｎ−プロポキシシラン、アリルトリ−ｉ−プロポキシシラン、アリルトリアセトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、アリルメチルジエトキシシラン、アリルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、アリルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、アリルメチルジアセトキシシラン、アリルエチルジメトキシシラン、アリルエチルジエトキシシラン、アリルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、アリルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、アリルエチルジアセトキシシラン、アリルフェニルジメトキシシラン、アリルフェニルジエトキシシラン、アリルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、アリルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、アリルフェニルジアセトキシシラン、
（メタ）アクリロキシメチルトリメトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルトリエトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルトリアセトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルメチルジエトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルメチルジアセトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルエチルジメトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルエチルジエトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルエチルジアセトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルフェニルジメトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルフェニルジエトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルフェニルジアセトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリアセトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルメチルジメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルメチルジエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルメチルジアセトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルエチルジメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルエチルジエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルエチルジアセトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルフェニルジメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルフェニルジエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルフェニルジアセトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジアセトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルエチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルエチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルエチルジアセトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルフェニルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルフェニルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルフェニルジアセトキシシラン、
ｐ−スチリルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−スチリルトリアセトキシシラン、ｐ−スチリルメチルジメトキシシラン、ｐ−スチリルメチルジエトキシシラン、ｐ−スチリルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−スチリルメチルジアセトキシシラン、ｐ−スチリルエチルジメトキシシラン、ｐ−スチリルエチルジエトキシシラン、ｐ−スチリルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−スチリルエチルジアセトキシシラン、ｐ−スチリルフェニルジメトキシシラン、ｐ−スチリルフェニルジエトキシシラン、ｐ−スチリルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−スチリルフェニルジアセトキシシラン、ｍ−スチリルトリメトキシシラン、ｍ−スチリルトリエトキシシラン、ｍ−スチリルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−スチリルトリアセトキシシラン、ｍ−スチリルメチルジメトキシシラン、ｍ−スチリルメチルジエトキシシラン、ｍ−スチリルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−スチリルメチルジアセトキシシラン、ｍ−スチリルエチルジメトキシシラン、ｍ−スチリルエチルジエトキシシラン、ｍ−スチリルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−スチリルエチルジアセトキシシラン、ｍ−スチリルフェニルジメトキシシラン、ｍ−スチリルフェニルジエトキシシラン、ｍ−スチリルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−スチリルフェニルジアセトキシシランなど；
ｐ−ビニルベンジロキシトリメトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシトリエトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシトリアセトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシメチルジメトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシメチルジエトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシメチルジアセトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシエチルジメトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシエチルジエトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシエチルジアセトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシフェニルジメトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシフェニルジエトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシフェニルジアセトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシトリメトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシトリエトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシトリアセトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシメチルジメトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシメチルジエトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシメチルジアセトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシエチルジメトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシエチルジエトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシエチルジアセトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシフェニルジメトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシフェニルジエトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシフェニルジアセトキシシランなど；
これらのうち、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリエトキシシランが感放射線性樹脂組成物の感度を高め、現像マージンを広くし、耐熱性を向上させる点から好ましく用いられる。これら化合物（ａ１）は、単独であるいは２種以上を組み合わせて用いられる。
【００３０】
本発明においてポリシロキサン［Ａ］は、上記化合物（ａ１）と下記式（２）で表される化合物（以下、「化合物（ａ２）」ということがある。）の加水分解縮合物であることが好ましい。
【００３１】
【化４】
【００３２】
（式（２）中、Ｒ５は炭素数１〜６の置換もしくは非置換のアルコキシ基、炭素数６〜１８の置換もしくは非置換のアリールオキシ基または炭素数２〜６のアシルオキシ基を表し、Ｒ６は炭素数１〜６の置換もしくは非置換のアルキル基または炭素数６〜１８の置換もしくは非置換のアリール基を表し、ｇは１〜４の整数を表し、ｈは０〜３の整数を表しそしてｇ＋ｈ＝４である。）
上記式（２）におけるＲ５としては、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアルールオキシ基または炭素数２〜４のアシルオキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、フェノキシ基、ナフチルオキシ基、アセトキシ基などを挙げることができる。Ｒ５における炭素数１〜６のアルコキシ基の置換基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基などを挙げることができ、Ｒ５における炭素数６〜１８のアリールオキシ基の置換基としては、例えばハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基または炭素数１〜６のアルキル基などを挙げることができる。４−クロロフェノキシ基、４−シアノフェノキシ基、４−ニトロフェノキシ基、４−トルイルオキシ基などを挙げることができる。
【００３３】
また、上記式（２）におけるＲ６としては、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数６〜８のアリール基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ペンチル基、フェニル基などを挙げることができる。炭素数１〜６の置換アルキル基の置換基としては、例えばオキシラニル基、グリシジル基、グリシドキシ基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、３−オキセタニル基、水酸基、ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ基、メルカプト基、下記式（２−１）
ＨＯ−Ｙ２−Ｓ− （２−１）
（式（２−１）中、Ｙ２はメチレン基、炭素数２〜６のアルキレン基または炭素数６〜１２のアリーレン基を表す。）
で表される基などを挙げることができる。上記３−オキセタニル基の３位炭素にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基などの炭素数１〜６のアルキル基が置換していてもよい。炭素数６〜１８の置換アリール基の置換基としては、例えばハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基または炭素数１〜６のアルキル基などを挙げることができる。
【００３４】
化合物（ａ２）の具体例としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシランの如きテトラアルコキシシラン；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシランの如きモノアルキルトリアルコキシシラン；
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、ナフチルトリエトキシシラン、４−クロロフェニルトリエトキシシラン、４−シアノフェニルトリエトキシシラン、４−ニトロフェニルトリエトキシシラン、４−メチルフェニルトリエトキシシランの如きモノアリールトリアルコキシシラン；
フェノキシトリエトキシシラン、ナフチルオキシトリエトキシシラン、４−クロロフェニルオキシトリエトキシシラン、４−シアノフェニルトリオキシエトキシシラン、４−ニトロフェニルオキシトリエトキシシラン、４−メチルフェニルオキシトリエトキシシランの如きモノアリールオキシトリアルコキシシラン；
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、メチル（エチル）ジエトキシシラン、メチル（シクロヘキシル）ジエトキシシランの如きジアルキルジアルコキシシラン；
メチル（フェニル）ジエトキシシランの如きモノアルキルモノアリールジアルコキシシラン；ジフェニルジエトキシシランの如きジアリールジアルコキシシラン；
ジフェノキシジエトキシシランの如きジアリールオキシジアルコキシシラン；
メチル（フェノキシ）ジエトキシシランの如きモノアルキルモノアリールオキシジアルコキシシラン；
フェニル（フェノキシ）ジエトキシシランの如きモノアリールモノアリールオキシジアルコキシシラン；
トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチル−ｎ−プロポキシシラン、ジメチル（エチル）エトキシシラン、ジメチル（シクロヘキシル）エトキシシランの如きトリアルキルモノアルコキシシラン；
ジメチル（フェニル）エトキシシランの如きジアルキルモノアリールモノアルコキシシラン；
メチル（ジフェニル）エトキシシランの如きモノアルキルジアリールモノアルコキシシラン；
トリフェノキシエトキシシランの如きトリアリールオキシモノアルコキシシラン；
メチル（ジフェノキシ）エトキシシランの如きモノアルキルジアリールオキシモノアルコキシシラン；フェニル（ジフェノキシ）エトキシシランの如きモノアリールジアリールオキシモノアルコキシシラン；
ジメチル（フェノキシ）エトキシシランの如きジアルキルモノアリールオキシモノアルコキシシラン；
ジフェニル（フェノキシ）エトキシシランの如きジアリールモノアリールオキシモノアルコキシシラン；
メチル（フェニル）（フェノキシ）エトキシシランの如きモノアルキルモノアリールモノアリールオキシモノアルコキシシラン；
グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルトリアセトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルメチルジアセトキシシラン、グリシドキシメチルエチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルエチルジエトキシシラン、グリシドキシメチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルエチルジアセトキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジメトキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジエトキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジアセトキシシラン、２−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、２−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、２−グリシドキシエチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルトリアセトキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジアセトキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジメトキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジエトキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジアセトキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジメトキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジエトキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジアセトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリアセトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジアセトキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジアセトキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジアセトキシシランなど；
（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリアセトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメチルジメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメチルジエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメチルジアセトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルエチルジメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルエチルジエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルエチルジアセトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルフェニルジメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルフェニルジエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルフェニルジアセトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアセトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジアセトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルエチルジメトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルエチルジエトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルエチルジアセトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルフェニルジメトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルフェニルジエトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルフェニルジアセトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリアセトキシシラン、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルメチルジエトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルメチルジアセトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルエチルジメトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルエチルジエトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルエチルジアセトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルフェニルジメトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルフェニルジエトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルフェニルジアセトキシシランなど；
【００３５】
（オキセタン−３−イル）メチルトリメトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルトリエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルトリアセトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジメトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジアセトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジメトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジアセトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジメトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジアセトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルトリメトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルトリエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルトリアセトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジエトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジアセトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジメトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジエトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジアセトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジメトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジエトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジアセトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリメトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリエトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリアセトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジエトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジアセトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジメトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジエトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジアセトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジメトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジエトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジアセトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリメトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリエトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリアセトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジメトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジエトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジアセトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジメトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジエトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジアセトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジメトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジエトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジアセトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリメトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリエトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリアセトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジエトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジアセトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジメトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジエトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジアセトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジメトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジエトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジアセトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリメトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリエトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリアセトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジエトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジアセトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジメトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジエトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジアセトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジメトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジエトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジアセトキシシラン、（３’−エチルオキセタン−３’−イル）メチルトリメトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルトリエトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルトリアセトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジメトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジエトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジアセトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジメトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジエトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジアセトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジメトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジエトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジアセトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリメトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリエトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリアセトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジエトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジアセトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジメトキシシラン、
２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジエトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジアセトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジメトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジエトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジアセトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリメトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリエトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリアセトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジエトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジアセトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジメトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジエトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジアセトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジメトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジエトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジアセトキシシランなど；
【００３６】
ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリエトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリアセトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、ヒドロキシメチルメチルジメトキシシラン、ヒドロキシメチルメチルジエトキシシラン、ヒドロキシメチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルメチルジアセトキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジメトキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジエトキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジアセトキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、ヒドロキシメチルフェニルジメトキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジエトキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジアセトキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、２−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリアセトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、２−ヒドロキシエチルメチルジメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルメチルジエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルメチルジアセトキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジアセトキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジアセトキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、３−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリアセトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリ（メトキシエトキシ）シラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジアセトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジアセトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジアセトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシフェニルトリメトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリエトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリアセトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジメトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジエトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジメトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジエトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジメトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジエトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリメトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリエトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリアセトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジメトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジエトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジメトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジエトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジメトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジエトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、下記式（２−２）
ＨＯ−Ｙ２−Ｓ−Ｙ３−Ｓｉ（ＯＲ）３ （２−２）
（式（２−２）中、Ｙ２は上記式（２−１）におけるのと同じ意味であり、Ｙ３はメチレン基または炭素数２〜６のアルキレン基を表し、Ｒは相互に独立に炭素数１〜６のアルキル基または炭素数２〜６のアシル基を表す。）
で表される化合物など；
【００３７】
メルカプト基を含有するシラン化合物として例えば、
メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メルカプトメチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、メルカプトメチルトリアセトキシシラン、メルカプトメチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、メルカプトメチルメチルジメトキシシラン、メルカプトメチルメチルジエトキシシラン、メルカプトメチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、メルカプトメチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、メルカプトメチルメチルジアセトキシシラン、メルカプトメチルエチルジメトキシシラン、メルカプトメチルエチルジエトキシシラン、メルカプトメチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、メルカプトメチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、メルカプトメチルエチルジアセトキシシラン、メルカプトメチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、メルカプトメチルフェニルジメトキシシラン、メルカプトメチルフェニルジエトキシシラン、メルカプトメチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、メルカプトメチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、メルカプトメチルフェニルジアセトキシシラン、メルカプトメチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、２−メルカプトエチルトリメトキシシラン、２−メルカプトエチルトリエトキシシラン、２−メルカプトエチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルトリアセトキシシラン、２−メルカプトエチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、２−メルカプトエチルメチルジメトキシシラン、２−メルカプトエチルメチルジエトキシシラン、２−メルカプトエチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルメチルジアセトキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジメトキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジエトキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジアセトキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、２−メルカプトエチルフェニルジメトキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジエトキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジアセトキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ（メトキシエトキシ）シラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、３−メルカプトプロピルフェニルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジ（メトキシエトキシ）シランなど；
【００３８】
これらの化合物（ａ２）うち、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランが、反応性および得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズの耐熱性、透明性、剥離液耐性の面から好適に用いることができる。
【００３９】
本発明で好ましく用いられるポリシロキサン［Ａ］の具体例としては、例えばビニルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン共縮合物、ビニルトリメトキシシラン／メチルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン共縮合物、ビニルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン／３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン共縮合物、アリルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン共縮合物、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン共縮合物、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン／３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン共縮合物、およびｐ−スチリルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン共縮合物を挙げることができる。
【００４０】
本発明において、化合物（ａ１）から誘導される構成単位の含有率は、化合物（ａ１）および（ａ２）から誘導される繰り返し単位の合計に基づいて、好ましくは５〜７０重量％、特に好ましくは１０〜６０重量％である。化合物（ａ１）から誘導される構成単位の含有率が５重量％未満であると、２５０℃未満の焼成条件にて得られる層間絶縁膜やマイクロレンズの耐熱性、表面硬度および剥離液耐性が低下する傾向にあり、一方７０重量％を超えるポリシロキサン［Ａ］の保存安定性が悪化する傾向にある。
【００４１】
また、化合物（ａ２）から誘導される構成単位の含有率は、化合物（ａ１）および（ａ２）から誘導される繰り返し単位の合計に基づいて、好ましくは３０〜９５重量％、特に好ましくは４０〜９０重量％である。化合物（ａ２）から誘導される構成単位が３０重量％未満であると、得られる感放射線性樹脂組成物の保存安定性が低下する傾向にあり、一方９５重量％を超えると、得られる層間絶縁膜やマイクロレンズの耐熱性、表面硬度および剥離液耐性が不足するおそれがある。
本発明で好ましく用いられるポリシロキサン［Ａ］は、上記の如き化合物（ａ１）、（ａ２）を、好ましくは溶媒中、好ましくは触媒の存在下において加水分解および縮合することにより、合成することができる。
【００４２】
ポリシロキサン［Ａ］の合成に使用することのできる溶媒としては、例えばアルコール、エーテル、グリコールエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート、芳香族炭化水素、ケトン、エステルなどを挙げることができる。
【００４３】
これらの具体例としては、アルコールとして、例えばメタノール、エタノール、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノールなど；
エーテルとしてテトラヒドロフランなど；
グリコールエーテルとして、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなど；
エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとして、例えばメチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなど；
ジエチレングリコールとして、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルなど；
ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとして、例えばジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなど；
プロピレングリコールモノアルキルエーテルとして、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなど；
プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートとして、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノブチルエーテルプロピオネートなど；
プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとして、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテートなど；
芳香族炭化水素として、例えばトルエン、キシレンなど；
ケトンとして、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなど；
エステルとして、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどを、それぞれ挙げることができる。
【００４４】
これらの溶媒のうち、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、プロピレングリコールモノアルキルエーテルまたはプロピレングリコールアルキルエーテルアセテートが好ましく、特にジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートまたは３−メトキシプロピオン酸メチルが好ましい。溶媒の使用量としては、反応溶液中における化合物（ａ１）、（ａ２）合計量が１０〜３００重量％となる量とすることが好ましく、１００〜２００重量％となる量とすることがより好ましい。
【００４５】
ポリシロキサン［Ａ］を合成するための加水分解および縮合反応は、好ましくは酸触媒（例えば塩酸、硫酸、硝酸、蟻酸、シュウ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、リン酸、酸性イオン交換樹脂、各種ルイス酸など）または塩基触媒（例えばアンモニア、１級アミン類、２級アミン類、３級アミン類、ピリジンなどの含窒素芳香族化合物；塩基性イオン交換樹脂；水酸化ナトリウムなどの水酸化物；炭酸カリウムなどの炭酸塩；酢酸ナトリウムなどのカルボン酸塩；各種ルイス塩基など）の存在下で行われる。触媒の使用量としては、モノマー１モルに対して好ましくは０．２モル以下であり、より好ましくは０．００００１〜０．１モルである。
【００４６】
水の使用量、反応温度および反応時間は適宜に設定される。例えば下記の条件が採用できる。
水の使用量は化合物（ａ１）中の基Ｒ１と化合物（ａ２）中の基Ｒ５の合計量１モルに対して、好ましくは０．１〜３モル、より好ましくは０．３〜２モル、さらに好ましくは０．５〜１．５モルの量である。
反応温度は、好ましくは４０〜２００℃、より好ましくは５０〜１５０℃である。
反応時間は、好ましくは３０分〜２４時間、より好ましくは１〜１２時間である。
化合物（ａ１）、（ａ２）ならびに水、触媒を一度に添加して加水分解および縮合反応を一段階で行ってもよく、あるいは化合物（ａ１）、（ａ２）ならびに水、触媒をそれぞれ段階的に添加することにより加水分解および縮合反応を多段階で行ってもよい。
【００４７】
本発明で用いられる［Ａ］成分のポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という）は、好ましくは５×１０２〜５×１０４、より好ましくは１×１０３〜３×１０４である。Ｍｗが５×１０２未満であると、現像マージンが十分ではなくなる場合があり、得られる被膜の残膜率などが低下したり、また得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズのパターン形状、耐熱性などに劣ることがあり、一方５×１０４を超えると、感度が低下したりパターン形状に劣ることがある。上記の如き［Ａ］成分を含む感放射線性樹脂組成物は、現像する際に現像残りを生じることなく容易に所定パターン形状を形成することができる。
【００４８】
［Ｂ］成分
本発明で用いられる［Ｂ］成分は、放射線の照射によりカルボン酸を発生する１，２−キノンジアジド化合物であり、フェノール性化合物もしくはアルコール性化合物（以下、「水酸基を有する母核」という。）またはアミノ基を有する母核と、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を用いることができる。
上記水酸基を有する母核としては、例えばトリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ペンタヒドロキシベンゾフェノン、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、（ポリヒドロキシフェニル）アルカンおよびその他の水酸基を有する母核を挙げることができる。
【００４９】
これらの具体例としては、トリヒドロキシベンゾフェノンとして、例えば２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノンなど；
テトラヒドロキシベンゾフェノンとして、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノンなど；
ペンタヒドロキシベンゾフェノンとして、例えば２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノンなど；
ヘキサヒドロキシベンゾフェノンとして、例えば２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンなど；
（ポリヒドロキシフェニル）アルカンとして、例えばビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバンなど；
その他の水酸基を有する母核として、例えば２−メチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４−（４−ヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマン、２−［ビス｛（５−イソプロピル−４−ヒドロキシ−２−メチル）フェニル｝メチル］、１−［１−（３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］−３−（１−（３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）ベンゼン、４，６−ビス｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−１，３−ジヒドロキシベンゼンなどを、それぞれ挙げることができる。
【００５０】
上記アミノ基を有する母核としては、上記の水酸基を有する母核の水酸基をアミノ基に置換した化合物などを挙げることができる。
これらの母核のうち、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノールが好ましい。
上記１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとしては、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドが好ましく、その具体例としては１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸クロリドおよび１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドを挙げることができ、このうち、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドを使用することが好ましい。
縮合反応においては、フェノール性化合物もしくはアルコール性化合物中の水酸基数またはアミノ基を有する母核のアミノ基数に対して、好ましくは３０〜８５モル％、より好ましくは５０〜７０モル％に相当する１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドを用いることができる。
縮合反応は公知の方法によって実施することができる。
これらの［Ｂ］成分は単独でまたは２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００５１】
［Ｂ］成分の使用割合は、［Ａ］成分１００重量部に対して、好ましくは１〜２５重量部、より好ましくは５〜２０重量部である。
この割合が１重量部未満の場合には、現像液となるアルカリ水溶液に対する放射線の照射部分と未照射部分との溶解度の差が小さく、パターニングが困難となる場合があり、また得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズの耐熱性および耐溶剤性が不十分となる場合がある。一方、この割合が２５重量部を超える場合には、放射線照射部分において前記アルカリ水溶液への溶解度が不十分となり、現像することが困難となる場合がある。
【００５２】
その他の成分
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の［Ａ］成分および［Ｂ］成分を必須成分として含有するが、さらに必要に応じてポリシロキサン中に含まれる不飽和結合と反応性を有する、［Ｃ］重合性不飽和結合を有する基、ヒドロシリル基およびメルカプト基よりなる群からなる少なくとも一種の官能基を分子中に２個以上含有する化合物（但し、［Ａ］成分を除く）、［Ｄ］感熱性ラジカル発生剤、［Ｅ］界面活性剤、［Ｆ］接着助剤などを含有することができる。
上記［Ｃ］重合性不飽和結合、ヒドロシリル基およびメルカプト基よりなる群から選ばれる少なくとも一種の官能基を分子中に２個以上有する化合物（但し、［Ａ］成分を除く。以下、「［Ｃ］架橋性化合物」ということがある。）は、ポリシロキサン［Ａ］が有する重合性不飽和結合と反応性を有する化合物であり、ポリシロキサン［Ａ］を架橋することにより、得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズの耐熱性や硬度を向上させるために用いることができる。
【００５３】
［Ｃ］架橋性化合物のうち、重合性不飽和結合を分子中に２個以上有する化合物としては、例えば、ジビニルベンゼン、１，２，４−トリビニルシクロヘキサン、アジピン酸ジビニル、１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサン、ジビニルジメチルシランなどのビニル基を分子中に２個以上有する化合物、
ジアリルベンゼン、１，５−ヘキサジエン、１，７−オクタジエン、アジピン酸ジアリル、１，３−ジアリルテトラメチルジシロキサン、ジアリルアミン、トリアリルアミン、トリアリルホスフィン、ジアリルジメチルシラン、テトラアリルシラン、フタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリルなどのアリル基を分子中に２個以上有する化合物、
エチレングリコール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどの（メタ）アクリロキシ基を分子中に２個有する化合物、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリロキシ基を分子中に３個以上有する化合物、
（メタ）アクリル酸ビニルなどのビニル基と（メタ）アクリロキシ基を分子中に有する化合物、
（メタ）アクリル酸アリルなどのアリル基と（メタ）アクリロキシ基を分子中に有する化合物などを挙げることができる。
【００５４】
また、上記［Ｃ］架橋性化合物のうち、メルカプト基を分子中に２個以上有する化合物としては、例えば、チオグリコール酸、３−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトブタン酸、３−メルカプトペンタン酸等のメルカプトカルボン酸と、エチレングリコール、テトラエチレングリコール、ブタンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、１，３，５−トリス（２−ヒドロキシエチル）シアヌレート、ソルビトール等の多価アルコールとのエステル化物などを挙げることができる。
【００５５】
また、［Ｃ］架橋性化合物のうち、ヒドロシリル基を分子中に２個以上有する化合物としては、ジフェニルシラン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、以下ゲレスト社製の化合物のうち、ＤＭＳ−Ｈ０３、ＤＭＳ−Ｈ１１、ＤＭＳ−Ｈ２１、ＤＭＳ−Ｈ２５、ＤＭＳ−Ｈ３１、ＤＭＳ−Ｈ４１などのヒドリド末端ポリジメチルシロキサン、ＤＭＳ−Ｈ０３１、ＤＭＳ−Ｈ０７１、ＤＭＳ−Ｈ０８２、ＤＭＳ−Ｈ１５１、ＤＭＳ−Ｈ３０１、ＤＭＳ−Ｈ５０１、ＤＭＳ−Ｈ２７１などのポリメチルヒドロシロキサン、ＨＭＳ−９９１、ＨＭＳ−９９２、ＨＭＳ−９９３などのポリメチルヒドロシロキサン、ＨＭＳ−９９１などのポリエチルヒドロシロキサン、ＨＤＰ−１１１などのポリフェニルジメチルヒドロシロキシシラン、ＨＰＭ−５０２などのメチルヒドロシロキサン／フェニルメチルシロキサンの共重合体、ＨＡＭ−３０１、ＨＡＭ−３０１２などのメチルヒドロシラン／オクチルメチルシロキサン共重合物、ＨＱＭ−１０５、ＨＱＭ−１０７などを挙げることができる。
【００５６】
これらの［Ｃ］架橋性化合物のうち、（メタ）アクリロキシ基を分子中に３個以上有する化合物およびメルカプト基を分子中に２個以上有する化合物が好ましく、（メタ）アクリロキシ基を分子中に３個以上有する化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、メルカプト基を分子中に２個以上有する化合物としては、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（チオグリコレート）、１，４―ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，３，５，−トリス（３−メルカブトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオンが特に好ましい。
【００５７】
（メタ）アクリロキシ基を分子中に３個以上有する化合物の市販品としては、例えばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同Ｍ−８１００（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）などを挙げることができる。
前記［Ｃ］架橋性化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
［Ｃ］架橋性化合物の使用割合は、［Ａ］成分１００重量部に対して、好ましくは５０重量部以下、より好ましくは３０重量部以下である。
このような割合で［Ｃ］成分を含有させることにより、本発明の感放射線性樹脂組成物から得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズの耐熱性および表面硬度等を向上させることができる。この使用量が５０重量部を超えると、基板上に感放射線性樹脂組成物の被膜を形成する工程において膜荒れが生じることがある。
【００５８】
本発明の感放射線性樹脂組成物には、さらにポリシロキサン［Ａ］の架橋性を向上させるため、上記［Ｄ］感熱性ラジカル発生剤を使用することができる。［Ｄ］感熱性ラジカル発生剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものが使用できる。このような感熱性ラジカル発生剤としては、例えば、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミドなどのアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有機過酸化物；および過酸化水素などを挙げることができる。感熱性ラジカル発生剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよい。
【００５９】
上記［Ｄ］感熱性ラジカル発生剤は、６０℃での分解半減期が１００分以上であり、かつ２００℃での分解半減期が３０分以下であることが好ましい。この場合、６０℃での分解半減期が１００分以下であるとプレベークの際にラジカル発生による架橋反応が進行するために感度と解像度が悪化するおそれがあり、また、２００℃での分解半減期が３０分以上であると現像後の加熱工程におけるラジカル発生が不十分で架橋反応が進行せず十分な耐溶剤性および硬度が得られないおそれがある。好ましい［Ｄ］感熱性ラジカル発生剤の具体例としては、例えば、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミドなどを挙げることができる。
【００６０】
本発明において、［Ｄ］感熱性ラジカル発生剤の使用割合は、［Ａ］成分１００重量部に対して、好ましくは１０重量部以下、より好ましくは１〜５重量部である。
このような割合で［Ｄ］成分を含有させることにより、本発明の感放射線性樹脂組成物から得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズの耐薬品性、耐熱性および表面硬度を向上させることができる。
本発明の感放射線性樹脂組成物には、さらに塗布性を向上するため［Ｅ］界面活性剤を使用することができる。ここで使用できる［Ｅ］界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびノニオン系界面活性剤を好適に用いることができる。
【００６１】
フッ素系界面活性剤の具体例としては、１，１，２，２−テトラフロロオクチル（１，１，２，２−テトラフロロプロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフロロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフロロブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコール（１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフロロブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロペンチル）エーテル、パーフロロドデシルスルホン酸ナトリウム、１，１，２，２，３，３，９，９，１０，１０−デカフロロドデカン、１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロデカンなどの他、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム；フルオロアルキルオキシエチレンエーテル；フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール；パーフルオロアルキルアルコキシレート；フッ素系アルキルエステルなどを挙げることができる。
【００６２】
これらの市販品としては、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、ＦＣ−１７１、ＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、同３５２（新秋田化成（株）製）などが挙げられる。
【００６３】
上記シリコーン系界面活性剤としては、例えばＤＣ３ＰＡ、ＤＣ７ＰＡ、ＦＳ−１２６５、ＳＦ−８４２８、ＳＨ１１ＰＡ、ＳＨ２１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）などの商品名で市販されているものを挙げることができる。
上記ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル；ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステルなど；（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ.５７、９５（共栄社化学（株）製）などを使用することができる。
【００６４】
これらの界面活性剤は単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
これらの［Ｅ］界面活性剤は、［Ａ］成分１００重量部に対して、好ましくは５重量部以下、より好ましくは２重量部以下で用いられる。［Ｅ］界面活性剤の使用量が５重量部を超えると、基板上に塗膜を形成する際、塗膜の膜あれが生じやすくなることがある。
本発明の感放射線性樹脂組成物においては、基体との接着性を向上させるために、さらに、［Ｆ］接着助剤を使用することができる。
【００６５】
このような［Ｆ］接着助剤としては、官能性シランカップリング剤が好ましく使用され、例えばカルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカップリング剤が挙げられる。具体的にはトリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。このような［Ｆ］接着助剤は、［Ａ］成分１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、より好ましくは１０重量部以下の量で用いられる。接着助剤の量が２０重量部を超える場合は、現像工程において現像残りが生じやすくなる場合がある。
【００６６】
感放射線性樹脂組成物
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の［Ａ］成分および［Ｂ］成分ならびに上記の如き任意的に添加するその他の成分を均一に混合することによって調製される。本発明の感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。例えば［Ａ］成分および［Ｂ］成分ならびに任意的に添加されるその他の成分を、所定の割合で混合することにより、溶液状態の感放射線性樹脂組成物を調製することができる。
本発明の感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、［Ａ］成分および［Ｂ］成分ならびに任意的に配合されるその他の成分の各成分を均一に溶解し、各成分と反応しないものが用いられる。
このような溶媒としては、［Ａ］成分として好ましく使用されるポリシロキサン［Ａ］を合成するための溶媒として上記に例示したものと同様のものを挙げることができる。
【００６７】
このような溶媒のうち、各成分の溶解性、各成分との反応性、塗膜形成のしやすさ等の点から、アルコール、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、エステルおよびジエチレングリコールが好ましく用いられる。これらのうち、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノール、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プルピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチルが特に好ましく使用できる。
【００６８】
さらに前記溶媒とともに膜厚の面内均一性を高めるため、高沸点溶媒を併用することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。これらのうち、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが好ましい。
【００６９】
本発明の感放射性樹脂組成物の溶媒として、高沸点溶媒を併用する場合、その使用量は、溶媒全量に対して、好ましくは５０重量％以下、より好ましくは４０重量％以下、さらに好ましくは３０重量％以下とすることができる。高沸点溶媒の使用量がこの使用量を越えると、塗膜の膜厚均一性、感度および残膜率が低下する場合がある。
本発明の感放射線性樹脂組成物を溶液状態として調製する場合、溶液中に占める溶媒以外の成分（すなわち［Ａ］成分および［Ｂ］成分ならびに任意的に添加されるその他の成分の合計量）の割合（固形分濃度）は、使用目的や所望の膜厚の値等に応じて任意に設定することができるが、好ましくは５〜５０重量％、より好ましくは１０〜４０重量％、さらに好ましくは１５〜３５重量％である。
このようにして調製された組成物溶液は、孔径０.２μｍ程度のミリポアフィルタなどを用いて濾過した後、使用に供してもよい。
【００７０】
層間絶縁膜、マイクロレンズの形成
次に本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて、本発明の層間絶縁膜またはマイクロレンズを形成する方法について述べる。本発明の層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成方法は以下の工程を以下に記載の順で含む。
（１）基板上に本発明の感放射線性樹脂組成物の被膜を形成する工程、
（２）該被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）放射線照射後の被膜を現像する工程、および
（４）現像後の被膜を加熱する工程。
【００７１】
以下、本発明の層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成方法の各工程につき詳細に説明する。
【００７２】
（１）基板上に本発明の感放射線性樹脂組成物の被膜を形成する工程
工程（１）においては、本発明の組成物溶液を基板表面に塗布し、好ましくはプレベークを行うことにより溶剤を除去して、感放射線性樹脂組成物の被膜を形成する。
使用できる基板の種類としては、例えばガラス基板、シリコン基板およびこれらの表面に各種金属が形成された基板を挙げることができる。
組成物溶液の塗布方法としては、特に限定されず、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット法等の適宜の方法を採用することができ、特にスピンコート法またはスリットダイ塗布法が好ましい。プレベークの条件としては、各成分の種類、使用割合等によっても異なる。例えば、６０〜１１０℃で３０秒間〜１５分間程度とすることができる。
形成される被膜の膜厚としては、プレベーク後の値として、層間絶縁膜を形成する場合にあっては例えば３〜６μｍ、マイクロレンズを形成する場合にあっては例えば０．５〜３μｍが好ましい。
【００７３】
（２）該被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程
工程（２）においては、上記の如くして形成された被膜の少なくとも一部に放射線を照射する。被膜の一部に放射線を照射するには、例えば所定のパターンを有するマスクを介して放射線を照射する方法によることができる。
その後、現像液を用いて現像処理して放射線の照射部分を除去することによりパターニングを行う。このとき用いられる放射線としては、例えば紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等が挙げられる。
上記紫外線としては例えばｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）などを含む放射線が挙げられる。遠紫外線としては例えばＫｒＦエキシマレーザーなどが挙げられる。Ｘ線としては例えばシンクロトロン放射線などが挙げられる。荷電粒子線として例えば電子線などを挙げることができる。
これらのうち、紫外線が好ましく、なかでもｇ線および／またはｉ線を含む放射線が特に好ましい。
放射線の照射量（露光量）としては、層間絶縁膜を形成する場合にあっては５０〜１，５００Ｊ／ｍ２、マイクロレンズを形成する場合にあっては５０〜２，０００Ｊ／ｍ２とすることが好ましい。
【００７４】
（３）放射線照射後の被膜を現像する工程
工程（３）の現像処理に用いられる現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノナンなどのアルカリ（塩基性化合物）の水溶液を用いることができる。また、上記のアルカリの水溶液にメタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加した水溶液、または本発明の組成物を溶解する各種有機溶媒を現像液として使用することができる。
現像方法としては、例えば液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等の適宜の方法を利用することができる。このときの現像時間は、組成物の組成によって異なるが、例えば３０〜１２０秒間とすることができる。
なお、従来知られている感放射線性樹脂組成物は、現像時間が最適値から２０〜２５秒程度超過すると形成したパターンに剥がれが生じるため現像時間を厳密に制御する必要があったが、本発明の感放射線性樹脂組成物の場合、最適現像時間からの超過時間が３０秒以上となっても良好なパターン形成が可能であり、製品歩留り上の利点がある。
【００７５】
（４）現像後の被膜を加熱する工程
上記のように実施した工程（３）の現像工程後に、パターニングされた薄膜に対して、好ましくは例えば流水洗浄によるリンス処理を行い、さらに、好ましくは高圧水銀灯などによる放射線を全面に照射（後露光）することにより、当該薄膜中に残存する１，２−キノンジアジト化合物の分解処理を行った後、この薄膜を、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により加熱処理（ポストベーク処理）することにより、当該薄膜の硬化処理を行う。上記後露光工程における露光量は、好ましくは２，０００〜５，０００Ｊ／ｍ２である。また、この硬化処理における焼成温度は、例えば１２０以上２５０℃未満である。加熱時間は、加熱機器の種類により異なるが、例えばホットプレート上で加熱処理を行う場合には５〜３０分間、オーブン中で加熱処理を行う場合には３０〜９０分間とすることができる。この際に、２回以上の加熱工程を行うステップベーク法などを用いることもできる。なお、従来高耐熱の材料として知られているポリシロキサンからなる感光性材料の被膜を基板上に形成する場合、２５０℃以上の高温処理が必要であったが、本発明の感放射線性樹脂組成物の場合、この処理温度を２５０℃未満、さらに２４０℃以下、さらに２３０℃以下とすることができるため、表示素子を形成する工程にも好適に適用することができる利点がある。
このようにして、目的とする層間絶縁膜またはマイクロレンズに対応する、パターン状薄膜を基板の表面上に形成することができる。
【００７６】
層間絶縁膜
上記のようにして形成された本発明の層間絶縁膜は、後述の実施例から明らかにされるように、基板への密着性が良好であり、耐溶剤性および耐熱性に優れ、高い透過率を有し、誘電率が低いものであり、電子部品の層間絶縁膜として好適に使用できる。
【００７７】
マイクロレンズ
上記のようにして形成された本発明のマイクロレンズは、後述の実施例から明らかにされるように、基板への密着性が良好であり、耐溶剤性および耐熱性に優れ、かつ高い透過率と良好なメルト形状を有するものであり、固体撮像素子のマイクロレンズとして好適に使用できる。
本発明のマイクロレンズの形状は、図１（ａ）に示したように、半凸レンズ形状となり、良好な集光特性を示す。
【実施例】
【００７８】
以下に合成例、実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００７９】
［Ａ］成分の合成例
合成例１［Ａ−１］
５００ｍＬの三つ口フラスコにビニルトリメトキシシラン１９．３ｇ、メチルトリメトキシシラン５３．１ｇおよびフェニルトリメトキシシラン１５４.７ｇをとり、これにジエチレングリコールメチルエチルエーテル１１３．５ｇを加えて溶解し、得られた溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら３０分間かけて６０℃に昇温した。これに５．９ｇのシュウ酸を含んだ７０．３ｇのイオン交換水を３０分間かけて連続的に添加した後、６０℃で３時間反応を行った。減圧にて反応液からメタノールと水を留去して、固形分濃度が３５重量％になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルを添加することにより、ポリシロキサン［Ａ−１］を含有する溶液を得た。ポリシロキサン［Ａ−１］のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは２，６００であった。
【００８０】
合成例２［Ａ−２］
５００ｍＬの三つ口フラスコにビニルトリメトキシシラン７１．１ｇおよびフェニルトリメトキシシラン１４２.８ｇをとり、これにジエチレングリコールメチルエチルエーテル１０７．０ｇを加えて溶解し、得られた溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら３０分間かけて６０℃に昇温した。これに５．４ｇのシュウ酸を含んだ６４．９ｇのイオン交換水を３０分間かけて連続的に添加した後、６０℃で３時間反応を行った。減圧にて反応液からメタノールと水を留去して、固形分濃度が３５重量％になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルを添加することにより、ポリシロキサン［Ａ−２］を含有する溶液を得た。ポリシロキサン［Ａ−２］のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは２，２００であった。
【００８１】
合成例３［Ａ−３］
５００ｍＬの三つ口フラスコに３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン３９．３ｇ、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン３２．０ｇ、およびフェニルトリメトキシシラン１１９．０ｇをとり、これにジエチレングリコールメチルエチルエーテル９３．９ｇを加えて溶解し、得られた溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら３０分間かけて６０℃に昇温した。これに４．５ｇのシュウ酸を含んだ５４．１ｇのイオン交換水を３０分間かけて連続的に添加した後、６０℃で３時間反応を行った。減圧にて反応液からメタノールと水を留去して、固形分濃度が３５重量％になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルを添加することにより、ポリシロキサン［Ａ−３］を含有する溶液を得た。ポリシロキサン［Ａ−３］のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは２，５００であった。
【００８２】
合成例４［Ａ−４］
５００ｍＬの三つ口フラスコにアリルトリメトキシシラン１６．２ｇ、メチルトリメトキシシラン４０．９ｇおよびフェニルトリメトキシシラン１１９．０ｇをとり、これにジエチレングリコールメチルエチルエーテル８８．０ｇを加えて溶解し、得られた溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら６０℃に昇温した。これに、４．５ｇのシュウ酸を溶解した５４．１ｇのイオン交換水を１時間かけて連続的に添加した。そして、６０℃で３時間反応を行った後、得られた反応液を４０℃まで冷却し、その後、減圧にてアルコールと水を留去し、固形分濃度が３５重量％になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルを添加することにより、ポリシロキサン［Ａ−４］を含有する溶液を得た。ポリシロキサン［Ａ−４］のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは２，４００であった。
【００８３】
合成例５［Ａ−５］
５００ｍＬの三つ口フラスコに３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン３２．０ｇ、メチルトリメトキシシラン５３．１ｇおよびフェニルトリメトキシシラン１５４．７ｇをとり、これにジエチレングリコールメチルエチルエーテル１１９．９ｇを加えて溶解し、得られた溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら６０℃に昇温した。これに、５．０ｇのシュウ酸を溶解した５９．５ｇのイオン交換水を１時間かけて連続的に添加した。そして、６０℃で３時間反応を行った後、得られた反応液を４０℃まで冷却した。４０℃において１分間かけて１０Ｔｏｒｒまで減圧し、副生成物のメタノールを留去した。これに、３９．６ｇのイオン交換水と３９．６ｇのジエチレングリコールメチルエチルエーテルを３０分かけて連続的に添加した後、４０℃で２時間攪拌し、その後、減圧にてアルコールと水を留去し、固形分濃度が３５重量％になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルを添加することにより、ポリシロキサン［Ａ−５］を含有する溶液を得た。ポリシロキサン［Ａ−５］のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは２，７００であった。
【００８４】
比較合成例１［ａ−１］
５００ｍＬの三つ口フラスコにメチルトリメトキシシラン４９．０ｇおよびフェニルトリメトキシシラン１６６．６ｇをとり、これにジエチレングリコールメチルエチルエーテル１０７．８ｇを加えて溶解し、得られた溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら６０℃に昇温した。これに、５．４ｇのシュウ酸を溶解した６４．９ｇのイオン交換水を１時間かけて連続的に添加した。そして、６０℃で３時間反応を行った後、得られた反応液を４０℃まで冷却し、その後、減圧にてアルコールと水を留去し、固形分濃度が３５重量％になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルを添加することにより、ポリシロキサン［ａ−１］を含有する溶液を得た。ポリシロキサン［ａ−１］のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは２，８００であった。
【００８５】
比較合成例２［ａ−２］
冷却管および攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２,４−ジメチルバレロニトリル）８重量部およびジエチレングリコールエチルメチルエーテル２２０重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２０重量部、メタクリル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル４０重量部およびトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルメタクリレート２０重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇し、この温度を５時間保持することにより、共重合体［ａ−２］を含む重合体溶液を得た。
共重合体［ａ−２］のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは７，５００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．５であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は３１．６重量％であった。
【００８６】
＜感放射線性樹脂組成物の調製＞
実施例１
上記合成例１で合成したポリシロキサン［Ａ−１］を含有する溶液を、ポリシロキサン［Ａ−１］１００重量部（固形分）に相当する量、および成分［Ｂ］として４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）の縮合物（Ｂ−１）１０重量部とを混合し、固形分濃度が３３重量％となるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルを加えて均一に溶解した後、口径０．２μｍのメンブランフィルタで濾過することにより、感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−１）を調製した。
【００８７】
実施例２〜１１、比較例１〜２
実施例１において、［Ａ］成分および［Ｂ］成分として、表１に記載のとおりの種類、量を使用した他は、実施例１と同様にして実施し、感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−２）〜（Ｓ−１１）および（ｓ−１）〜（ｓ−２）を調製した。
なお、実施例３、４、８、１０、１１においては、［Ｃ］成分を添加した。実施例２〜１１においては、さらに［Ｄ］成分を添加した。
【００８８】
実施例１２
実施例１０において、固形分濃度が２０重量％になるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテル／プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート＝６／４（重量比）に溶解したことと、さらに［Ｅ］成分として界面活性剤ＳＨ−２８ＰＡ（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）を添加したこと以外は、実施例１０と同様に実施して感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−１２）を調製した。
【００８９】
【表１】
【００９０】
表１中、各成分の略称はそれぞれ次の意味である。
【００９１】
［Ｂ−１］：４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（３．０モル）の縮合物
［Ｃ−１］：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
［Ｃ−２］：ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）
［Ｄ−１］：１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）
［Ｅ−１］：シリコーン系界面活性剤（商品名ＳＨ−２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）
【００９２】
＜層間絶縁膜としての性能評価＞
実施例１３〜２４、比較例３〜４
上記のように調製した感放射線性樹脂組成物を使用し、以下のように層間絶縁膜としての各種の特性を評価した。
【００９３】
〔感度の評価〕
シリコン基板上に、実施例１３〜２３および比較例３〜４についてはスピンナーを用いてそれぞれ表２に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより膜厚４．０μｍの塗膜を形成した。実施例２４についてはスリットダイコーターによる塗布を行い、室温で１５秒かけて０．５Ｔｏｒｒまで減圧し、溶媒を除去した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより膜厚４．０μｍの塗膜を形成した。
得られた塗膜にそれぞれ３．０μｍのライン・アンド・スペース（１０対１）のパターンを有するマスクを介してキャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用いて、露光時間を変量して露光を行った後、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、８０秒間、液盛り法による現像を行った。次いで超純水で１分間流水洗浄を行い、乾燥することによりシリコン基板上にパターンを形成した。このとき、スペース線幅が０．３μｍとなるのに必要な最小露光量を調べた。この最小露光量を感度として表２に示した。
【００９４】
〔現像マージンの評価〕
シリコン基板上に、実施例１３〜２３および比較例３〜４についてはスピンナーを用いてそれぞれ表２に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより膜厚４．０μｍの塗膜を形成した。実施例２４についてはスリットダイコーターによる塗布を行い、室温で１５秒かけて０．５Ｔｏｒｒまで減圧し、溶媒を除去した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより膜厚４．０μｍの塗膜を形成した。
得られた塗膜にそれぞれ３．０μｍのライン・アンド・スペース（１０対１）のパターンを有するマスクを介してキャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用いて、上記「〔感度の評価〕」にて調べた感度の値に相当する露光量で露光を行った後、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、現像時間を変量として液盛り法により現像した。次いで超純水で１分間流水洗浄を行った後、乾燥してシリコン基板上にパターンを形成した。このとき、ライン線幅が３μｍとなるのに必要な現像時間を最適現像時間として表２に示した。また、最適現像時間からさらに現像を続けた際に３．０μｍのライン・パターンが剥がれるまでの時間を測定し、現像マージンとして表２に示した。
【００９５】
〔耐溶剤性の評価〕
シリコン基板上に、実施例１３〜２３および比較例３〜４についてはスピンナーを用いてそれぞれ表２に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより塗膜を形成した。実施例２４についてはスリットダイコーターによる塗布を行い、室温で１５秒かけて０．５Ｔｏｒｒまで減圧し、溶媒を除去した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより塗膜を形成した。
得られた塗膜にそれぞれキャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用いて、積算照射量が３，０００Ｊ／ｍ２となるように露光を行った後、クリーンオーブン内にて２２０℃で１時間加熱することにより膜厚約３．０μｍの硬化膜を得た。得られた硬化膜の膜厚（Ｔ１）を測定した。そして、この硬化膜が形成されたシリコン基板を７０℃に温度制御されたジメチルスルホキシド中に２０分間浸漬した後、当該硬化膜の浸漬後膜厚（ｔ１）を測定し、浸漬による膜厚変化率｛｜ｔ１−Ｔ１｜／Ｔ１｝×１００〔％〕を算出した。結果を表２に示す。
なお、耐溶剤性の評価においてはパターニングが不要のため、現像工程を省略し、塗膜形成工程、放射線照射工程および加熱工程のみ行い評価に供した。
【００９６】
〔耐熱性の評価〕
上記「〔耐溶剤性の評価〕」と同様にしてシリコン基板上に硬化膜を形成し、得られた硬化膜の膜厚（Ｔ２）を測定した。次いで、この硬化膜付き基板をクリーンオーブン内にて２４０℃で１時間追加ベークした後、当該硬化膜の追加ベーク後膜厚（ｔ２）を測定し、追加ベークによる膜厚変化率｛｜ｔ２−Ｔ２｜／Ｔ２｝×１００〔％〕を算出した。結果を表２に示す。
【００９７】
〔透明性の評価〕
上記「〔耐溶剤性の評価〕」において、シリコン基板の代わりにガラス基板「コーニング７０５９」（コーニング社製）を用いたこと以外は同様にしてガラス基板上に硬化膜を形成した。この硬化膜を有するガラス基板の光線透過率を、分光光度計「１５０−２０型ダブルビーム」（（株）日立製作所製）を用いて４００〜８００ｎｍの範囲の波長で測定した。そのときの最低光線透過率の値を表２に示す。
【００９８】
〔比誘電率の評価〕
研磨したＳＵＳ３０４製基板上に、実施例１３〜２３および比較例３〜４についてはスピンナーを用いてそれぞれ表２に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。実施例２４についてはスリットダイコーターにより塗布を行い室温で１５秒かけて０．５Ｔｏｒｒまで減圧し、溶媒を除去した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。
得られた塗膜にそれぞれキャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用いて、積算照射量が３，０００Ｊ／ｍ２となるように露光を行った後、クリーンオーブン内にて２２０℃で１時間加熱することにより、基板上に硬化膜を形成した。この硬化膜上に蒸着法によりＰｔ／Ｐｄ電極パターンを形成し、誘電率測定用サンプルを作成した。得られたサンプルにつき、横河・ヒューレットパッカード（株）製ＨＰ１６４５１Ｂ電極およびＨＰ４２８４ＡプレシジョンＬＣＲメーターを用いてＣＶ法により、周波数１０ｋＨｚの周波数における比誘電率を測定した。結果を表２に示した。
なお、比誘電率の評価においてはパターニングが不要のため、現像工程を省略し、塗膜形成工程、放射線照射工程および加熱工程のみ行い評価に供した。
【００９９】
〔表面硬度の評価〕
上記「〔耐溶剤性の評価〕」と同様にしてシリコン基板上に硬化膜を形成し、得られた硬化膜について、ＪＩＳ Ｋ−５４００−１９９０の８．４．１鉛筆引っかき試験により鉛筆硬度を測定した。結果を表２に示す。鉛筆硬度がＨまたはそれより硬いとき、表面硬度は良好といえる。
【０１００】
〔電圧保持率の評価〕
表面にナトリウムイオンの溶出を防止するＳｉＯ２膜が形成され、さらにＩＴＯ（インジウム−酸化錫合金）電極を所定形状に蒸着したソーダガラス基板上に、スピンナーを用いて上記で調製した感放射線性樹脂組成物を塗布し、１００℃のホットプレート上で２分間プレベークを行って、膜厚２．０μｍの塗膜を形成した。２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、８０秒間、ディップ法による現像を行った。次いで、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介さずに、塗膜に３６５ｎｍ、４０５ｎｍおよび４３６ｎｍの各波長を含む放射線を３，０００Ｊ／ｍ２の露光量で露光した。さらに２２０℃で１時間ポストベークを行い、硬化膜を形成した。
【０１０１】
次いで、この硬化膜を有する基板上に５．５μｍ径のビーズスペーサーを散布後、表面にＩＴＯ電極を所定形状に蒸着しただけのソーダガラス基板とを対向させ、液晶注入口を残して４辺を０．８ｍｍのガラスビーズを混合したシール剤を用いて貼り合わせ、メルク社製液晶ＭＬＣ６６０８（商品名）を注入した後に液晶注入口を封止することにより、液晶セルを作製した。
この液晶セルを６０℃の恒温層に入れて、東陽テクニカ製液晶電圧保持率測定システムＶＨＲ−１Ａ型（商品名）により、印加電圧を５．５Ｖの方形波とし、測定周波数を６０Ｈｚとして液晶セルの電圧保持率を測定したところ、電圧保持率は９７％であった。結果を表１に示す。
なお、ここで電圧保持率とは、下記式で求められる値である。
電圧保持率（％）＝（１６．７ミリ秒後の液晶セル電位差）／（０ミリ秒で印加した電圧）×１００
液晶セルの電圧保持率の値が低いほど、液晶パネル形成時に「焼き付き」と呼ばれる不具合を起こす可能性が高くなる。電圧保持率の値が高くなるほど、液晶パネルの信頼性が高くなると言える。
【０１０２】
【表２】
【０１０３】
＜マイクロレンズとしての性能評価＞
実施例２５〜３６、比較例５〜６
上記のように調製した感放射線性樹脂組成物を使用し、以下のようにマイクロレンズとしての各種の特性を評価した。なお耐溶剤性の評価、耐熱性の評価、透明性の評価は上記層間絶縁膜としての性能評価における結果を参照されたい。
【０１０４】
〔感度の評価〕
シリコン基板上に、スピンナーを用いてそれぞれ表３に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより膜厚２．０μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜に所定のパターンを有するパターンマスクを介してニコン（株）製ＮＳＲ１７５５ｉ７Ａ縮小投影露光機（ＮＡ＝０.５０、λ＝３６５ｎｍ）を用いて、露光時間を変量して露光を行った後、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、１分間液盛り法で現像した。次いで超純水でリンスし、乾燥することによりシリコン基板上にパターンを形成した。０．８μｍライン・アンド・スペ−スパタ−ン（１対１）のスペース線幅が０．８μｍとなるのに必要な最小露光量を調べた。この最小露光量を感度として表３に示した。
【０１０５】
〔現像マージンの評価〕
シリコン基板上に、スピンナーを用いてそれぞれ表３に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより、膜厚２．０μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜に所定のパターンを有するパターンマスクを介してニコン（株）製ＮＳＲ１７５５ｉ７Ａ縮小投影露光機（ＮＡ＝０.５０、λ＝３６５ｎｍ）を用いて、上記「［感度の評価］」にて調べた感度の値に相当する露光量で露光を行った後、表３に記載した濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、１分間液盛り法で現像した。水でリンスし、乾燥してシリコン基板上にパターンを形成した。０．８μｍライン・アンド・スペ−スパタ−ン（１対１）のスペース線幅が０．８μｍとなるのに必要な現像時間を最適現像時間として表３に示した。また、最適現像時間からさらに現像を続けた際に幅０．８μｍのパターンが剥がれるまでの時間（現像マージン）を測定し、現像マージンとして表３に示した。
【０１０６】
〔マイクロレンズの形成〕
シリコン基板上に、スピンナーを用いてそれぞれ表３に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより、膜厚２．０μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜に４．０μｍドット・２．０μｍスペ−スパタ−ンを有するパターンマスクを介してニコン（株）製ＮＳＲ１７５５ｉ７Ａ縮小投影露光機（ＮＡ＝０.５０、λ＝３６５ｎｍ）を用いて、上記「［感度の評価］」にて調べた感度の値に相当する露光量で露光を行った後、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、１分間液盛り法で現像した。次いで超純水でリンスし、乾燥することにより、シリコン基板上にパターンを形成した。その後、キャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用いて、積算照射量が３，０００Ｊ／ｍ２となるようにさらに露光を行った。その後、ホットプレートにて１６０℃で１０分間加熱後さらに２３０℃で１０分間加熱して、パターンをメルトフローさせてマイクロレンズを形成した。
【０１０７】
形成されたマイクロレンズの底部（基板に接する面）の寸法（直径）および断面形状を表３に示す。マイクロレンズ底部の寸法は４．０μｍを超え５．０μｍ未満であるとき、良好といえる。この寸法が５．０μｍ以上となると、隣接するレンズ同士が接触する状態であり、好ましくない。また、断面形状は図１に示した模式図において、（ａ）のような半凸レンズ形状であるときに良好であり、（ｂ）のような略台形上の場合は不良である。
【０１０８】
【表３】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズならびにそれらの形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」と記す。）型液晶表示素子や有機ＥＬ表示素子、磁気ヘッド素子、集積回路素子、固体撮像素子などの電子部品には、一般に層状に配置される配線の間を絶縁するために層間絶縁膜が設けられている。層間絶縁膜を形成する材料としては、必要とするパターン形状を得るための工程数が少なくしかも十分な平坦性を有するものが好ましいことから、感放射線性樹脂組成物が幅広く使用されている（特許文献１および特許文献２参照）。
上記電子部品のうち、例えばＴＦＴ型液晶表示素子は、上記の層間絶縁膜の上に、透明電極膜を形成し、さらにその上に液晶配向膜を形成する工程を経て製造されるため、層間絶縁膜は、透明電極膜の形成工程において高温条件に曝されたり、電極のパターン形成に使用されるレジストの剥離液に曝されることとなるため、これらに対する十分な耐性が必要となる。
【０００３】
また近年、ＴＦＴ型液晶表示素子は、大画面化、高輝度化、高精細化、高速応答化、薄型化などが進行する傾向にあり、それに用いられる層間絶縁膜形成用組成物としては高感度であり、形成される層間絶縁膜には低誘電率、高透過率などにおいて、従来にも増して高性能が要求されている。
このような低誘電率、高透過率の層間絶縁膜としてアクリル樹脂とキノンジアドの組み合わせや（特許文献３）、フェノール樹脂とキノンジアジドの組み合わせ（特許文献４）が知られている。しかしながら、これらの材料は膜形成後の加熱工程によりアウトガスが発生したり、透明性が低下するなどの問題がある。
【０００４】
さらに、従来知られている感放射線性樹脂組成物から層間絶縁膜を形成する際の現像工程において、現像時間が最適時間よりもわずかでも過剰となるとパターンに剥がれが生じることがあった。
液晶表示素子の生産歩留まり向上、信頼性向上の観点から、“焼きつき”と呼ばれる液晶表示素子の表示不良の改善が求められている。“焼きつき”は、液晶表示素子内部にある硬化膜等から液晶へ不純物、未硬化物等が溶出し、電圧印加時の液晶の応答に不具合を発生させ、液晶表示素子に残像が発生する問題である。このような問題は、液晶表示素子の生産性を低下させ、信頼性を損なう大きな問題である。
このように、層間絶縁膜を感放射線性樹脂組成物から形成するにあたっては、組成物としては高感度であることが要求され、また形成工程中の現像工程において現像時間が所定時間より過剰となった場合でもパターンの剥がれが生じずに良好な密着性を示し、かつそれから形成される層間絶縁膜には高耐熱性、高耐溶剤性、低誘電率、高透過率、高電圧保持率などが要求されるが、そのような要求を満足する感放射線性樹脂組成物は従来知られていなかった。
【０００５】
一方、ファクシミリ、電子複写機、固体撮像素子などのオンチップカラーフィルターの結像光学系あるいは光ファイバコネクタの光学系材料として３〜１００μｍ程度のレンズ径を有するマイクロレンズ、またはそれらのマイクロレンズを規則的に配列したマイクロレンズアレイが使用されている。
マイクロレンズまたはマイクロレンズアレイの形成には、レンズに相当するレジストパターンを形成した後、加熱処理することによってメルトフローさせ、そのままレンズとして利用する方法や、メルトフローさせたレンズパターンをマスクにしてドライエッチングにより下地にレンズ形状を転写させる方法などが知られている。前記レンズパターンの形成には、感放射線性樹脂組成物が幅広く使用されている（特許文献５および特許文献６参照）。
【０００６】
ところで、上記のようなマイクロレンズまたはマイクロレンズアレイが形成された素子はその後、配線形成部分であるボンディングパッド上の各種絶縁膜を除去するために、平坦化膜およびエッチング用レジスト膜を塗布し、所望のマスクを用いて露光、現像してボンディングパッド部分のエッチングレジストを除去し、次いで、エッチングにより平坦化膜や各種絶縁膜を除去してボンディングパッド部分を露出させる工程に供される。そのためマイクロレンズまたはマイクロレンズアレイには、平坦化膜およびエッチングレジストの塗膜形成工程ならびにエッチング工程において、耐溶剤性や耐熱性が必要となる。
このようなマイクロレンズを形成するために用いられる感放射線性樹脂組成物は、高感度であり、また、それから形成されるマイクロレンズが所望の曲率半径を有するものであり、高耐熱性、高透過率であることなどが要求される。
【０００７】
また、従来知られている感放射線性樹脂組成物から得られるマイクロレンズは、これらを形成する際の現像工程において、現像時間が最適時間よりわずかでも過剰となると、パターンと基板との間に現像液が浸透して剥がれが生じやすくなるため、現像時間を厳密に制御する必要があり、製品の歩留まりの点で問題があった。
このように、マイクロレンズを感放射線性樹脂組成物から形成するにあたっては、組成物としては高感度であることが要求され、また形成工程中の現像工程において現像時間が所定時間より過剰となった場合でもパターンの剥がれが生じずに良好な密着性を示し、かつマイクロレンズとして良好なメルト形状すなわち所望の曲率半径のメルト形状、高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率が要求されることとなるが、そのような要求を満足する感放射線性樹脂組成物は従来知られていなかった。
【０００８】
なお、高耐熱性・高透明性・低誘電率の材料としてシロキサンポリマーが知られており、これを層間絶縁膜に用いることも知られているが（特許文献７参照）、シロキサンを十分に架橋させるには２５０〜３００℃以上の高温焼成が必要であり、表示素子を生産する工程に適用することはできないという問題があった。また、シロキサンポリマーをマイクロレンズに応用しようとする試みはなされてはいるものの、工業的に成功した例はこれまで知られていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００１−３５４８２２号公報
【特許文献２】特開２００１−３４３７４３号公報
【特許文献３】特開２００５−３２０５４２号公報
【特許文献４】特開２００３−２５５５４６号公報
【特許文献５】特開平６−１８７０２号公報
【特許文献６】特開平６−１３６２３９号公報
【特許文献７】特開２００６−１７８４３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は以上のような事情に基づいてなされたものである。それ故、本発明の目的は、２５０℃未満の焼成条件にて、層間絶縁膜の形成に用いる場合にあっては高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率、低誘電率、高電圧保持率の層間絶縁膜を形成でき、またマイクロレンズの形成に用いる場合にあっては高い透過率と良好なメルト形状を有するマイクロレンズを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【００１１】
本発明の他の目的は、高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物を提供することにある。
【００１２】
本発明のさらに別の目的は、上記感放射線性樹脂組成物を用いて層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供することにある。
【００１３】
本発明のさらに他の目的は、本発明の方法により形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供することにある。
【００１４】
本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになろう。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第１に、
［Ａ］（ａ１）下記式（１）で表されるシラン化合物と（ａ２）下記式（２）で表されるシラン化合物との加水分解縮合物であるポリシロキサン、
［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物によって達成される。
【００１６】
【化１】
【００１７】
（式（１）中、Ｘ１はビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、スチリル基またはビニルベンジロキシ基を表し、Ｙ１は単結合、メチレン基または炭素数２〜６のアルキレン基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数２〜６のアシルオキシ基を表し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数６〜１２の置換もしくは非置換のアリール基を表し、ａおよびｂはそれぞれ１〜３の整数を表し、ｃは０〜２の整数を表し、そしてａ＋ｂ＋ｃ＝４である。）
【００１８】
【化２】
【００１９】
（式（２）中、Ｒ５は炭素数１〜６の置換もしくは非置換のアルコキシ基、炭素数６〜１８の置換もしくは非置換のアリールオキシ基または炭素数２〜６のアシルオキシ基を表し、Ｒ６は炭素数１〜６の置換もしくは非置換のアルキル基または炭素数６〜１８の置換もしくは非置換のアリール基を表し、ｇは１〜４の整数を表し、ｈは０〜３の整数を表し、そしてｇ＋ｈ＝４である。）
【００２０】
本発明の上記目的および利点は、第２に、
以下の工程を以下に記載の順で含む、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成方法によって達成される。
（１）基板上に上記の感放射線性樹脂組成物の被膜を形成する工程、
（２）該被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）放射線照射後の被膜を現像する工程、および
（４）現像後の被膜を加熱する工程。
【００２１】
さらに本発明の上記目的および利点は、第３に、
上記方法によって形成された層間絶縁膜またはマイクロレンズによって達成される。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の感放射線性樹脂組成物によれば、２５０℃未満の焼成条件においても十分な硬度を有し、耐溶剤性および耐熱性にも優れ、さらに高透過率、低誘電率、高電圧保持率の層間絶縁膜を形成することができる。
また、本発明の感放射線性樹脂組成物は、高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる。
また、上記組成物から形成された本発明のマイクロレンズは、基板への密着性が良好であり、耐溶剤性および耐熱性に優れ、かつ高い透過率と良好なメルト形状を有するものであり、固体撮像素子のマイクロレンズとして好適に使用できる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】マイクロレンズの断面形状の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の感放射線性樹脂組成物について詳述する。
【００２５】
［Ａ］成分
本発明で用いられる［Ａ］成分は、重合性不飽和結合を有するポリシロキサンであり、例えば、重合性不飽和結合と加水分解性基とを有するシラン化合物（以下、「化合物（ａ１）」ということがある。）の加水分解縮合物（以下、「ポリシロキサン［Ａ］」ということがある。）を挙げることができる。
化合物（ａ１）は、好ましくは下記式（１）
【００２６】
【化３】
【００２７】
（式（１）中、Ｘ１はビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、スチリル基またはビニルベンジロキシ基を表し、Ｙ１は単結合、メチレン基または炭素数２〜６のアルキレン基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数２〜６のアシルオキシ基を表し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数６〜１２の置換もしくは非置換のアリール基を表し、ａおよびｂはそれぞれ１〜３の整数を表し、ｃは０〜２の整数を表しそしてａ＋ｂ＋ｃ＝４である。）
で表されるシラン化合物である。
【００２８】
上記式（１）におけるＹ１としては、メチレン基または炭素数２もしくは３のアルキレン基が好ましい。炭素数２または３のアルキレン基としては、例えばエチレン基、トリメチレン基などを挙げることができる。
また、上記式（１）におけるＲ１としては、炭素数１〜３のアルコキシ基または炭素数２〜４のアシルオキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、アセトキシ基などを挙げることができる。
また、上記式（１）におけるＲ２としては、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜８のアリール基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、フェニル基などを挙げることができる。Ｒ２の置換アリール基の置換基としては、例えばハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基または炭素数１〜６のアルキル基などを挙げることができる。
【００２９】
かかる化合物（ａ１）の具体例としては、例えばビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｉ−プロポキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルエチルジメトキシシラン、ビニルエチルジエトキシシラン、ビニルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、ビニルエチルジアセトキシシラン、ビニルフェニルジメトキシシラン、ビニルフェニルジエトキシシラン、ビニルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、ビニルフェニルジアセトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリ−ｎ−プロポキシシラン、アリルトリ−ｉ−プロポキシシラン、アリルトリアセトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、アリルメチルジエトキシシラン、アリルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、アリルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、アリルメチルジアセトキシシラン、アリルエチルジメトキシシラン、アリルエチルジエトキシシラン、アリルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、アリルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、アリルエチルジアセトキシシラン、アリルフェニルジメトキシシラン、アリルフェニルジエトキシシラン、アリルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、アリルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、アリルフェニルジアセトキシシラン、
（メタ）アクリロキシメチルトリメトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルトリエトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルトリアセトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルメチルジエトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルメチルジアセトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルエチルジメトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルエチルジエトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルエチルジアセトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルフェニルジメトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルフェニルジエトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルフェニルジアセトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリアセトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルメチルジメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルメチルジエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルメチルジアセトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルエチルジメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルエチルジエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルエチルジアセトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルフェニルジメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルフェニルジエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルフェニルジアセトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジアセトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルエチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルエチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルエチルジアセトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルフェニルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルフェニルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルフェニルジアセトキシシラン、
ｐ−スチリルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−スチリルトリアセトキシシラン、ｐ−スチリルメチルジメトキシシラン、ｐ−スチリルメチルジエトキシシラン、ｐ−スチリルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−スチリルメチルジアセトキシシラン、ｐ−スチリルエチルジメトキシシラン、ｐ−スチリルエチルジエトキシシラン、ｐ−スチリルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−スチリルエチルジアセトキシシラン、ｐ−スチリルフェニルジメトキシシラン、ｐ−スチリルフェニルジエトキシシラン、ｐ−スチリルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−スチリルフェニルジアセトキシシラン、ｍ−スチリルトリメトキシシラン、ｍ−スチリルトリエトキシシラン、ｍ−スチリルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−スチリルトリアセトキシシラン、ｍ−スチリルメチルジメトキシシラン、ｍ−スチリルメチルジエトキシシラン、ｍ−スチリルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−スチリルメチルジアセトキシシラン、ｍ−スチリルエチルジメトキシシラン、ｍ−スチリルエチルジエトキシシラン、ｍ−スチリルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−スチリルエチルジアセトキシシラン、ｍ−スチリルフェニルジメトキシシラン、ｍ−スチリルフェニルジエトキシシラン、ｍ−スチリルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−スチリルフェニルジアセトキシシランなど；
ｐ−ビニルベンジロキシトリメトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシトリエトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシトリアセトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシメチルジメトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシメチルジエトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシメチルジアセトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシエチルジメトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシエチルジエトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシエチルジアセトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシフェニルジメトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシフェニルジエトキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｐ−ビニルベンジロキシフェニルジアセトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシトリメトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシトリエトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシトリアセトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシメチルジメトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシメチルジエトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシメチルジアセトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシエチルジメトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシエチルジエトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシエチルジアセトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシフェニルジメトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシフェニルジエトキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ｍ−ビニルベンジロキシフェニルジアセトキシシランなど；
これらのうち、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリエトキシシランが感放射線性樹脂組成物の感度を高め、現像マージンを広くし、耐熱性を向上させる点から好ましく用いられる。これら化合物（ａ１）は、単独であるいは２種以上を組み合わせて用いられる。
【００３０】
本発明においてポリシロキサン［Ａ］は、上記化合物（ａ１）と下記式（２）で表される化合物（以下、「化合物（ａ２）」ということがある。）の加水分解縮合物であることが好ましい。
【００３１】
【化４】
【００３２】
（式（２）中、Ｒ５は炭素数１〜６の置換もしくは非置換のアルコキシ基、炭素数６〜１８の置換もしくは非置換のアリールオキシ基または炭素数２〜６のアシルオキシ基を表し、Ｒ６は炭素数１〜６の置換もしくは非置換のアルキル基または炭素数６〜１８の置換もしくは非置換のアリール基を表し、ｇは１〜４の整数を表し、ｈは０〜３の整数を表しそしてｇ＋ｈ＝４である。）
上記式（２）におけるＲ５としては、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアルールオキシ基または炭素数２〜４のアシルオキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、フェノキシ基、ナフチルオキシ基、アセトキシ基などを挙げることができる。Ｒ５における炭素数１〜６のアルコキシ基の置換基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基などを挙げることができ、Ｒ５における炭素数６〜１８のアリールオキシ基の置換基としては、例えばハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基または炭素数１〜６のアルキル基などを挙げることができる。４−クロロフェノキシ基、４−シアノフェノキシ基、４−ニトロフェノキシ基、４−トルイルオキシ基などを挙げることができる。
【００３３】
また、上記式（２）におけるＲ６としては、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数６〜８のアリール基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ペンチル基、フェニル基などを挙げることができる。炭素数１〜６の置換アルキル基の置換基としては、例えばオキシラニル基、グリシジル基、グリシドキシ基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、３−オキセタニル基、水酸基、ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ基、メルカプト基、下記式（２−１）
ＨＯ−Ｙ２−Ｓ− （２−１）
（式（２−１）中、Ｙ２はメチレン基、炭素数２〜６のアルキレン基または炭素数６〜１２のアリーレン基を表す。）
で表される基などを挙げることができる。上記３−オキセタニル基の３位炭素にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基などの炭素数１〜６のアルキル基が置換していてもよい。炭素数６〜１８の置換アリール基の置換基としては、例えばハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基または炭素数１〜６のアルキル基などを挙げることができる。
【００３４】
化合物（ａ２）の具体例としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシランの如きテトラアルコキシシラン；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシランの如きモノアルキルトリアルコキシシラン；
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、ナフチルトリエトキシシラン、４−クロロフェニルトリエトキシシラン、４−シアノフェニルトリエトキシシラン、４−ニトロフェニルトリエトキシシラン、４−メチルフェニルトリエトキシシランの如きモノアリールトリアルコキシシラン；
フェノキシトリエトキシシラン、ナフチルオキシトリエトキシシラン、４−クロロフェニルオキシトリエトキシシラン、４−シアノフェニルトリオキシエトキシシラン、４−ニトロフェニルオキシトリエトキシシラン、４−メチルフェニルオキシトリエトキシシランの如きモノアリールオキシトリアルコキシシラン；
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、メチル（エチル）ジエトキシシラン、メチル（シクロヘキシル）ジエトキシシランの如きジアルキルジアルコキシシラン；
メチル（フェニル）ジエトキシシランの如きモノアルキルモノアリールジアルコキシシラン；ジフェニルジエトキシシランの如きジアリールジアルコキシシラン；
ジフェノキシジエトキシシランの如きジアリールオキシジアルコキシシラン；
メチル（フェノキシ）ジエトキシシランの如きモノアルキルモノアリールオキシジアルコキシシラン；
フェニル（フェノキシ）ジエトキシシランの如きモノアリールモノアリールオキシジアルコキシシラン；
トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチル−ｎ−プロポキシシラン、ジメチル（エチル）エトキシシラン、ジメチル（シクロヘキシル）エトキシシランの如きトリアルキルモノアルコキシシラン；
ジメチル（フェニル）エトキシシランの如きジアルキルモノアリールモノアルコキシシラン；
メチル（ジフェニル）エトキシシランの如きモノアルキルジアリールモノアルコキシシラン；
トリフェノキシエトキシシランの如きトリアリールオキシモノアルコキシシラン；
メチル（ジフェノキシ）エトキシシランの如きモノアルキルジアリールオキシモノアルコキシシラン；フェニル（ジフェノキシ）エトキシシランの如きモノアリールジアリールオキシモノアルコキシシラン；
ジメチル（フェノキシ）エトキシシランの如きジアルキルモノアリールオキシモノアルコキシシラン；
ジフェニル（フェノキシ）エトキシシランの如きジアリールモノアリールオキシモノアルコキシシラン；
メチル（フェニル）（フェノキシ）エトキシシランの如きモノアルキルモノアリールモノアリールオキシモノアルコキシシラン；
グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルトリアセトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルメチルジアセトキシシラン、グリシドキシメチルエチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルエチルジエトキシシラン、グリシドキシメチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルエチルジアセトキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジメトキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジエトキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジアセトキシシラン、２−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、２−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、２−グリシドキシエチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルトリアセトキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジアセトキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジメトキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジエトキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジアセトキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジメトキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジエトキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジアセトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリアセトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジアセトキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジアセトキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジアセトキシシランなど；
（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリアセトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメチルジメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメチルジエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメチルジアセトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルエチルジメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルエチルジエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルエチルジアセトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルフェニルジメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルフェニルジエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルフェニルジアセトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアセトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジアセトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルエチルジメトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルエチルジエトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルエチルジアセトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルフェニルジメトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルフェニルジエトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルフェニルジアセトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリアセトキシシラン、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルメチルジエトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルメチルジアセトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルエチルジメトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルエチルジエトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルエチルジアセトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルフェニルジメトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルフェニルジエトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルフェニルジアセトキシシランなど；
【００３５】
（オキセタン−３−イル）メチルトリメトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルトリエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルトリアセトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジメトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジアセトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジメトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジアセトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジメトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジアセトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルトリメトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルトリエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルトリアセトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジエトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジアセトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジメトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジエトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジアセトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジメトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジエトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジアセトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリメトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリエトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリアセトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジエトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジアセトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジメトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジエトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジアセトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジメトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジエトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジアセトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリメトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリエトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリアセトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジメトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジエトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジアセトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジメトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジエトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジアセトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジメトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジエトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジアセトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリメトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリエトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリアセトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジエトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジアセトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジメトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジエトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジアセトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジメトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジエトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジアセトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリメトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリエトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリアセトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジエトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジアセトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジメトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジエトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジアセトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジメトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジエトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジアセトキシシラン、（３’−エチルオキセタン−３’−イル）メチルトリメトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルトリエトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルトリアセトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジメトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジエトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジアセトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジメトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジエトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジアセトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジメトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジエトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジアセトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリメトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリエトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリアセトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジエトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジアセトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジメトキシシラン、
２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジエトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジアセトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジメトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジエトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジアセトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリメトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリエトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリアセトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジエトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジアセトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジメトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジエトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジアセトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジメトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジエトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジアセトキシシランなど；
【００３６】
ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリエトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリアセトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、ヒドロキシメチルメチルジメトキシシラン、ヒドロキシメチルメチルジエトキシシラン、ヒドロキシメチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルメチルジアセトキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジメトキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジエトキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジアセトキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、ヒドロキシメチルフェニルジメトキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジエトキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジアセトキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、２−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリアセトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、２−ヒドロキシエチルメチルジメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルメチルジエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルメチルジアセトキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジアセトキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジアセトキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、３−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリアセトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリ（メトキシエトキシ）シラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジアセトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジアセトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジアセトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシフェニルトリメトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリエトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリアセトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジメトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジエトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジメトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジエトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジメトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジエトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリメトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリエトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリアセトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジメトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジエトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジメトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジエトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジメトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジエトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、下記式（２−２）
ＨＯ−Ｙ２−Ｓ−Ｙ３−Ｓｉ（ＯＲ）３ （２−２）
（式（２−２）中、Ｙ２は上記式（２−１）におけるのと同じ意味であり、Ｙ３はメチレン基または炭素数２〜６のアルキレン基を表し、Ｒは相互に独立に炭素数１〜６のアルキル基または炭素数２〜６のアシル基を表す。）
で表される化合物など；
【００３７】
メルカプト基を含有するシラン化合物として例えば、
メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メルカプトメチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、メルカプトメチルトリアセトキシシラン、メルカプトメチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、メルカプトメチルメチルジメトキシシラン、メルカプトメチルメチルジエトキシシラン、メルカプトメチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、メルカプトメチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、メルカプトメチルメチルジアセトキシシラン、メルカプトメチルエチルジメトキシシラン、メルカプトメチルエチルジエトキシシラン、メルカプトメチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、メルカプトメチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、メルカプトメチルエチルジアセトキシシラン、メルカプトメチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、メルカプトメチルフェニルジメトキシシラン、メルカプトメチルフェニルジエトキシシラン、メルカプトメチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、メルカプトメチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、メルカプトメチルフェニルジアセトキシシラン、メルカプトメチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、２−メルカプトエチルトリメトキシシラン、２−メルカプトエチルトリエトキシシラン、２−メルカプトエチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルトリアセトキシシラン、２−メルカプトエチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、２−メルカプトエチルメチルジメトキシシラン、２−メルカプトエチルメチルジエトキシシラン、２−メルカプトエチルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルメチルジアセトキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジメトキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジエトキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジアセトキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、２−メルカプトエチルフェニルジメトキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジエトキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジアセトキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ−ｉ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ（メトキシエトキシ）シラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、３−メルカプトプロピルフェニルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジ−ｎ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジ−ｉ−プロポキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジ（メトキシエトキシ）シランなど；
【００３８】
これらの化合物（ａ２）うち、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランが、反応性および得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズの耐熱性、透明性、剥離液耐性の面から好適に用いることができる。
【００３９】
本発明で好ましく用いられるポリシロキサン［Ａ］の具体例としては、例えばビニルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン共縮合物、ビニルトリメトキシシラン／メチルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン共縮合物、ビニルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン／３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン共縮合物、アリルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン共縮合物、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン共縮合物、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン／３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン共縮合物、およびｐ−スチリルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン共縮合物を挙げることができる。
【００４０】
本発明において、化合物（ａ１）から誘導される構成単位の含有率は、化合物（ａ１）および（ａ２）から誘導される繰り返し単位の合計に基づいて、好ましくは５〜７０重量％、特に好ましくは１０〜６０重量％である。化合物（ａ１）から誘導される構成単位の含有率が５重量％未満であると、２５０℃未満の焼成条件にて得られる層間絶縁膜やマイクロレンズの耐熱性、表面硬度および剥離液耐性が低下する傾向にあり、一方７０重量％を超えるポリシロキサン［Ａ］の保存安定性が悪化する傾向にある。
【００４１】
また、化合物（ａ２）から誘導される構成単位の含有率は、化合物（ａ１）および（ａ２）から誘導される繰り返し単位の合計に基づいて、好ましくは３０〜９５重量％、特に好ましくは４０〜９０重量％である。化合物（ａ２）から誘導される構成単位が３０重量％未満であると、得られる感放射線性樹脂組成物の保存安定性が低下する傾向にあり、一方９５重量％を超えると、得られる層間絶縁膜やマイクロレンズの耐熱性、表面硬度および剥離液耐性が不足するおそれがある。
本発明で好ましく用いられるポリシロキサン［Ａ］は、上記の如き化合物（ａ１）、（ａ２）を、好ましくは溶媒中、好ましくは触媒の存在下において加水分解および縮合することにより、合成することができる。
【００４２】
ポリシロキサン［Ａ］の合成に使用することのできる溶媒としては、例えばアルコール、エーテル、グリコールエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート、芳香族炭化水素、ケトン、エステルなどを挙げることができる。
【００４３】
これらの具体例としては、アルコールとして、例えばメタノール、エタノール、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノールなど；
エーテルとしてテトラヒドロフランなど；
グリコールエーテルとして、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなど；
エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとして、例えばメチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなど；
ジエチレングリコールとして、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルなど；
ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとして、例えばジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなど；
プロピレングリコールモノアルキルエーテルとして、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなど；
プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートとして、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノブチルエーテルプロピオネートなど；
プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとして、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテートなど；
芳香族炭化水素として、例えばトルエン、キシレンなど；
ケトンとして、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなど；
エステルとして、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどを、それぞれ挙げることができる。
【００４４】
これらの溶媒のうち、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、プロピレングリコールモノアルキルエーテルまたはプロピレングリコールアルキルエーテルアセテートが好ましく、特にジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートまたは３−メトキシプロピオン酸メチルが好ましい。溶媒の使用量としては、反応溶液中における化合物（ａ１）、（ａ２）合計量が１０〜３００重量％となる量とすることが好ましく、１００〜２００重量％となる量とすることがより好ましい。
【００４５】
ポリシロキサン［Ａ］を合成するための加水分解および縮合反応は、好ましくは酸触媒（例えば塩酸、硫酸、硝酸、蟻酸、シュウ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、リン酸、酸性イオン交換樹脂、各種ルイス酸など）または塩基触媒（例えばアンモニア、１級アミン類、２級アミン類、３級アミン類、ピリジンなどの含窒素芳香族化合物；塩基性イオン交換樹脂；水酸化ナトリウムなどの水酸化物；炭酸カリウムなどの炭酸塩；酢酸ナトリウムなどのカルボン酸塩；各種ルイス塩基など）の存在下で行われる。触媒の使用量としては、モノマー１モルに対して好ましくは０．２モル以下であり、より好ましくは０．００００１〜０．１モルである。
【００４６】
水の使用量、反応温度および反応時間は適宜に設定される。例えば下記の条件が採用できる。
水の使用量は化合物（ａ１）中の基Ｒ１と化合物（ａ２）中の基Ｒ５の合計量１モルに対して、好ましくは０．１〜３モル、より好ましくは０．３〜２モル、さらに好ましくは０．５〜１．５モルの量である。
反応温度は、好ましくは４０〜２００℃、より好ましくは５０〜１５０℃である。
反応時間は、好ましくは３０分〜２４時間、より好ましくは１〜１２時間である。
化合物（ａ１）、（ａ２）ならびに水、触媒を一度に添加して加水分解および縮合反応を一段階で行ってもよく、あるいは化合物（ａ１）、（ａ２）ならびに水、触媒をそれぞれ段階的に添加することにより加水分解および縮合反応を多段階で行ってもよい。
【００４７】
本発明で用いられる［Ａ］成分のポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という）は、好ましくは５×１０２〜５×１０４、より好ましくは１×１０３〜３×１０４である。Ｍｗが５×１０２未満であると、現像マージンが十分ではなくなる場合があり、得られる被膜の残膜率などが低下したり、また得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズのパターン形状、耐熱性などに劣ることがあり、一方５×１０４を超えると、感度が低下したりパターン形状に劣ることがある。上記の如き［Ａ］成分を含む感放射線性樹脂組成物は、現像する際に現像残りを生じることなく容易に所定パターン形状を形成することができる。
【００４８】
［Ｂ］成分
本発明で用いられる［Ｂ］成分は、放射線の照射によりカルボン酸を発生する１，２−キノンジアジド化合物であり、フェノール性化合物もしくはアルコール性化合物（以下、「水酸基を有する母核」という。）またはアミノ基を有する母核と、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を用いることができる。
上記水酸基を有する母核としては、例えばトリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ペンタヒドロキシベンゾフェノン、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、（ポリヒドロキシフェニル）アルカンおよびその他の水酸基を有する母核を挙げることができる。
【００４９】
これらの具体例としては、トリヒドロキシベンゾフェノンとして、例えば２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノンなど；
テトラヒドロキシベンゾフェノンとして、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノンなど；
ペンタヒドロキシベンゾフェノンとして、例えば２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノンなど；
ヘキサヒドロキシベンゾフェノンとして、例えば２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンなど；
（ポリヒドロキシフェニル）アルカンとして、例えばビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバンなど；
その他の水酸基を有する母核として、例えば２−メチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４−（４−ヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマン、２−［ビス｛（５−イソプロピル−４−ヒドロキシ−２−メチル）フェニル｝メチル］、１−［１−（３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］−３−（１−（３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）ベンゼン、４，６−ビス｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−１，３−ジヒドロキシベンゼンなどを、それぞれ挙げることができる。
【００５０】
上記アミノ基を有する母核としては、上記の水酸基を有する母核の水酸基をアミノ基に置換した化合物などを挙げることができる。
これらの母核のうち、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノールが好ましい。
上記１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとしては、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドが好ましく、その具体例としては１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸クロリドおよび１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドを挙げることができ、このうち、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドを使用することが好ましい。
縮合反応においては、フェノール性化合物もしくはアルコール性化合物中の水酸基数またはアミノ基を有する母核のアミノ基数に対して、好ましくは３０〜８５モル％、より好ましくは５０〜７０モル％に相当する１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドを用いることができる。
縮合反応は公知の方法によって実施することができる。
これらの［Ｂ］成分は単独でまたは２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００５１】
［Ｂ］成分の使用割合は、［Ａ］成分１００重量部に対して、好ましくは１〜２５重量部、より好ましくは５〜２０重量部である。
この割合が１重量部未満の場合には、現像液となるアルカリ水溶液に対する放射線の照射部分と未照射部分との溶解度の差が小さく、パターニングが困難となる場合があり、また得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズの耐熱性および耐溶剤性が不十分となる場合がある。一方、この割合が２５重量部を超える場合には、放射線照射部分において前記アルカリ水溶液への溶解度が不十分となり、現像することが困難となる場合がある。
【００５２】
その他の成分
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の［Ａ］成分および［Ｂ］成分を必須成分として含有するが、さらに必要に応じてポリシロキサン中に含まれる不飽和結合と反応性を有する、［Ｃ］重合性不飽和結合を有する基、ヒドロシリル基およびメルカプト基よりなる群からなる少なくとも一種の官能基を分子中に２個以上含有する化合物（但し、［Ａ］成分を除く）、［Ｄ］感熱性ラジカル発生剤、［Ｅ］界面活性剤、［Ｆ］接着助剤などを含有することができる。
上記［Ｃ］重合性不飽和結合、ヒドロシリル基およびメルカプト基よりなる群から選ばれる少なくとも一種の官能基を分子中に２個以上有する化合物（但し、［Ａ］成分を除く。以下、「［Ｃ］架橋性化合物」ということがある。）は、ポリシロキサン［Ａ］が有する重合性不飽和結合と反応性を有する化合物であり、ポリシロキサン［Ａ］を架橋することにより、得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズの耐熱性や硬度を向上させるために用いることができる。
【００５３】
［Ｃ］架橋性化合物のうち、重合性不飽和結合を分子中に２個以上有する化合物としては、例えば、ジビニルベンゼン、１，２，４−トリビニルシクロヘキサン、アジピン酸ジビニル、１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサン、ジビニルジメチルシランなどのビニル基を分子中に２個以上有する化合物、
ジアリルベンゼン、１，５−ヘキサジエン、１，７−オクタジエン、アジピン酸ジアリル、１，３−ジアリルテトラメチルジシロキサン、ジアリルアミン、トリアリルアミン、トリアリルホスフィン、ジアリルジメチルシラン、テトラアリルシラン、フタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリルなどのアリル基を分子中に２個以上有する化合物、
エチレングリコール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどの（メタ）アクリロキシ基を分子中に２個有する化合物、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリロキシ基を分子中に３個以上有する化合物、
（メタ）アクリル酸ビニルなどのビニル基と（メタ）アクリロキシ基を分子中に有する化合物、
（メタ）アクリル酸アリルなどのアリル基と（メタ）アクリロキシ基を分子中に有する化合物などを挙げることができる。
【００５４】
また、上記［Ｃ］架橋性化合物のうち、メルカプト基を分子中に２個以上有する化合物としては、例えば、チオグリコール酸、３−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトブタン酸、３−メルカプトペンタン酸等のメルカプトカルボン酸と、エチレングリコール、テトラエチレングリコール、ブタンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、１，３，５−トリス（２−ヒドロキシエチル）シアヌレート、ソルビトール等の多価アルコールとのエステル化物などを挙げることができる。
【００５５】
また、［Ｃ］架橋性化合物のうち、ヒドロシリル基を分子中に２個以上有する化合物としては、ジフェニルシラン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、以下ゲレスト社製の化合物のうち、ＤＭＳ−Ｈ０３、ＤＭＳ−Ｈ１１、ＤＭＳ−Ｈ２１、ＤＭＳ−Ｈ２５、ＤＭＳ−Ｈ３１、ＤＭＳ−Ｈ４１などのヒドリド末端ポリジメチルシロキサン、ＤＭＳ−Ｈ０３１、ＤＭＳ−Ｈ０７１、ＤＭＳ−Ｈ０８２、ＤＭＳ−Ｈ１５１、ＤＭＳ−Ｈ３０１、ＤＭＳ−Ｈ５０１、ＤＭＳ−Ｈ２７１などのポリメチルヒドロシロキサン、ＨＭＳ−９９１、ＨＭＳ−９９２、ＨＭＳ−９９３などのポリメチルヒドロシロキサン、ＨＭＳ−９９１などのポリエチルヒドロシロキサン、ＨＤＰ−１１１などのポリフェニルジメチルヒドロシロキシシラン、ＨＰＭ−５０２などのメチルヒドロシロキサン／フェニルメチルシロキサンの共重合体、ＨＡＭ−３０１、ＨＡＭ−３０１２などのメチルヒドロシラン／オクチルメチルシロキサン共重合物、ＨＱＭ−１０５、ＨＱＭ−１０７などを挙げることができる。
【００５６】
これらの［Ｃ］架橋性化合物のうち、（メタ）アクリロキシ基を分子中に３個以上有する化合物およびメルカプト基を分子中に２個以上有する化合物が好ましく、（メタ）アクリロキシ基を分子中に３個以上有する化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、メルカプト基を分子中に２個以上有する化合物としては、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（チオグリコレート）、１，４―ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，３，５，−トリス（３−メルカブトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオンが特に好ましい。
【００５７】
（メタ）アクリロキシ基を分子中に３個以上有する化合物の市販品としては、例えばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同Ｍ−８１００（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）などを挙げることができる。
前記［Ｃ］架橋性化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
［Ｃ］架橋性化合物の使用割合は、［Ａ］成分１００重量部に対して、好ましくは５０重量部以下、より好ましくは３０重量部以下である。
このような割合で［Ｃ］成分を含有させることにより、本発明の感放射線性樹脂組成物から得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズの耐熱性および表面硬度等を向上させることができる。この使用量が５０重量部を超えると、基板上に感放射線性樹脂組成物の被膜を形成する工程において膜荒れが生じることがある。
【００５８】
本発明の感放射線性樹脂組成物には、さらにポリシロキサン［Ａ］の架橋性を向上させるため、上記［Ｄ］感熱性ラジカル発生剤を使用することができる。［Ｄ］感熱性ラジカル発生剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものが使用できる。このような感熱性ラジカル発生剤としては、例えば、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミドなどのアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有機過酸化物；および過酸化水素などを挙げることができる。感熱性ラジカル発生剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよい。
【００５９】
上記［Ｄ］感熱性ラジカル発生剤は、６０℃での分解半減期が１００分以上であり、かつ２００℃での分解半減期が３０分以下であることが好ましい。この場合、６０℃での分解半減期が１００分以下であるとプレベークの際にラジカル発生による架橋反応が進行するために感度と解像度が悪化するおそれがあり、また、２００℃での分解半減期が３０分以上であると現像後の加熱工程におけるラジカル発生が不十分で架橋反応が進行せず十分な耐溶剤性および硬度が得られないおそれがある。好ましい［Ｄ］感熱性ラジカル発生剤の具体例としては、例えば、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミドなどを挙げることができる。
【００６０】
本発明において、［Ｄ］感熱性ラジカル発生剤の使用割合は、［Ａ］成分１００重量部に対して、好ましくは１０重量部以下、より好ましくは１〜５重量部である。
このような割合で［Ｄ］成分を含有させることにより、本発明の感放射線性樹脂組成物から得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズの耐薬品性、耐熱性および表面硬度を向上させることができる。
本発明の感放射線性樹脂組成物には、さらに塗布性を向上するため［Ｅ］界面活性剤を使用することができる。ここで使用できる［Ｅ］界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびノニオン系界面活性剤を好適に用いることができる。
【００６１】
フッ素系界面活性剤の具体例としては、１，１，２，２−テトラフロロオクチル（１，１，２，２−テトラフロロプロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフロロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフロロブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコール（１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフロロブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロペンチル）エーテル、パーフロロドデシルスルホン酸ナトリウム、１，１，２，２，３，３，９，９，１０，１０−デカフロロドデカン、１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロデカンなどの他、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム；フルオロアルキルオキシエチレンエーテル；フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール；パーフルオロアルキルアルコキシレート；フッ素系アルキルエステルなどを挙げることができる。
【００６２】
これらの市販品としては、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、ＦＣ−１７１、ＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、同３５２（新秋田化成（株）製）などが挙げられる。
【００６３】
上記シリコーン系界面活性剤としては、例えばＤＣ３ＰＡ、ＤＣ７ＰＡ、ＦＳ−１２６５、ＳＦ−８４２８、ＳＨ１１ＰＡ、ＳＨ２１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）などの商品名で市販されているものを挙げることができる。
上記ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル；ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステルなど；（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ.５７、９５（共栄社化学（株）製）などを使用することができる。
【００６４】
これらの界面活性剤は単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
これらの［Ｅ］界面活性剤は、［Ａ］成分１００重量部に対して、好ましくは５重量部以下、より好ましくは２重量部以下で用いられる。［Ｅ］界面活性剤の使用量が５重量部を超えると、基板上に塗膜を形成する際、塗膜の膜あれが生じやすくなることがある。
本発明の感放射線性樹脂組成物においては、基体との接着性を向上させるために、さらに、［Ｆ］接着助剤を使用することができる。
【００６５】
このような［Ｆ］接着助剤としては、官能性シランカップリング剤が好ましく使用され、例えばカルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカップリング剤が挙げられる。具体的にはトリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。このような［Ｆ］接着助剤は、［Ａ］成分１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、より好ましくは１０重量部以下の量で用いられる。接着助剤の量が２０重量部を超える場合は、現像工程において現像残りが生じやすくなる場合がある。
【００６６】
感放射線性樹脂組成物
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の［Ａ］成分および［Ｂ］成分ならびに上記の如き任意的に添加するその他の成分を均一に混合することによって調製される。本発明の感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。例えば［Ａ］成分および［Ｂ］成分ならびに任意的に添加されるその他の成分を、所定の割合で混合することにより、溶液状態の感放射線性樹脂組成物を調製することができる。
本発明の感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、［Ａ］成分および［Ｂ］成分ならびに任意的に配合されるその他の成分の各成分を均一に溶解し、各成分と反応しないものが用いられる。
このような溶媒としては、［Ａ］成分として好ましく使用されるポリシロキサン［Ａ］を合成するための溶媒として上記に例示したものと同様のものを挙げることができる。
【００６７】
このような溶媒のうち、各成分の溶解性、各成分との反応性、塗膜形成のしやすさ等の点から、アルコール、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、エステルおよびジエチレングリコールが好ましく用いられる。これらのうち、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノール、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プルピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチルが特に好ましく使用できる。
【００６８】
さらに前記溶媒とともに膜厚の面内均一性を高めるため、高沸点溶媒を併用することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。これらのうち、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが好ましい。
【００６９】
本発明の感放射性樹脂組成物の溶媒として、高沸点溶媒を併用する場合、その使用量は、溶媒全量に対して、好ましくは５０重量％以下、より好ましくは４０重量％以下、さらに好ましくは３０重量％以下とすることができる。高沸点溶媒の使用量がこの使用量を越えると、塗膜の膜厚均一性、感度および残膜率が低下する場合がある。
本発明の感放射線性樹脂組成物を溶液状態として調製する場合、溶液中に占める溶媒以外の成分（すなわち［Ａ］成分および［Ｂ］成分ならびに任意的に添加されるその他の成分の合計量）の割合（固形分濃度）は、使用目的や所望の膜厚の値等に応じて任意に設定することができるが、好ましくは５〜５０重量％、より好ましくは１０〜４０重量％、さらに好ましくは１５〜３５重量％である。
このようにして調製された組成物溶液は、孔径０.２μｍ程度のミリポアフィルタなどを用いて濾過した後、使用に供してもよい。
【００７０】
層間絶縁膜、マイクロレンズの形成
次に本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて、本発明の層間絶縁膜またはマイクロレンズを形成する方法について述べる。本発明の層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成方法は以下の工程を以下に記載の順で含む。
（１）基板上に本発明の感放射線性樹脂組成物の被膜を形成する工程、
（２）該被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）放射線照射後の被膜を現像する工程、および
（４）現像後の被膜を加熱する工程。
【００７１】
以下、本発明の層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成方法の各工程につき詳細に説明する。
【００７２】
（１）基板上に本発明の感放射線性樹脂組成物の被膜を形成する工程
工程（１）においては、本発明の組成物溶液を基板表面に塗布し、好ましくはプレベークを行うことにより溶剤を除去して、感放射線性樹脂組成物の被膜を形成する。
使用できる基板の種類としては、例えばガラス基板、シリコン基板およびこれらの表面に各種金属が形成された基板を挙げることができる。
組成物溶液の塗布方法としては、特に限定されず、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット法等の適宜の方法を採用することができ、特にスピンコート法またはスリットダイ塗布法が好ましい。プレベークの条件としては、各成分の種類、使用割合等によっても異なる。例えば、６０〜１１０℃で３０秒間〜１５分間程度とすることができる。
形成される被膜の膜厚としては、プレベーク後の値として、層間絶縁膜を形成する場合にあっては例えば３〜６μｍ、マイクロレンズを形成する場合にあっては例えば０．５〜３μｍが好ましい。
【００７３】
（２）該被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程
工程（２）においては、上記の如くして形成された被膜の少なくとも一部に放射線を照射する。被膜の一部に放射線を照射するには、例えば所定のパターンを有するマスクを介して放射線を照射する方法によることができる。
その後、現像液を用いて現像処理して放射線の照射部分を除去することによりパターニングを行う。このとき用いられる放射線としては、例えば紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等が挙げられる。
上記紫外線としては例えばｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）などを含む放射線が挙げられる。遠紫外線としては例えばＫｒＦエキシマレーザーなどが挙げられる。Ｘ線としては例えばシンクロトロン放射線などが挙げられる。荷電粒子線として例えば電子線などを挙げることができる。
これらのうち、紫外線が好ましく、なかでもｇ線および／またはｉ線を含む放射線が特に好ましい。
放射線の照射量（露光量）としては、層間絶縁膜を形成する場合にあっては５０〜１，５００Ｊ／ｍ２、マイクロレンズを形成する場合にあっては５０〜２，０００Ｊ／ｍ２とすることが好ましい。
【００７４】
（３）放射線照射後の被膜を現像する工程
工程（３）の現像処理に用いられる現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノナンなどのアルカリ（塩基性化合物）の水溶液を用いることができる。また、上記のアルカリの水溶液にメタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加した水溶液、または本発明の組成物を溶解する各種有機溶媒を現像液として使用することができる。
現像方法としては、例えば液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等の適宜の方法を利用することができる。このときの現像時間は、組成物の組成によって異なるが、例えば３０〜１２０秒間とすることができる。
なお、従来知られている感放射線性樹脂組成物は、現像時間が最適値から２０〜２５秒程度超過すると形成したパターンに剥がれが生じるため現像時間を厳密に制御する必要があったが、本発明の感放射線性樹脂組成物の場合、最適現像時間からの超過時間が３０秒以上となっても良好なパターン形成が可能であり、製品歩留り上の利点がある。
【００７５】
（４）現像後の被膜を加熱する工程
上記のように実施した工程（３）の現像工程後に、パターニングされた薄膜に対して、好ましくは例えば流水洗浄によるリンス処理を行い、さらに、好ましくは高圧水銀灯などによる放射線を全面に照射（後露光）することにより、当該薄膜中に残存する１，２−キノンジアジト化合物の分解処理を行った後、この薄膜を、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により加熱処理（ポストベーク処理）することにより、当該薄膜の硬化処理を行う。上記後露光工程における露光量は、好ましくは２，０００〜５，０００Ｊ／ｍ２である。また、この硬化処理における焼成温度は、例えば１２０以上２５０℃未満である。加熱時間は、加熱機器の種類により異なるが、例えばホットプレート上で加熱処理を行う場合には５〜３０分間、オーブン中で加熱処理を行う場合には３０〜９０分間とすることができる。この際に、２回以上の加熱工程を行うステップベーク法などを用いることもできる。なお、従来高耐熱の材料として知られているポリシロキサンからなる感光性材料の被膜を基板上に形成する場合、２５０℃以上の高温処理が必要であったが、本発明の感放射線性樹脂組成物の場合、この処理温度を２５０℃未満、さらに２４０℃以下、さらに２３０℃以下とすることができるため、表示素子を形成する工程にも好適に適用することができる利点がある。
このようにして、目的とする層間絶縁膜またはマイクロレンズに対応する、パターン状薄膜を基板の表面上に形成することができる。
【００７６】
層間絶縁膜
上記のようにして形成された本発明の層間絶縁膜は、後述の実施例から明らかにされるように、基板への密着性が良好であり、耐溶剤性および耐熱性に優れ、高い透過率を有し、誘電率が低いものであり、電子部品の層間絶縁膜として好適に使用できる。
【００７７】
マイクロレンズ
上記のようにして形成された本発明のマイクロレンズは、後述の実施例から明らかにされるように、基板への密着性が良好であり、耐溶剤性および耐熱性に優れ、かつ高い透過率と良好なメルト形状を有するものであり、固体撮像素子のマイクロレンズとして好適に使用できる。
本発明のマイクロレンズの形状は、図１（ａ）に示したように、半凸レンズ形状となり、良好な集光特性を示す。
【実施例】
【００７８】
以下に合成例、実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００７９】
［Ａ］成分の合成例
合成例１［Ａ−１］
５００ｍＬの三つ口フラスコにビニルトリメトキシシラン１９．３ｇ、メチルトリメトキシシラン５３．１ｇおよびフェニルトリメトキシシラン１５４.７ｇをとり、これにジエチレングリコールメチルエチルエーテル１１３．５ｇを加えて溶解し、得られた溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら３０分間かけて６０℃に昇温した。これに５．９ｇのシュウ酸を含んだ７０．３ｇのイオン交換水を３０分間かけて連続的に添加した後、６０℃で３時間反応を行った。減圧にて反応液からメタノールと水を留去して、固形分濃度が３５重量％になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルを添加することにより、ポリシロキサン［Ａ−１］を含有する溶液を得た。ポリシロキサン［Ａ−１］のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは２，６００であった。
【００８０】
合成例２［Ａ−２］
５００ｍＬの三つ口フラスコにビニルトリメトキシシラン７１．１ｇおよびフェニルトリメトキシシラン１４２.８ｇをとり、これにジエチレングリコールメチルエチルエーテル１０７．０ｇを加えて溶解し、得られた溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら３０分間かけて６０℃に昇温した。これに５．４ｇのシュウ酸を含んだ６４．９ｇのイオン交換水を３０分間かけて連続的に添加した後、６０℃で３時間反応を行った。減圧にて反応液からメタノールと水を留去して、固形分濃度が３５重量％になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルを添加することにより、ポリシロキサン［Ａ−２］を含有する溶液を得た。ポリシロキサン［Ａ−２］のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは２，２００であった。
【００８１】
合成例３［Ａ−３］
５００ｍＬの三つ口フラスコに３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン３９．３ｇ、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン３２．０ｇ、およびフェニルトリメトキシシラン１１９．０ｇをとり、これにジエチレングリコールメチルエチルエーテル９３．９ｇを加えて溶解し、得られた溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら３０分間かけて６０℃に昇温した。これに４．５ｇのシュウ酸を含んだ５４．１ｇのイオン交換水を３０分間かけて連続的に添加した後、６０℃で３時間反応を行った。減圧にて反応液からメタノールと水を留去して、固形分濃度が３５重量％になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルを添加することにより、ポリシロキサン［Ａ−３］を含有する溶液を得た。ポリシロキサン［Ａ−３］のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは２，５００であった。
【００８２】
合成例４［Ａ−４］
５００ｍＬの三つ口フラスコにアリルトリメトキシシラン１６．２ｇ、メチルトリメトキシシラン４０．９ｇおよびフェニルトリメトキシシラン１１９．０ｇをとり、これにジエチレングリコールメチルエチルエーテル８８．０ｇを加えて溶解し、得られた溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら６０℃に昇温した。これに、４．５ｇのシュウ酸を溶解した５４．１ｇのイオン交換水を１時間かけて連続的に添加した。そして、６０℃で３時間反応を行った後、得られた反応液を４０℃まで冷却し、その後、減圧にてアルコールと水を留去し、固形分濃度が３５重量％になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルを添加することにより、ポリシロキサン［Ａ−４］を含有する溶液を得た。ポリシロキサン［Ａ−４］のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは２，４００であった。
【００８３】
合成例５［Ａ−５］
５００ｍＬの三つ口フラスコに３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン３２．０ｇ、メチルトリメトキシシラン５３．１ｇおよびフェニルトリメトキシシラン１５４．７ｇをとり、これにジエチレングリコールメチルエチルエーテル１１９．９ｇを加えて溶解し、得られた溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら６０℃に昇温した。これに、５．０ｇのシュウ酸を溶解した５９．５ｇのイオン交換水を１時間かけて連続的に添加した。そして、６０℃で３時間反応を行った後、得られた反応液を４０℃まで冷却した。４０℃において１分間かけて１０Ｔｏｒｒまで減圧し、副生成物のメタノールを留去した。これに、３９．６ｇのイオン交換水と３９．６ｇのジエチレングリコールメチルエチルエーテルを３０分かけて連続的に添加した後、４０℃で２時間攪拌し、その後、減圧にてアルコールと水を留去し、固形分濃度が３５重量％になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルを添加することにより、ポリシロキサン［Ａ−５］を含有する溶液を得た。ポリシロキサン［Ａ−５］のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは２，７００であった。
【００８４】
比較合成例１［ａ−１］
５００ｍＬの三つ口フラスコにメチルトリメトキシシラン４９．０ｇおよびフェニルトリメトキシシラン１６６．６ｇをとり、これにジエチレングリコールメチルエチルエーテル１０７．８ｇを加えて溶解し、得られた溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら６０℃に昇温した。これに、５．４ｇのシュウ酸を溶解した６４．９ｇのイオン交換水を１時間かけて連続的に添加した。そして、６０℃で３時間反応を行った後、得られた反応液を４０℃まで冷却し、その後、減圧にてアルコールと水を留去し、固形分濃度が３５重量％になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルを添加することにより、ポリシロキサン［ａ−１］を含有する溶液を得た。ポリシロキサン［ａ−１］のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは２，８００であった。
【００８５】
比較合成例２［ａ−２］
冷却管および攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２,４−ジメチルバレロニトリル）８重量部およびジエチレングリコールエチルメチルエーテル２２０重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２０重量部、メタクリル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル４０重量部およびトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルメタクリレート２０重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇し、この温度を５時間保持することにより、共重合体［ａ−２］を含む重合体溶液を得た。
共重合体［ａ−２］のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは７，５００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．５であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は３１．６重量％であった。
【００８６】
＜感放射線性樹脂組成物の調製＞
実施例１
上記合成例１で合成したポリシロキサン［Ａ−１］を含有する溶液を、ポリシロキサン［Ａ−１］１００重量部（固形分）に相当する量、および成分［Ｂ］として４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）の縮合物（Ｂ−１）１０重量部とを混合し、固形分濃度が３３重量％となるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルを加えて均一に溶解した後、口径０．２μｍのメンブランフィルタで濾過することにより、感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−１）を調製した。
【００８７】
実施例２〜１１、比較例１〜２
実施例１において、［Ａ］成分および［Ｂ］成分として、表１に記載のとおりの種類、量を使用した他は、実施例１と同様にして実施し、感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−２）〜（Ｓ−１１）および（ｓ−１）〜（ｓ−２）を調製した。
なお、実施例３、４、８、１０、１１においては、［Ｃ］成分を添加した。実施例２〜１１においては、さらに［Ｄ］成分を添加した。
【００８８】
実施例１２
実施例１０において、固形分濃度が２０重量％になるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテル／プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート＝６／４（重量比）に溶解したことと、さらに［Ｅ］成分として界面活性剤ＳＨ−２８ＰＡ（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）を添加したこと以外は、実施例１０と同様に実施して感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−１２）を調製した。
【００８９】
【表１】
【００９０】
表１中、各成分の略称はそれぞれ次の意味である。
【００９１】
［Ｂ−１］：４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（３．０モル）の縮合物
［Ｃ−１］：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
［Ｃ−２］：ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）
［Ｄ−１］：１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）
［Ｅ−１］：シリコーン系界面活性剤（商品名ＳＨ−２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）
【００９２】
＜層間絶縁膜としての性能評価＞
実施例１３〜２４、比較例３〜４
上記のように調製した感放射線性樹脂組成物を使用し、以下のように層間絶縁膜としての各種の特性を評価した。
【００９３】
〔感度の評価〕
シリコン基板上に、実施例１３〜２３および比較例３〜４についてはスピンナーを用いてそれぞれ表２に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより膜厚４．０μｍの塗膜を形成した。実施例２４についてはスリットダイコーターによる塗布を行い、室温で１５秒かけて０．５Ｔｏｒｒまで減圧し、溶媒を除去した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより膜厚４．０μｍの塗膜を形成した。
得られた塗膜にそれぞれ３．０μｍのライン・アンド・スペース（１０対１）のパターンを有するマスクを介してキャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用いて、露光時間を変量して露光を行った後、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、８０秒間、液盛り法による現像を行った。次いで超純水で１分間流水洗浄を行い、乾燥することによりシリコン基板上にパターンを形成した。このとき、スペース線幅が０．３μｍとなるのに必要な最小露光量を調べた。この最小露光量を感度として表２に示した。
【００９４】
〔現像マージンの評価〕
シリコン基板上に、実施例１３〜２３および比較例３〜４についてはスピンナーを用いてそれぞれ表２に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより膜厚４．０μｍの塗膜を形成した。実施例２４についてはスリットダイコーターによる塗布を行い、室温で１５秒かけて０．５Ｔｏｒｒまで減圧し、溶媒を除去した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより膜厚４．０μｍの塗膜を形成した。
得られた塗膜にそれぞれ３．０μｍのライン・アンド・スペース（１０対１）のパターンを有するマスクを介してキャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用いて、上記「〔感度の評価〕」にて調べた感度の値に相当する露光量で露光を行った後、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、現像時間を変量として液盛り法により現像した。次いで超純水で１分間流水洗浄を行った後、乾燥してシリコン基板上にパターンを形成した。このとき、ライン線幅が３μｍとなるのに必要な現像時間を最適現像時間として表２に示した。また、最適現像時間からさらに現像を続けた際に３．０μｍのライン・パターンが剥がれるまでの時間を測定し、現像マージンとして表２に示した。
【００９５】
〔耐溶剤性の評価〕
シリコン基板上に、実施例１３〜２３および比較例３〜４についてはスピンナーを用いてそれぞれ表２に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより塗膜を形成した。実施例２４についてはスリットダイコーターによる塗布を行い、室温で１５秒かけて０．５Ｔｏｒｒまで減圧し、溶媒を除去した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより塗膜を形成した。
得られた塗膜にそれぞれキャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用いて、積算照射量が３，０００Ｊ／ｍ２となるように露光を行った後、クリーンオーブン内にて２２０℃で１時間加熱することにより膜厚約３．０μｍの硬化膜を得た。得られた硬化膜の膜厚（Ｔ１）を測定した。そして、この硬化膜が形成されたシリコン基板を７０℃に温度制御されたジメチルスルホキシド中に２０分間浸漬した後、当該硬化膜の浸漬後膜厚（ｔ１）を測定し、浸漬による膜厚変化率｛｜ｔ１−Ｔ１｜／Ｔ１｝×１００〔％〕を算出した。結果を表２に示す。
なお、耐溶剤性の評価においてはパターニングが不要のため、現像工程を省略し、塗膜形成工程、放射線照射工程および加熱工程のみ行い評価に供した。
【００９６】
〔耐熱性の評価〕
上記「〔耐溶剤性の評価〕」と同様にしてシリコン基板上に硬化膜を形成し、得られた硬化膜の膜厚（Ｔ２）を測定した。次いで、この硬化膜付き基板をクリーンオーブン内にて２４０℃で１時間追加ベークした後、当該硬化膜の追加ベーク後膜厚（ｔ２）を測定し、追加ベークによる膜厚変化率｛｜ｔ２−Ｔ２｜／Ｔ２｝×１００〔％〕を算出した。結果を表２に示す。
【００９７】
〔透明性の評価〕
上記「〔耐溶剤性の評価〕」において、シリコン基板の代わりにガラス基板「コーニング７０５９」（コーニング社製）を用いたこと以外は同様にしてガラス基板上に硬化膜を形成した。この硬化膜を有するガラス基板の光線透過率を、分光光度計「１５０−２０型ダブルビーム」（（株）日立製作所製）を用いて４００〜８００ｎｍの範囲の波長で測定した。そのときの最低光線透過率の値を表２に示す。
【００９８】
〔比誘電率の評価〕
研磨したＳＵＳ３０４製基板上に、実施例１３〜２３および比較例３〜４についてはスピンナーを用いてそれぞれ表２に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。実施例２４についてはスリットダイコーターにより塗布を行い室温で１５秒かけて０．５Ｔｏｒｒまで減圧し、溶媒を除去した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。
得られた塗膜にそれぞれキャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用いて、積算照射量が３，０００Ｊ／ｍ２となるように露光を行った後、クリーンオーブン内にて２２０℃で１時間加熱することにより、基板上に硬化膜を形成した。この硬化膜上に蒸着法によりＰｔ／Ｐｄ電極パターンを形成し、誘電率測定用サンプルを作成した。得られたサンプルにつき、横河・ヒューレットパッカード（株）製ＨＰ１６４５１Ｂ電極およびＨＰ４２８４ＡプレシジョンＬＣＲメーターを用いてＣＶ法により、周波数１０ｋＨｚの周波数における比誘電率を測定した。結果を表２に示した。
なお、比誘電率の評価においてはパターニングが不要のため、現像工程を省略し、塗膜形成工程、放射線照射工程および加熱工程のみ行い評価に供した。
【００９９】
〔表面硬度の評価〕
上記「〔耐溶剤性の評価〕」と同様にしてシリコン基板上に硬化膜を形成し、得られた硬化膜について、ＪＩＳ Ｋ−５４００−１９９０の８．４．１鉛筆引っかき試験により鉛筆硬度を測定した。結果を表２に示す。鉛筆硬度がＨまたはそれより硬いとき、表面硬度は良好といえる。
【０１００】
〔電圧保持率の評価〕
表面にナトリウムイオンの溶出を防止するＳｉＯ２膜が形成され、さらにＩＴＯ（インジウム−酸化錫合金）電極を所定形状に蒸着したソーダガラス基板上に、スピンナーを用いて上記で調製した感放射線性樹脂組成物を塗布し、１００℃のホットプレート上で２分間プレベークを行って、膜厚２．０μｍの塗膜を形成した。２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、８０秒間、ディップ法による現像を行った。次いで、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介さずに、塗膜に３６５ｎｍ、４０５ｎｍおよび４３６ｎｍの各波長を含む放射線を３，０００Ｊ／ｍ２の露光量で露光した。さらに２２０℃で１時間ポストベークを行い、硬化膜を形成した。
【０１０１】
次いで、この硬化膜を有する基板上に５．５μｍ径のビーズスペーサーを散布後、表面にＩＴＯ電極を所定形状に蒸着しただけのソーダガラス基板とを対向させ、液晶注入口を残して４辺を０．８ｍｍのガラスビーズを混合したシール剤を用いて貼り合わせ、メルク社製液晶ＭＬＣ６６０８（商品名）を注入した後に液晶注入口を封止することにより、液晶セルを作製した。
この液晶セルを６０℃の恒温層に入れて、東陽テクニカ製液晶電圧保持率測定システムＶＨＲ−１Ａ型（商品名）により、印加電圧を５．５Ｖの方形波とし、測定周波数を６０Ｈｚとして液晶セルの電圧保持率を測定したところ、電圧保持率は９７％であった。結果を表１に示す。
なお、ここで電圧保持率とは、下記式で求められる値である。
電圧保持率（％）＝（１６．７ミリ秒後の液晶セル電位差）／（０ミリ秒で印加した電圧）×１００
液晶セルの電圧保持率の値が低いほど、液晶パネル形成時に「焼き付き」と呼ばれる不具合を起こす可能性が高くなる。電圧保持率の値が高くなるほど、液晶パネルの信頼性が高くなると言える。
【０１０２】
【表２】
【０１０３】
＜マイクロレンズとしての性能評価＞
実施例２５〜３６、比較例５〜６
上記のように調製した感放射線性樹脂組成物を使用し、以下のようにマイクロレンズとしての各種の特性を評価した。なお耐溶剤性の評価、耐熱性の評価、透明性の評価は上記層間絶縁膜としての性能評価における結果を参照されたい。
【０１０４】
〔感度の評価〕
シリコン基板上に、スピンナーを用いてそれぞれ表３に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより膜厚２．０μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜に所定のパターンを有するパターンマスクを介してニコン（株）製ＮＳＲ１７５５ｉ７Ａ縮小投影露光機（ＮＡ＝０.５０、λ＝３６５ｎｍ）を用いて、露光時間を変量して露光を行った後、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、１分間液盛り法で現像した。次いで超純水でリンスし、乾燥することによりシリコン基板上にパターンを形成した。０．８μｍライン・アンド・スペ−スパタ−ン（１対１）のスペース線幅が０．８μｍとなるのに必要な最小露光量を調べた。この最小露光量を感度として表３に示した。
【０１０５】
〔現像マージンの評価〕
シリコン基板上に、スピンナーを用いてそれぞれ表３に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより、膜厚２．０μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜に所定のパターンを有するパターンマスクを介してニコン（株）製ＮＳＲ１７５５ｉ７Ａ縮小投影露光機（ＮＡ＝０.５０、λ＝３６５ｎｍ）を用いて、上記「［感度の評価］」にて調べた感度の値に相当する露光量で露光を行った後、表３に記載した濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、１分間液盛り法で現像した。水でリンスし、乾燥してシリコン基板上にパターンを形成した。０．８μｍライン・アンド・スペ−スパタ−ン（１対１）のスペース線幅が０．８μｍとなるのに必要な現像時間を最適現像時間として表３に示した。また、最適現像時間からさらに現像を続けた際に幅０．８μｍのパターンが剥がれるまでの時間（現像マージン）を測定し、現像マージンとして表３に示した。
【０１０６】
〔マイクロレンズの形成〕
シリコン基板上に、スピンナーを用いてそれぞれ表３に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークすることにより、膜厚２．０μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜に４．０μｍドット・２．０μｍスペ−スパタ−ンを有するパターンマスクを介してニコン（株）製ＮＳＲ１７５５ｉ７Ａ縮小投影露光機（ＮＡ＝０.５０、λ＝３６５ｎｍ）を用いて、上記「［感度の評価］」にて調べた感度の値に相当する露光量で露光を行った後、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、１分間液盛り法で現像した。次いで超純水でリンスし、乾燥することにより、シリコン基板上にパターンを形成した。その後、キャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）を用いて、積算照射量が３，０００Ｊ／ｍ２となるようにさらに露光を行った。その後、ホットプレートにて１６０℃で１０分間加熱後さらに２３０℃で１０分間加熱して、パターンをメルトフローさせてマイクロレンズを形成した。
【０１０７】
形成されたマイクロレンズの底部（基板に接する面）の寸法（直径）および断面形状を表３に示す。マイクロレンズ底部の寸法は４．０μｍを超え５．０μｍ未満であるとき、良好といえる。この寸法が５．０μｍ以上となると、隣接するレンズ同士が接触する状態であり、好ましくない。また、断面形状は図１に示した模式図において、（ａ）のような半凸レンズ形状であるときに良好であり、（ｂ）のような略台形上の場合は不良である。
【０１０８】
【表３】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
［Ａ］（ａ１）下記式（１）で表されるシラン化合物と（ａ２）下記式（２）で表されるシラン化合物との加水分解縮合物であるポリシロキサン、
［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
【化１】
（式（１）中、Ｘ１はビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、スチリル基またはビニルベンジロキシ基を表し、Ｙ１は単結合、メチレン基または炭素数２〜６のアルキレン基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数２〜６のアシルオキシ基を表し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数６〜１２の置換もしくは非置換のアリール基を表し、ａおよびｂはそれぞれ１〜３の整数を表し、ｃは０〜２の整数を表し、そしてａ＋ｂ＋ｃ＝４である。）
【化２】
（式（２）中、Ｒ５は炭素数１〜６の置換もしくは非置換のアルコキシ基、炭素数６〜１８の置換もしくは非置換のアリールオキシ基または炭素数２〜６のアシルオキシ基を表し、Ｒ６は炭素数１〜６の置換もしくは非置換のアルキル基または炭素数６〜１８の置換もしくは非置換のアリール基を表し、ｇは１〜４の整数を表し、ｈは０〜３の整数を表し、そしてｇ＋ｈ＝４である。）
【請求項２】
［Ｃ］重合性不飽和結合、ヒドロシリル基およびメルカプト基よりなる群から選ばれる少なくとも一種の官能基を分子中に２個以上有する化合物（但し、［Ａ］成分を除く）をさらに含有する、請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項３】
［Ｄ］感熱性ラジカル発生剤をさらに含有する、請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項４】
層間絶縁膜形成用またはマイクロレンズ形成用である請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項５】
以下の工程を以下に記載の順で含むことを特徴とする、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成方法。
（１）基板上に請求項４に記載の感放射線性樹脂組成物の被膜を形成する工程、
（２）該被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）放射線照射後の被膜を現像する工程、および
（４）現像後の被膜を加熱する工程。
【請求項６】
請求項５に記載の方法により形成された層間絶縁膜またはマイクロレンズ。
【請求項１】
［Ａ］（ａ１）下記式（１）で表されるシラン化合物と（ａ２）下記式（２）で表されるシラン化合物との加水分解縮合物であるポリシロキサン、
［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
【化１】
（式（１）中、Ｘ１はビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、スチリル基またはビニルベンジロキシ基を表し、Ｙ１は単結合、メチレン基または炭素数２〜６のアルキレン基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数２〜６のアシルオキシ基を表し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数６〜１２の置換もしくは非置換のアリール基を表し、ａおよびｂはそれぞれ１〜３の整数を表し、ｃは０〜２の整数を表し、そしてａ＋ｂ＋ｃ＝４である。）
【化２】
（式（２）中、Ｒ５は炭素数１〜６の置換もしくは非置換のアルコキシ基、炭素数６〜１８の置換もしくは非置換のアリールオキシ基または炭素数２〜６のアシルオキシ基を表し、Ｒ６は炭素数１〜６の置換もしくは非置換のアルキル基または炭素数６〜１８の置換もしくは非置換のアリール基を表し、ｇは１〜４の整数を表し、ｈは０〜３の整数を表し、そしてｇ＋ｈ＝４である。）
【請求項２】
［Ｃ］重合性不飽和結合、ヒドロシリル基およびメルカプト基よりなる群から選ばれる少なくとも一種の官能基を分子中に２個以上有する化合物（但し、［Ａ］成分を除く）をさらに含有する、請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項３】
［Ｄ］感熱性ラジカル発生剤をさらに含有する、請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項４】
層間絶縁膜形成用またはマイクロレンズ形成用である請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項５】
以下の工程を以下に記載の順で含むことを特徴とする、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成方法。
（１）基板上に請求項４に記載の感放射線性樹脂組成物の被膜を形成する工程、
（２）該被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）放射線照射後の被膜を現像する工程、および
（４）現像後の被膜を加熱する工程。
【請求項６】
請求項５に記載の方法により形成された層間絶縁膜またはマイクロレンズ。
【図１】
【公開番号】特開２００９−２２３２９３（Ｐ２００９−２２３２９３Ａ）
【公開日】平成２１年１０月１日（２００９．１０．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−４６７４（Ｐ２００９−４６７４）
【出願日】平成２１年１月１３日（２００９．１．１３）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１０月１日（２００９．１０．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１月１３日（２００９．１．１３）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
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