【課題】ろ過性、線幅均一性に優れたレジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）環状アルキル構造を有する特定の繰り返し構造単位を含有する酸分解性樹脂、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）下記（ａ）群から選択される少なくとも1種の溶剤と、下記（ｂ）群〜（ｄ）群から選択される少なくとも1種の溶剤とを含む混合溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法。（ａ）群：アルキレングリコールモノアルキルエーテル、（ｂ）群：アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、（ｃ）群：直鎖状ケトン、分岐鎖状ケトン、環状ケトン、ラクトン、アルキレンカーボネート、（ｄ）群：乳酸エステル、酢酸エステル、アルコキシプロピオン酸エステル。 （もっと読む）

【課題】フィルタ面における各画素の角（カド）部の丸みが小さい矩形の正方画素を有し、正方画素の断面の角（カド）部の丸みも小さい矩形に形成されたカラーフィルタを提供する。
【解決手段】複数の受光素子を有する支持体と、前記支持体の受光素子形成面側に設けられ、顔料及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含み、波長３６５ｎｍの光の透過率が０．１％以上１０．０％以下、より好ましくは０．１％以上５．０％以下であってパターンサイズが０．５μｍ以上１．２μｍ以下である着色画素とを備えている〔Ｒ^１〜Ｒ^２：Ｈ、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基（同時にＨを表さない。Ｒ^１とＲ^２はＮと共に環状アミノ基を形成してもよい）；Ｒ^３：電子吸引基；Ｒ^４：電子吸引基〕。
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【課題】アルカリ水溶液で高い解像度を有し、２００℃以下の低温で硬化することが可能であり、硬化後のフレキシブルプリント基板との積層体の反りが小さく、折曲性に優れた感光性カバーレイを提供すること。
【解決手段】（Ａ）重量平均分子量が１０，０００以上３０，０００以下の可溶性ポリイミドを含有し、２００℃で１時間熱処理した後の引張弾性率が２．５ＧＰａ以下であり、引張伸びが５％以上であることを特徴とする感光性カバーレイ。 （もっと読む）

【課題】耐光性に優れたカラーフィルターの青色画素を提供することができ、カラーディスプレイ製造工程で要求される耐熱性をも満たす着色樹脂組成物と、この着色樹脂組成物を用いることにより、青色画素の色純度および透過率に優れたカラーフィルター、および青色純度の良い有機ＥＬディスプレイ並びに液晶表示装置を提供する。
【解決手段】（ａ）バインダー樹脂と（ｂ）溶剤と、一般式（Ｉ）で表される特定構造のトリアリールメタン系色素を含有するカラーフィルター用着色樹脂組成物、およびこれを用いてなるカラーフィルター、有機ＥＬディスプレイ並びに液晶表示装置。
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【課題】ダブルパターニングプロセスにおいて、２回目のパターニングの影響を受けにくい第一のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】ダブルパターニングプロセスにおいて、第一のレジスト膜を形成するポジ型レジスト組成物として用いられ、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、含フッ素化合物成分（Ｆ）とを含有し、当該（Ｆ）成分が、塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）のみを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）および前記構成単位（ｆ１）と側鎖に特定の基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ｆ２）とを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ２）からなる群から選択される少なくとも一種の含フッ素樹脂成分を含むポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、パターン形状に優れた微細パターンを提供することができる、感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される構造を含む繰り返し単位及び下記一般式（Ｉ）で表される構造を含む繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有してなる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式（１）及び（Ｉ）中の符号は明細書に記載の意味を表す。）
【化１】


【化２】
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【課題】マイクロブリッジ欠陥やＢＬＯＢ欠陥と呼ばれる各種現像欠陥が低減されたパターンを得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により保護基が脱離してアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）フッ素原子または珪素原子の少なくともいずれかを有する疎水性樹脂、を含有してなり、樹脂(A)が、極性基を含む保護基を有する繰り返し単位を有し、かつ、疎水性樹脂（Ｃ）が、下記(x)〜(z)の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物：(x)アルカリ可溶性基；(y)アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基；(z)酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基。 （もっと読む）

【課題】水による現像が可能な感光性平版印刷版材料の印刷時の汚れを発生させる問題を解決すること。特に、現像処理装置の現像部分において絞りロールの表面にスラッジが付着し、感光性平版印刷版材料の表面汚染に起因する印刷時の地汚れの問題を解決することを課題とする。
【解決手段】支持体上に親水性層および水により現像が可能な光硬化性感光層をこの順に設けた感光性平版印刷版材料に関して、シリコーン系微粒子とアニオン性界面活性剤を光硬化性感光層に含有する。 （もっと読む）

【課題】広い露光ラテテュード、パターン裾引き低減、良好なパターン形状、優れたドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）、(II)及び(III)により表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、及び（Ｂ）２種類以上の、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
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【課題】広い露光ラテテュード、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）、(II)及び(III)により表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および（Ｃ）２種類以上の塩基性化合物を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（Ｒ_１は水素原子又はメチル基。Ｒ_２はハロゲン原子等。ｎは０〜５の整数。）
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【課題】染料による色相、色濃度の経時変化が抑制された染料含有ネガ型硬化性組成物を提供する。
【解決手段】有機溶剤可溶性染料と、感放射線性化合物と、重合性化合物と、下記式（１）で表される化合物とを含む染料含有ネガ型硬化性組成物である。式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３は、各々独立に炭素数１〜３のアルキル基を表し、ｎは１〜１０を表す。
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【課題】 超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、およびアウトガス低減を同時に満足するポジ型レジスト組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解し、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大する構造を有する繰り返し単位（Ｂ）を有する樹脂（Ｐ）、および、製膜により膜表面に偏在し保護膜を形成する化合物（Ｕ）を含有することを特徴とする、感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの着色層を製造するに際して、乾燥工程でのモヤムラやピンムラの発生が抑制され、均一な硬化性組成物層を効率よく形成しうるカラーフィルタ用着色硬化性組成物層の形成方法、該方法により得られた着色層を有するカラーフィルタ、及び、液晶表示装置を提供する。
【解決手段】顔料、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、および溶剤を含み、固形分比率が１２質量％以上１６質量％以下である硬化性組成物を、基板上にスリットコーターを用いて、乾燥後の膜厚が２．４μｍ以上３．５μｍ以下となるように塗設して硬化性組成物塗布層を形成する塗布工程、及び、塗布後の硬化性組成物塗布層を備えた基板を、真空乾燥装置を用いて、真空乾燥開始から２０秒後の到達真空度が１０００Ｐａ以下となる条件で乾燥して硬化性組成物層を形成する乾燥工程を有するカラーフィルタ用着色硬化性組成物層の形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＵＶ照射、熱履歴による白色塗膜の変色及び反射率の低下が少なく、かつ、低露光量でパターン形成可能な液状樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、（Ａ）１分子中に少なくとも２個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂、（Ｂ） 酸化防止剤、（Ｃ） 光重合開始剤、（Ｄ） 希釈剤、（Ｅ） 酸化チタン、および（Ｆ） エポキシ系熱硬化性化合物を含有する。 （もっと読む）

【解決手段】ヒドロキシナフチル基及び／又はヒドロキシアセナフチレンを有する繰り返し単位と酸によりアルカリ溶解性が向上する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含む第１のポジ型レジスト材料で基板上に第１のレジスト膜を形成し、加熱処理後に上記レジスト膜を露光、現像し、その後高エネルギー線照射により第１のレジスト膜を架橋硬化させ、その上に第２のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第２のレジスト膜を形成し、加熱処理後に高エネルギー線で上記第２のレジスト膜を露光、現像する工程を有するパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１のポジ型レジスト材料を用い第１パターンを形成後、波長２００nmを超え３２０nm以下の高エネルギー線による架橋反応によりアルカリ現像液とレジスト溶液に不溶化する。その上に第２のレジスト材料で第２パターンを形成することでパターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行える。 （もっと読む）

【課題】酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】イミノスルホネート系感放射線性酸発生剤、及び式（１）に示す構成単位を有する重合体、を含有する組成物。この組成物を用いてなる酸転写樹脂膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、上記酸転写樹脂膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。
【化１】
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【課題】 超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィにおいて、現像前のレジスト表面が親水性と疎水性の凸凹構造を持つことによる撥水化を抑制し、ムラなく均一に現像が進行するようにすることで、抜け性の向上による高解像性とアウトガス低減を同時に実現するパターン形成を可能とするリソグラフィ用基板被覆方法、及びその方法に用い得るポジ型レジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 リソグラフィプロセスにおいて基板上に膜を被覆する工程と、該膜上にトップコート層を設ける工程を含むリソグラフィ用基板被覆方法であって、前記膜が、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いて形成されることを特徴とする、リソグラフィ用基板被覆方法。 （もっと読む）

【課題】パターン加工時において、Ｓｉ原子を有しない無機物で構成される基板表面や素子表面との現像時接着性に優れたネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基および／またはフェノール性水酸基と、エチレン性不飽和二重結合基を有する重合体、
（Ｂ）光ラジカル重合開始剤、および
（Ｃ）水酸基を有する不飽和カルボン酸エステル残基を１分子中に３個以上有する化合物
を含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィにおいて、現像前のレジスト表面が親水性と疎水性の凸凹構造を持つことによる撥水化を抑制し、ムラなく均一に現像が進行するようにすることで、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを与え、かつアウトガス低減を同時に実現するパターン形成を可能とするリソグラフィ用基板被覆方法、およびこれに好適な感活性光線または感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に膜を被覆する工程と、該膜上に、トップコート組成物を用いてトップコート層を形成する工程を含むリソグラフィ用基板被覆方法であって、前記感活性光線または感放射線性樹脂組成物として、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物を、該組成物中の全固形分に対し少なくとも１０質量％含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いることを特徴とするリソグラフィ用基板被覆方法。 （もっと読む）

【課題】波長３６５ｎｍや４０５ｎｍの光に対する感度が高く、経時安定性に優れ、現像性が良好な感光性組成物、およびカラーフィルタ用着色感光性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物、（Ｂ）バインダー樹脂、および（Ｃ）光重合開始系を含み、該（Ｃ）光重合開始系が、（Ｃ−１）オキシムエステル化合物と、（Ｃ−２）増感剤と、（Ｃ−３）下記一般式（１）〜（４）から選ばれた少なくとも１種以上の化合物とを含有する感光性組成物。
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