【課題】ウエハを一括してモールド（ウエハモールド）することができ、特に、大口径、薄膜ウエハに対して良好なモールド性を有し、同時に、モールド後において低反り性及び良好なウエハ保護性能を与え、更に、モールド工程を良好に行うことができ、ウエハレベルパッケージに好適に用いることができる樹脂組成物及び樹脂フィルムを提供する。
【解決手段】下記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分を含有する樹脂組成物。（Ａ）-Ｓｉ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ−Ｓｉ-Ｘ−で表される繰返し単位を含有し、テトラヒドロフランを溶出溶媒としてＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が３，０００〜５００，０００であるシリコーン樹脂。［ここでＸは２価の基である]（Ｂ）熱硬化性樹脂、（Ｃ）フィラー。
【効果】樹脂組成物は、フィルム状に加工することが可能であるため、大口径、薄膜ウエハに対して良好なモールド性能を有するものとなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、小型薄型化のプリント配線板に用いられる材料であって、低熱線膨性、めっき密着性に優れ、微細配線に対応し高度な電気的信頼性を有するエポキシ樹脂組成物を提供するものである。また当該エポキシ樹脂組成物を用いた電気的信頼性に優れるプリプレグ、積層板、プリント配線板、及び半導体装置を提供するものである。
【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）無機充填材、および（Ｃ）トリアジンチオール基を有するシロキサン化合物を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低屈折率である組成物を供給すると伴に、常温・常圧にて低屈折率膜を形成でき、充分な機械強度を有する低屈折率膜及び反射防止膜を提供する。
【解決手段】ボラジン系ポリマー又はボラジン珪素系ポリマーを主成分として構成された膜中に微細細孔を形成又は膜の表面に微細な凹凸が形成する事により上記課題を解決した低屈折率組成物が提供可能となる。また、常温・常圧にて低屈折率膜が形成可能であり、透明基板上に形成する事で充分な機械強度を有する反射防止膜が提供可能となる。 （もっと読む）

【課題】反射防止効果が高く、耐酸素アッシング性に優れるシリコン含有膜を形成することができ、且つボトムに裾引きがないレジストパターンを安定して形成できるシリコン含有膜形成用組成物等を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン含有膜形成用組成物は、下式（１）で表される化合物由来の構造単位（ａ１）を含有するポリシロキサンと、有機溶媒と、を含有する。


〔式中、Ｒ^１は、ｂ価の置換されてもよい芳香族炭化水素基又は置換されてもよい複素環基を表し、Ｒ^２及びＲ^３は各々独立して１価の有機基を表す。ａは０〜１の数であり、ｂは２又は３である。Ｘ^１は、単結合、置換されてもよいメチレン基、炭素数２〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基又はフェニレン基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】透明導電膜や無機膜との密着性に優れ、さらに低露光量であっても耐溶剤性に優れた着色層を形成することができる新規な着色組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）バインダー樹脂、および（Ｃ）重合可能な基を有するポリカルボシランを含有することを特徴とする着色組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れ、且つ有機溶媒に可溶で、加工性、機械強度、基板密着性に優れ、絶縁材料、半導体用低誘電率材料、気体分離膜、電子デバイス封止剤、建設用シーリング材料などに用いることが可能な含珪素化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で示される可溶性低誘電率含珪素化合物。またはその可溶性低誘電率含珪素共重合体。さらに、これらを含んでなる低誘電率層間絶縁膜。
（もっと読む）

【課題】半導体装置に用いる低誘電率のシリカ系被膜形成用塗布液を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）


（ただし、式中、Ｒ¹は炭素数１〜６のアルキル基、アリール基またはフルオロアルキル基、Ｒ²はアルキレン基またはアリーレン基を示し、Ｘはハロゲンまたはアルコキシ基であり、ｎは０〜２の整数を示す）で表せられるシラン化合物を加水分解縮重合させてなるポリシロキサン樹脂を含有するシリカ系被膜２形成用塗布液を基板１上に塗布し、５０〜２５０℃で乾燥した後、窒素雰囲気下２００〜６００℃で加熱硬化する。 （もっと読む）

【解決手段】分子内に２つ以上のＳｉ−Ｈ基を持つケイ素化合物を原料とし、該水素原子を脱水素することで得られた、主鎖中にＳｉ−Ｓｉ結合を有する高分子化合物。
【効果】本発明によれば、フォトレジスト材料、プレセラミックス材料、あるいは導電性材料用の素材などとして有用なＳｉ−Ｓｉ結合を主鎖中に有する高分子化合物を工業的有利に効率よく製造することができる。 （もっと読む）

【課題】 発光特性に優れたエレクトロルミネッセンス材料として使用できる新規な化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示されるケイ素−ビフェニレン交互重合体および該ケイ素−ビフェニレン交互重合体よりなるエレクトロルミネッセンス材料。
【化１】


（式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、アリール基及びヘテロアリール基から成る群より選ばれる基であり、
Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ビニル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基及びヘテロアリール基から成る群より選ばれる基である。） （もっと読む）

【課題】高硬度で、耐クラック性、耐熱性に優れた硬化物を与える硬化性シリコーン材料、光学素子等の光学デバイス用封止材料、その他の半導体素子等の電子デバイス用封止材料、電気絶縁性コーティング材料の原料として有用なケイ素原子に結合した水素原子を有する多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】(a)ケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に２個有する有機ケイ素化合物と、(b)ヒドロシリル化反応性炭素−炭素二重結合を１分子中に２個有する多環式炭化水素化合物と、の付加反応生成物であって、かつ、ケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に２個有する多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物、および、上記(a)成分と上記(b)成分とをヒドロシリル化反応触媒の存在下で付加反応させることを含む上記多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＬＳＩチップのバッファコート材料や再配線層として好適な、キュア前後での膜減りが少なく、２．７以下という低誘電率で、製膜に適した粘度で、通常の光重合開始剤を用いても空気中で硬化可能な感光性シリコーン化合物を含む樹脂組成物、並びにそれを用いた樹脂絶縁膜を提供すること。
【解決手段】特定の構造を有する感光性シリコーン化合物１００質量部、及び光重合開始剤０．１〜２０質量部を含有する感光性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）の繰り返し単位を有するＭｗが３，０００〜５００，０００のシルフェニレン骨格含有高分子化合物。


［Ｒ¹〜Ｒ⁴は１価炭化水素基を示す。ｍは１〜１００、ａは正数、ｂは０又は正数、０．５≦ａ／（ａ＋ｂ）≦１．０、Ｘは脂肪族又は脂環族連結ジフェノール含有の二価の有機基。］
【効果】高分子化合物を使用することにより幅広い波長領域の光で１μｍに満たない薄膜から２０μｍを超えるような厚膜での幅広い膜厚に亘り、微細なパターン形成を行うことができる光硬化性樹脂組成物を製造することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】光半導体用接着剤などに用いられるイソシアヌル環含有重合体およびそれを含む組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）


ここで、Ｒ_１は１価の有機基であり、Ｒ_２は２価の有機基である、
で表される繰り返し単位を有しそして重量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００のイソシアヌル環含有重合体。 （もっと読む）

【課題】導電性が高く、かつ溶媒への溶解性を有するシリコン含有導電性高分子材料およびその製造方法ならびに導電性膜を提供する。
【解決手段】Ｓｉ−Ｓｉ結合を有する複数の鎖状分子が、当該各鎖状分子中のＳｉ原子間でフェニレン基によって架橋されてなることを特徴とするシリコン含有導電性高分子材料である。また、側鎖としてフェニル基を有するポリシラン化合物を含む溶液１１に、光を照射することで、上記シリコン含有導電性高分子材料を製造する方法である。さらに、上記シリコン含有導電性高分子材料によって構成された導電性膜である。 （もっと読む）

【課題】 特に短波長領域（青色域及び紫外域）における発光輝度が高い電界発光素子を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）：
【化１】


［式中、Ｘは蛍光又は燐光を示す有機分子を示し、Ｒ^１は低級アルコキシ基、ヒドロキシル基、アリル基、エステル基及びハロゲン原子からなる群から選択される少なくとも一つを示し、Ｒ^２は低級アルキル基及び水素原子からなる群から選択される少なくとも一つを示し、ｎは１〜３の整数を示し、ｍは１〜４の整数を示す。］
で表される有機ケイ素化合物の重合体からなる発光材料を含有する発光層と、前記発光層に電圧を印加するための陽極及び陰極とを備えることを特徴とする電界発光素子。 （もっと読む）

【課題】 ドライエッチング選択比と低誘電率とを両立したエッチングストッパー層を形成するための組成物、およびそれを用いた半導体装置の製造法の提供。
【解決手段】 ケイ素含有ポリマーを含んでなるエッチングストッパー層形成用組成物であって、組成物に含有されるケイ素含有ポリマーがジシリルベンゼン構造を含んでいるエッチングストッパー層形成用組成物、およびそれを用いてエッチングストッパー層を形成させる半導体装置の製造法。 （もっと読む）

【課題】耐エッチング特性、短波長光に対する反射防止能（短波長光の吸収能）、低温硬化性を改善した中間層形成用組成物を提供する。
【解決手段】中間層形成用組成物を、
下記一般式（1）


（式中、Ｒ₁、Ｒ₂の少なくとも一方が架橋性基であり、ｍおよびｎはそれぞれ０〜２０の整数であり、ｌは繰り返し単位数を表す整数である。）で表される繰り返し単位を有するシリルフェニレン系ポリマー（Ａ）と、溶剤（Ｃ）と、を含有させて構成する。 （もっと読む）

陰極と陽極との間に有機層を少なくとも１層有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記有機層の少なくとも１層に下記一般式（１）で表される繰り返し単位を少なくとも一つ含む重合体を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。一般式（１）〔式中、Ａｒ１は置換基を有していてもよいアリーレン基又はヘテロアリーレン基を表し、ｎ１は２以上の整数を表し、Ｌ１は２価の連結基を表す。〕
（もっと読む）

次の構造的特徴：１つより多くの繰り返し単位；少なくとも４つのＳｉ−アリーレン結合；少なくとも１つの（メタ）アクリレート部分、Ｓｉ−Ｈ部分、もしくは両方；０個のＳｉ−Ｏ結合；および、好ましくは少なくとも４つのケイ素原子を有し、各繰り返し単位で２つのケイ素原子が１つのアリーレン基によって分離されているカルボシラン含有ポリマー（オリゴマーを含む）。 （もっと読む）