【課題】微細なパターン形成、フィルム特性や、保護膜としての信頼性に優れた皮膜を有するポリイミドシリコーン、感光性樹脂組成物及びパターン形成方法を提供。
【解決手段】水素原子の一部又は全部が酸不安定基で置換のフェノール性水酸基を分子中に有する式（１）のポリイミドシリコーン。


［Ｘは四価の基で、その少なくとも一部が式（２）


（Ｒ¹は一価炭化水素基、Ｒ²は三価の基、ｎはその平均が１〜１２０）の四価の有機基、Ｙは二価の基の酸不安定基で置換のフェノール性水酸基含有の基］ （もっと読む）

【課題】ベイク工程後に得られたＦＰＣの反りを低減し、機械物性を向上させ、溶剤耐性を改善することのできる樹脂パターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂パターンの製造方法は、（１）ポジ型感光性樹脂組成物をフィルム基材に塗布し、次いで脱溶剤し感光性ドライフィルムを作る工程と、（２）前記感光性ドライフィルムを、パターンを配した基板上に圧着し感光層を形成する工程と、（３）前記感光層に、マスクを通して活性光線を照射する工程と、（４）前記感光層をアルカリ水溶液により現像する工程と、（５）前記感光層を水及び酸性水溶液からなる群から選択される少なくとも１つの溶媒によりリンスする工程と、（６）前記感光層の全体に活性光線を照射する工程と、（７）１００℃〜４００℃でキュアする工程とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】４０５ｎｍ付近の光に高感度を有し、露光後に加熱処理を行うこと無しに、耐薬品性、接着性に優れた良好な光硬化性を有する光重合性樹脂組成物を与えること、さらにこれを利用した耐刷性に優れ、クリーナー液耐性に優れた感光性平版印刷版材料を与える。
【解決手段】（Ａ）一般式Ｉで表される化合物またはトリハロアルキル置換ｓ−トリアジン環基を２個有する特定の化合物、（Ｂ）有機ホウ素塩化合物、（Ｃ）３８０〜４１０ｎｍの波長域に吸収を有する増感色素、（Ｄ）重合性化合物、（Ｅ）バインダーポリマーを含有する光重合性樹脂組成物。
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【課題】半導体後工程のリフロー又は及びレジスト剥離工程において使用される新規感光性樹脂組成物、及び該組成物を用いたフラックスや溶剤に対して充分な耐性を持ちかつ側壁形状に角のない硬化レリーフパターンの製造方法の提供。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）：


で表される構造を含むヒドロキシポリアミド１００質量部、（Ｂ）ジアゾキノン化合物１〜１００質量部、（Ｃ）オキセタニル基を含有する化合物、及び（Ｄ）熱架橋剤を含有し、該（Ｃ）オキセタニル基を含有する化合物と該（Ｄ）熱架橋剤との合計含有量が２０〜５０質量部であり、且つ、該（Ｃ）オキセタニル基を含有する化合物に対する該（Ｄ）熱架橋剤の質量比が０．０６〜０．６７であることを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】臭素化エポキシ樹脂やハロゲン系難燃剤を用いずに優れた難燃性を得ることができ、解像性、密着性、耐熱性、耐薬品性、耐折性に優れ、燃焼時の臭化水素やダイオキシン類等の有害ガスの発生が抑制された感光性熱硬化型樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）１分子中に（メタ）アクリロイル基とカルボキシル基とを有し、希アルカリ溶液に可溶な樹脂成分、（Ｂ）エポキシ基を有する熱硬化成分、（Ｃ）下記一般式［１］で示される（メタ）アクリロイル基含有リン化合物、


（但し、式中、Ｒ^１は水素またはメチル基を示す。）
（Ｄ）ホスファゼン化合物、（Ｅ）光重合開始剤、および（Ｆ）希釈剤を含有する感光性熱硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】隔壁の耐溶剤性を損なうことなく、インクジェット法によるインク注入時のインク同士の混色が防止可能であり、画素内のインクに対する良好な濡れ性を確保することで均一なインク層が形成可能であって、かつ、得られる光学素子に十分な耐熱性を保持させることが可能であり、さらに簡素化され経済的に有利な工程で行うことが可能な光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】支持基板上に、表面に撥インク性を有する樹脂組成物からなる隔壁を形成させ、インクジェットにて該隔壁間にインクを注入して光学素子を製造する方法であって、隔壁形成後、インクジェットにてインクを注入する前と後に、それぞれインクジェット前には加熱温度１８０℃〜２１５℃で、インクジェット後には加熱温度２２０℃〜２５０℃で加熱処理を施すことにより隔壁を構成する樹脂組成物を硬化物とする光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】パターン膜を形成する現像工程において、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても平坦性、光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れた高解像度のパターン膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、下記の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）からなり、各成分の構成割合が（Ａ）１００質量部に対して（Ｂ）５〜５０質量部及び（Ｃ）１〜４０質量部に設定されている。成分（Ａ）：フマル酸ジエステル単量体から誘導される構成単位（ａ１）、芳香族ビニル単量体から誘導される構成単位（ａ２）、α，β−不飽和カルボン酸単量体から誘導される構成単位（ａ３）及び（メタ）アクリル酸エステル単量体から誘導される構成単位（ａ４）からなる共重合体。成分（Ｂ）：キノンジアジド基を有する感光剤。成分（Ｃ）：２個以上のエポキシ基を有する硬化剤。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィーで用いられる少なくとも３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、アウトガスの発生を防ぎ、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる少なくとも３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、ビスナフトール基を有する化合物を含有するレジスト下層膜材料を基板上にコーティングし、該コーティングしたレジスト下層膜材料を３００℃を超え、６００℃以下の温度で、１０秒〜６００秒間の範囲で熱処理して硬化させることを特徴とするレジスト下層膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】 凸版印刷に必要な適度なゴム硬度を有し、芳香族系溶剤、アルコール系溶剤、及び水等を使用するインキの何れに対しても耐性を有する凸版印刷版を製造するために好適な凸版製造用感光性樹脂組成物を提供する
ことを技術的課題とする。
【解決手段】不飽和ポリエステルポリオールとポリイソシアネートと活性水素を有する官能基とエチレン性不飽和結合を分子内にともに有する化合物とを反応させて得られる不飽和ポリウレタンプレポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和モノマー（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）を含有成分とし、プレポリマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）の重量比が３０〜７０／７０〜３０、酸価が５０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、感光性樹脂組成物を光重合させた硬化物が、ＪＩＳゴム硬度でショアＡ６０〜９０°且つ、２５℃のアニソールなどに２４時間浸漬したときの重量増加率が１５重量％以下であることを特徴とする凸版製造用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィーで用いられる少なくとも３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる少なくとも３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、ビスナフトール基を有する化合物を含有するレジスト下層膜材料を基板上にコーティングし、該コーティングしたレジスト下層膜材料を３００℃を超え、６００℃以下の温度で、１０秒〜６００秒間の範囲で熱処理して硬化させることを特徴とするレジスト下層膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】十分な薬品耐性を有しながら良好な剥離性をもち、かつ基材上の金属膜との間で良好な接着性を示すような樹脂パターンを得るための感光性樹脂組成物を提供すること、及びそのような樹脂パターンを使用した被エッチング基体の製造方法を提供する。
【解決手段】酸基含有アクリル系樹脂と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物との反応により生成したアルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、３官能以上の多官能モノマー（Ｂ）と、窒素含有単官能モノマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、を含有する感光性樹脂組成物を使用する。 （もっと読む）

【課題】長期保存安定性、現像速度に優れ、さらに、光照射及び／または焼成によって硬化した後の塗膜が、耐熱性、基板との密着性、硬度、耐溶剤性、耐アルカリ性、複屈折性に優れた、カラーフィルタ等を形成するための感光性組成物に好適な重合組成物を提供すること。
【解決手段】スチレンと不飽和カルボン酸含有モノマーとを反応させてなり、重量平均分子量が３００００以下で、固形分酸価が１０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、さらに、スチレン含有量が７５ｍｏｌ％以上である重合組成物。 （もっと読む）

【課題】 基板に対する密着性に優れ、高感度、高解像度のパターンを形成できる感光性樹脂として有用な共重合体を提供する。
【解決手段】 分子内に炭素炭素二重結合を複数個有するビニル単量体［（メタ）アクリル酸エステル誘導体及び（メタ）アクリル酸アミド誘導体を除く］（ビニル単量体Ａ）と、カルボキシル基又はカルボン酸無水物基を有するビニル単量体（ビニル単量体Ｂ）とを少なくとも含む単量体混合物を重合して得られる共重合体。ビニル単量体Ａには、下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ¹は水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示し、Ｘは連結基を示す。ｎは１〜３の整数を示す）で表される化合物が含まれる。 （もっと読む）

【課題】着色パターンを形成するとき、高顔料濃度であっても、形成される着色パターンの硬化性に優れ、しかも露光マスクに対する太り量が小さいカラーフィルタの着色パターン形成に有用な着色硬化性組成物を提供し、該着色硬化性組成物を用いることで、耐溶剤性が良好で、しかも輝度が高いカラーフィルタを提供し、色特性が良好で鮮明な画像の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）光重合性化合物、および、（Ｄ）下記一般式（Ｉ）で表されるオキシム系重合開始剤を含み、前記（Ａ）着色剤の含有量が着色硬化性組成物中の固形分１００部に対して質量換算で３０部〜６０部の範囲である着色硬化性組成物。
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【課題】アルカリ水溶液で現像可能であり、耐薬品性、機械特性に優れる良好な形状のパタ−ンが得られるポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、(ａ) アルカリ性水溶液に可溶なポリマーと、（ｂ）光の照射を受けて酸を発生する化合物と、（ｃ）ウレア結合を有する化合物と、（ｄ）アルカリ水溶液に対する（ａ）成分の溶解を阻害する化合物と、を含有してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザーによる画像記録が可能であり、充分な耐刷性を維持しつつ良好な汚れ性、現像性が得られる平版印刷版原版、及び平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、スルホンアミド基を有するポリマーを含有する中間層と、ラジカル重合開始剤、増感色素及び重合性化合物を含有する画像記録層とを順次積層して有することを特徴とする平版印刷版原版；支持体上に、スルホンアミド基を有するポリマーを含有する中間層と、ラジカル重合開始剤、増感色素、重合性化合物及びバインダーポリマーを含有する画像記録層とを順次積層して有する平版印刷版原版を用いた平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト組成物、該組成物を使用したフォトレジストパターンを形成する方法、パターン化樹脂組成物及びフォトリソグラフィーの形成方法を提供する
【解決手段】 エチレン性不飽和二重結合を有する重合性水溶性化合物Ａ、エポキシ基含有不飽和化合物Ｂ及び下記一般式（１）


で示される化合物Ｃを重合して得られるポリマー、並びに溶媒を含むフォトレジスト組成物であって、モノマー成分の合計量中、化合物Ａの割合が０〜９０重量％、化合物Ｂの割合が０〜５０重量％及び化合物Ｃの割合が１５〜１００重量％であるフォトレジスト組成物 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、アクティブマトリクス基板の絶縁膜としても使用できる高度の耐熱性、高熱履歴後の耐薬品性を有する永久レジストを提供できるポジ型感光性組成物並びに該ポジ型感光性組成物を用いた永久レジスト及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ポジ型感光性組成物は、（Ａ）下記一般式（１）で表される基を、１分子中に少なくとも２個有するシリコーン樹脂、（Ｂ）グリシジル基を有するシロキサン化合物、（Ｃ）ジアゾナフトキノン類及び（Ｄ）有機溶剤を含有する。永久レジストは、上記ポジ型感光性組成物を基材上に塗布し、塗布物を露光し、アルカリ現像した後に、１２０〜３５０℃の温度でポストベークして製造される。
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【課題】ポリ臭素化亜鉛フタロシアニンを含みながら、顔料分散性に優れると共に、アルカリ現像性及び形成された塗膜の耐熱性や耐溶剤性に優れるカラーフィルタ用ネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】顔料分散剤が、一般式（Ｉ）で表される窒素含有モノマーと、重合性オリゴマーとを含有するグラフト共重合体であり、さらに窒素含有モノマーが有するアミノ基と一般式（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）で表される有機酸化合物とが塩を形成したグラフト共重合体であるネガ型レジスト組成物。
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【課題】現像性に優れ、また、硬度、はんだ耐熱性、耐薬品性、密着性、ＰＣＴ耐性、無電解金めっき耐性、白化耐性、電気絶縁性、可撓性等の特性を充分に満足する優れた硬化膜が得られる光及び／又は熱硬化性組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】
本発明の硬化性組成物は、（Ａ）１分子中に２個以上のエポキシ基を有する樹脂（ａ）のエポキシ基に、エポキシ基１当量に対して、モノカルボン酸（ｂ）を０．３〜０．９モルの割合で反応させ、得られた反応生成物（ｃ）のエポキシ基に、エポキシ基１当量に対して、多塩基酸（ｄ）を０．２〜５モルの割合で反応させ、得られた反応生成物（ｅ）のエポキシ基に、エポキシ基１当量に対して、モノカルボン酸（ｆ）を０．０〜５．０モルの割合で反応させて得られる酸価１８〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇの反応生成物（ｇ）の２級のアルコール性水酸基に、さらに多塩基酸無水物（ｈ）を反応させて得られる酸価４０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇのカルボキシル基含有化合物、
（Ｂ）感光性（メタ）アクリレート化合物、及び
（Ｃ）光重合開始剤
を含有することを特徴とする。 （もっと読む）