【課題】 本願発明の目的は、鎖状及び／又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と炭素−炭素二重結合とエポキシ基を有する化合物とをヒドロシリル化反応させた後、ゲル化させずに反応液中の未反応化合物及び溶剤を減圧下で留去させる方法を提供する。
【解決手段】
（Ａ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する鎖状及び／又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、（Ｂ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合とエポキシ基を１分子中に少なくとも各１個含有する有機化合物とを、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させてエポキシ基含有オルガノシロキサン化合物を製造する方法において、前記化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）の反応終了後、前記反応液に（Ｄ）リン含有化合物を添加し、減圧下で未反応化合物及び溶剤を除去することを特徴とする、エポキシ基含有オルガノシロキサン化合物の製造方法。 （もっと読む）

本発明のシリコーン離型組成物は、剥離力を調節することができるシリコーン水分散離型組成物であって、オルガノポリシロキサン、オルガノポリシロキサン樹脂、オルガノハイドロジェンポリシロキサン、及び白金キレート触媒を含み、剥離力（Ｐｅｅｌｉｎｇ Ｆｏｒｃｅ）に関する下記数式１を満たすことを特徴とする。本発明によれば、所望の数値の再現性のある所定の剥離力を得ることができ、有害な有機溶剤を排出することがない均一なコーティングの離型フィルムを製造することができ、またこのように製造されたシリコーン離型フィルムは、粘着剤と適合する安定した剥離力特性を有する。
Ｐｅｅｌｉｎｇ Ｆｏｒｃｅ＝ａＸ＋ｂ・・・数式（１）
式中、ａ＝６１．６２±３．９８、ｂ＝１６．４３±３．０１、Ｘ＝離型コーティング組成物中のオルガノポリシロキサン樹脂の含有量（％）。 （もっと読む）

【課題】 アルケニル基含有ＭＱレジンに比べ安価なＭＱレジンとＶＦオイルをあらかじめアルカリ触媒で反応させたシリコーンを重剥離成分が少量の使用で高い重剥離化効果を有し、経時での剥離力の低下が少ない無溶剤型剥離紙用シリコーン組成物を提供する。
【解決手段】 Ｒ^１_３ＳｉＯ_１／２単位、ＳｉＯ_４／２単位、（ＨＯ）ＳｉＯ_３／２単位からなるＯＨ基含有が、０．０２〜０．１ｍｏｌ／１００ｇであるオルガノポリシロキサンと、末端のみにアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサンを、有機溶媒中でアルカリ触媒を使用し部分縮合反応を行った後、有機溶媒を除去して得られた残存するＯＨ基が０．０２ｍｏｌ／１００ｇ未満のオルガノポリシロキサンを主成分とする剥離コントロール剤及びそれを含む無溶剤型剥離紙用シリコーン組成物。 （もっと読む）

【課題】 低誘電率で機械的強度の高い絶縁膜を形成可能な組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも２つ以上のアセチレン基を持つ下記一般式（３）で表される化合物（Ａ）と、少なくとも２つ以上のヒドロシリル基をもつポリシロキサン（Ｂ）とをヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とするポリマー。
【化１】


一般式（３）中、
Ｒ^４は、炭素原子１０個以上で形成されるカゴ型構造を含有する基を表す。
Ｒ^５は各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはシリル基を表す。
ｒは２〜２０の整数を表す。 （もっと読む）

【解決手段】下記式（１）で示される環状カーボネート変性シロキサン。Ｒ¹_aＡ_bＳｉＯ_(4-a-b)/2（１）（式中、Ｒ¹は水酸基、及びハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ置換アルキル基、カルボキシル置換アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基から選択される同一もしくは異種の一価の基であって、Ａは下記一般式（２）で示される環状カーボネート基。ａ、ｂは、それぞれ１．０≦ａ≦２．５、０．００１≦ｂ≦１．５の正数、ａ＋ｂは、１．００１≦ａ＋ｂ≦３。）


【効果】環状カーボネート変性シロキサンを含有する非水電解液を使用した電池は優れた温度特性及びサイクル特性を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、面状が良好なシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた膜を形成できる組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ケイ素含有化合物の加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれか、有機溶媒、ＳＰ値１２以上の溶媒を含有する膜形成用組成物であって、ＳＰ値１２以上の溶媒の量が該膜形成用組成物中０．１質量％以上２０質量％未満の範囲であることを特徴とする膜形成用組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】被覆時、加熱等して硬化時にクラックがはいらず、真空紫外光領域〜近赤外光領域で光透過率が優れたシリカ系ガラスとなるハイドロジェンポリシロキサン等を提供する。
【解決手段】環状ジハイドロジェンポリシロキサン、特定のシロキサン単位式等を有するハイドロジェンポリシロキサン、加水分解縮合によるそれらの製造方法、これらポリシロキサンを型内で硬化させることによる１７０ｎｍ以上の真空紫外光領域〜紫外光領域で光透過率９０〜１００％であり可視光領域〜１７００ｎｍ以下の近赤外光領域で光透過率９８〜１００％であるシリカ系ガラス成形体の製造方法、該シリカ系ガラス成形体、該シリカ系ガラスからなる光学素子、これらポリシロキサンを光学部材に被覆し硬化させることによる該シリカ系ガラス膜層を有する光学素子の製造方法、該シリカ系ガラス膜層を有する光学素子。 （もっと読む）

【課題】 均一に塗膜形成可能な組成物、良好な面状を有し、低誘電率である絶縁膜および該絶縁膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式（１）により表される化合物、その加水分解物、及び／または、それらの縮合物、及び、溶媒を含有し、全溶媒中、沸点が８５℃〜２５０℃の有機溶剤が２５質量％以上占めることを特徴とする絶縁膜形成用組成物、該組成物を用いた絶縁膜の製造方法及び該絶縁膜。
【化１】


式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は、各々独立に、水素原子または置換基である。ただし、Ｒ₁及びＲ₂のうち少なくとも１つは加水分解性基を表す。Ｘ₁は炭素原子またはケイ素原子を表す。Ｌ₁は２価の連結基を表す。ｍは０または１を表し、ｍが０の場合ｎは３〜５の整数を表し、ｍが１の場合ｎは２〜３の整数を表す。 （もっと読む）

（Ａ）少なくとも一つの脂肪族不飽和を有する化合物；（Ｂ）メチル水素シクロシロキサンと、脂肪族不飽和、ヒドロキシ官能性、またはこれらの混合物を含む反応物との白金触媒カップリング反応によって調製される、ケイ素が結合した水素原子（ＳｉＨ）を一分子あたり少なくとも一つ含む環状有機水素ケイ素架橋化合物；（Ｂ１）ケイ素が結合した水素原子を一分子あたり少なくとも一つ含む直鎖状または分枝状の非環式有機水素ケイ素架橋化合物；を含む組成物。前記組成物は、（Ｃ）白金族金属含有触媒を加えることによって剥離被覆組成物の調製に使用することができる。成分（Ｂ）及び（Ｂ１）を含む剥離被覆組成物は成分（Ｂ）のみを含む剥離被覆組成物よりも優れた硬化、より優れた接着、及びより低い剥離力を有する。 （もっと読む）

【課題】オルガノシロキサンが結合したイミドを高純度、高収率で製造する方法の提供。
【解決手段】トリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンと、ジカルボン酸無水物とを反応させることにより、アミド酸トリオルガノシリルエステルを得た後、脱トリオルガノシラノール反応により、閉環イミド化させる、式（５）のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法。


（Ａ¹はＣ１〜２０の二価有機基、Ａ²はＣ２〜４０の二価有機基。Ｓｘはケイ素数２〜２，０００のオルガノシロキサニル基を表す。αは該オルガノシロキサニル基の価数を表し、１〜１００の整数。） （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適し、均一な厚さに形成可能で、しかも誘電率特性、膜強度に優れた絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】式（I）で表される化合物、および、ビニル基またはエチニル基を分子内に計２個以上有する化合物、または、それらの重合物を含む膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法。


式（I）中、Ｒ¹，Ｒ²はそれぞれ独立にＨまたは置換基、複数個のＲ¹，Ｒ²両者の置換基のうち１つは（Ｒ³）₃−Ｓｉ−Ｏ−で表される基。ｍは４〜３０を表す。Ｒ³はＨまたは置換基。複数個のＲ¹〜Ｒ³のうち、少なくとも２つはＨを表す。Ｒ¹〜Ｒ³は水酸基および加水分解性基を表さない。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示されることを特徴とする環状シロキサン化合物。


（式中、Ｘは脂肪族不飽和結合を含有した有機基であり、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基である。）
【効果】本発明の新規な環状シロキサン化合物は、シリコーンオイルやシリコーンゴムの原料として用いられることにより、それらに更なる特性向上や新規な物性付与をもたらす改質剤として有用である。又は、重合性のモノマー原料として用いられることにより、各種ポリマーの性能の向上をもたらしたり、新規な物性のポリマーが得られる等として有用である。 （もっと読む）

【課題】 半導体素子などに用いられる層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能であり、かつ誘電率特性、膜強度に優れた膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される化合物またはその重合物を含む膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法
【化１】


一般式（I）中、
Ｒ¹およびＲ²は各々独立に水素原子または置換基を表し、複数個存在するＲ¹およびＲ²のうち少なくとも１つは一般式（II）で表される基を表す。
ｍは４〜３０の整数を表す。
（Ｒ³）₃−Ｓｉ−Ｏ− (II)
一般式（II）中、Ｒ³は水素原子または置換基を表す。
複数個存在するＲ¹〜Ｒ³のうち、少なくとも１つは重合性基を表す。
ただし、Ｒ¹〜Ｒ³は水酸基および加水分解性基を表さない。 （もっと読む）

【課題】 低屈折率であるとともに優れた靭性及び撥水性を有し、反射防止膜に好適なシリカエアロゲル膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシランの加水分解重合により得られた湿潤ゲルを有機修飾剤と反応させて有機修飾シリカとし、それを超音波処理により分散させて有機修飾シリカ分散液を生成し、それに紫外線硬化性樹脂及び光重合開始剤を添加して塗工液を調製し、基材に塗工した後紫外線を照射することによりシリカエアロゲル膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】実質的な硬化性低下を伴なうことなく、硬化物の非着色性を改善できる硬化性組成物を提供する
【解決手段】 ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物（Ａ）、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物（Ｂ）、ヒドロシリル化触媒（Ｃ）含有する硬化性組成物に、特定の亜リン酸系化合物（Ｄ）を含有させる。 （もっと読む）

【課題】 ＳｉＨ基を有するポリオルガノシロキサン原料のリサイクルを必要とせずに、ゲル化することなく、低粘度の、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】 １分子中に少なくとも３個のＳｉＨ基を有する鎖状及び／又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に１個含有する化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させた後、さらに得られた反応物と、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させる。 （もっと読む）

【課題】 ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に１個含有する有機化合物と、１分子中に少なくとも３個のＳｉＨ基を有する環状ポリオルガノシロキサンを、ヒドロシリル化反応することによって得られるＳｉＨ基含有化合物を含む硬化性組成物を硬化した成形体は、耐熱クラック性及び耐熱耐光性が不十分な場合がある。
【解決手段】 １分子中に少なくとも３個のＳｉＨ基を有する環状ポリオルガノシロキサン（β１）と、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物（α１）を、ヒドロシリル化触媒（Ｃ）の存在下で反応させた後に、未反応の（β１）を除去し、さらに得られた反応物と、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に１個含有する有機化合物（α２）を、ヒドロシリル化触媒（Ｃ）の存在下で反応させることにより得られる、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物（Ｂ）を用いる。 （もっと読む）

直鎖ヒドロキシ末端化直鎖ポリ有機シロキサン、直鎖クロロ末端化ポリ有機シロキサン、およびこれらの混合物が、該直鎖ポリ有機シロキサンを、式Ｒ’_２ＳｉＣｌ_２を持っているジ有機ジクロロシラン（式中、Ｒ’が、１〜８炭素原子を含有しているアルキル基である）と、塩酸触媒存在下に接触させることによる方法において再分布され、環状ポリ有機シロキサンとクロロ末端化ポリ有機シロキサンとを含有している再分布された混合物を形成させる。本方法は、アルミナ触媒を利用する方法よりも、少ない望まれない分岐シロキサン種しか発生させない。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物、その加水分解物またはそれらの縮合
物を含む組成物。
【化１】


式中、Ｒ¹は水素原子または置換基である。Ｒ²は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アリールカルボニル基、４級アンモニウム原子を有する基または金属原子である。ｍは６〜３０の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物、その加水分解物、またはそれらの縮合物を含む組成物。


式中、Ｒ¹は水素原子または置換基である。Ｒ²は水素原子、あるいは水酸基または加水分解性基を有するシリル基であり、かつ分子中少なくとも１つは水酸基または加水分解性基を有するシリル基である。ｍは５〜３０の整数。 （もっと読む）