本発明の主題は、第１工程で一般式Ｉのアルキルトリアルコキシシラン１００質量部を、一般式ＩＩのアルキルアルコキシシラン０〜５質量部、水４００〜２５００質量部及び乳化剤５〜５０質量部と１０〜１００℃で混合し、その際にアルコールが生じ、第２工程で、前記第１工程で生じたアルコールを最大で０．５質量％のアルコールの全含有量にまで蒸留により除去する方法により製造可能なシリコーン樹脂エマルション（ＳＥ）である（その際、一般式Ｉのアルキルトリアルコキシシラン及び一般式ＩＩのアルキルアルコキシシランは請求項１に記載されている）。本発明の主題は、石膏を、一般式ＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、ＶＩ及びＶＩＩの単位から構成されたＨ−シロキサン及びシリコーン樹脂エマルション（ＳＥ）で処理する石膏を疎水化する方法でもある（その際、一般式ＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、ＶＩ及びＶＩＩの単位は請求項４に記載されている）。 （もっと読む）

【課題】高価な原料を用いることなく簡便な方法で、窒素雰囲気下、１，０００℃における加熱重量損失率が５％以下であり、極めて高い耐熱性を有する硬化物が得られる、新規なケイ素含有高分子化合物、そのヒドロシリル化重合体、その重合体を含有する耐熱性樹脂組成物及び耐熱性皮膜を提供することにある。
【解決手段】本発明のケイ素含有高分子化合物は、下記一般式（５）で表され、重量平均分子量が５００〜５００，０００である。
【化１】



〔式中、Ａ^２は炭素−炭素不飽和基を有する炭素数２〜１０の有機基、Ｒ^３は炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数６〜２０の２価の芳香族基もしくは炭素数３〜２０の２価の脂環式基、ｎは０又は１、Ｒ^４はＨ原子もしくは炭素数１〜１０のアルキル基（１分子中のＲ^４は同種でも２種以上の異種の組み合わせあってもよい。）、ｘ，ｙは正の数であり、ｗ，ｚは０又は正の数であって、０≦ｚ／（ｗ＋ｘ＋ｙ）≦２且つ０．０１≦ｙ／（ｗ＋ｘ）≦５である。〕 （もっと読む）

【課題】 透明性に優れた硬化物の製造方法および硬化物を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物、（Ｂ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、を必須成分として含有する硬化性組成物であって、前記（Ａ）成分がイソシアヌレート環状を有する有機化合物であり、前記（Ｂ）成分が、（α）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に１個以上含有する有機化合物と、（β）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する直鎖状のポリオルガノシロキサンとをヒドロシリル化反応して得ることができる化合物である両末端にＳｉＨ基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンである硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】水蒸気中における焼成工程での収縮が小さく、シリカ被膜の亀裂や半導体基板との剥離が発生しにくい絶縁膜形成用塗布液、それを用いた絶縁膜およびそれに用いる化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、ＳｉＨ_３基に由来する４．３〜４．５ｐｐｍのピーク面積に対する、ＳｉＨ_１基とＳｉＨ_２基とに由来する４．５〜５．３ｐｐｍのピーク面積の比が、４．２〜５０である無機ポリシラザンと、有機溶媒とを有する絶縁膜形成用塗布液である。絶縁膜は、上記絶縁膜形成用塗布液を用いて得る。無機ポリシラザンは、ジハロシラン化合物、トリハロシラン化合物、又はこれらの混合物と塩基とを反応させてアダクツを形成した後、アダクツの溶液または分散液にアンモニアを−５０〜−１℃にて反応させることにより得る。 （もっと読む）

【課題】硬化性シルセスキオキサン樹脂をマトリックスとし、ガラス繊維を配合した透明複合材に関し、詳細には、透明性、機械強度、耐候性にすぐれた透明複合材、及びそれを用いた太陽電池や表示素子を提供する。
【解決手段】エポキシ基、３，４−エポキシシクロヘキシル基及びオキセタニル基からなる群から選択される少なくとも１種の環状エーテル基を有する重量平均分子量１５００〜３００００のシルセスキオキサンと、重合開始剤又は硬化剤と、前記シルセスキオキサン１００重量部に対して平均粒子径１〜１００ｎｍの金属酸化物微粒子０．１〜１００重量部とから実質的になる硬化性樹脂組成物と、前記硬化性樹脂組成物１００重量部に対して１０〜３００重量部のガラス繊維とからなる透明複合材。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクの基板に形成されたナノオーダーのパターンを埋め込み乃至平坦化し、非磁性体として用いられるポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】フェニルシルセスキオキサンを含むハードディスク用被膜形成組成物。フェニルシルセスキオキサンが下記式（１）：


（式中Ｒ^１はアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基である。Ｒ^２は炭素数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基、又はフェニル基である。）で示される加水分解性シランの加水分解縮合物である。 （もっと読む）

【課題】新規な有機化層状ポリシランを提供する。
【解決手段】本発明の有機化層状ポリシランは、ケイ素原子で構成された六員環が複数連なった構造を基本骨格とする有機化層状ポリシランである。この六員環を構成するケイ素原子（Ｓｉ）には、炭化水素基Ｒが結合したケイ素原子と水素原子（Ｈ）が結合したケイ素原子とが混在している。本発明の有機化層状ポリシランは、半導体、電気電子等の各分野への応用が可能である。また、六員環を構成するケイ素原子の中に炭化水素基と結合しているものを含むため、その割合によって、従来にない機能を発揮し得る。例えば、炭化水素基によって層間間隔が比較的広く維持され、蓄電デバイス用電極として用いた場合、多量のリチウムイオンを取り込むことができる。さらに、六員環を構成するケイ素原子の中に水素原子と結合しているものを含むため、絶縁性を軽減することができる。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）
Ｘ_m（Ｒ²）_nＳｉ（ＯＲ¹）_(4-m-n)・・・（１）
（ＸはＣ_6-18の１価炭化水素基、Ｒ¹、Ｒ²は１価炭化水素基、ｍは１又は２、ｎは０又は１、ｍ＋ｎは１又は２）
で表される有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を含む有機ケイ素化合物原料を、加水分解、重縮合することによって得られる環状体オルガノポリシロキサンとリニア体オルガノポリシロキサンを含有するオルガノポリシロキサンであって、ケイ素核磁気共鳴スペクトル分析における式（１）で表される化合物由来のピークのアルコキシ基が２つ加水分解縮合し、シロキサン単位となった成分（Ｔ２）において、環状体成分を表すピーク成分（Ｔ２ａ）とリニア体成分を表すピーク成分（Ｔ２ｂ）との比率（Ｔ２ａ／Ｔ２ｂ）が０．９以上であるオルガノポリシロキサン、
揮発性の有機溶剤
を含有する撥水剤組成物。
【効果】本発明は撥水性及び撥水接続性に優れたものである。 （もっと読む）

【課題】モノマー含有量及び高分子量体も少なく、分子量分布がシャープであり、環状体ポリシロキサン成分の多いオルガノポリシロキサン及びその製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）ＸＳｉ（ＯＲ¹）₃・・・（１）（Ｘは官能基を含んでいてもよい１価炭化水素基、Ｒ¹は１価炭化水素基）で表される有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を含む有機ケイ素化合物原料を加水分解、重縮合することによって得られるオルガノポリシロキサンであって、Ｍｗ／Ｍｎが１．２以下であり、ケイ素核磁気共鳴スペクトル分析における式（１）で表される化合物由来のピークのアルコキシ基が２つ加水分解縮合し、シロキサン単位となった成分（Ｔ２）において、環状体成分を表すピーク成分（Ｔ２ａ）とリニア体成分を表すピーク成分（Ｔ２ｂ）との比率（Ｔ２ａ／Ｔ２ｂ）が０．９以上であるオルガノポリシロキサン。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高透明性、耐クラック性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた膜の形成に有用なポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】特定の四官能のシルセスキオキサン化合物（Ａ）、アルコキシル基数が異なる複数種のアルコキシシラン化合物によるシロキサンポリマー（Ｂ）、１，２−キノンジアジド化合物（Ｃ）、及び溶剤（Ｄ）を含有するポジ型感光性組成物を提供する。 （もっと読む）

シルセスキオキサン樹脂をパターン形成フォトレジストの上に塗布し、硬化して、パターン表面の上に硬化シルセスキオキサン樹脂を生成する。その後、塩基水溶液の揮散剤又はＣＦ_４を含有する反応性イオンエッチング法を用い、シリコン樹脂をフォトレジスト材料の上面まで「エッチングバック」し、フォトレジストの上面全体を露出する。次に、Ｏ_２を含有する第２反応性イオンエッチング法を用い、フォトレジストをエッチング除去する。結果、フォトレジスト中にパターン形成したポストのサイズ及び形状のビアホールを有するシリコン樹脂膜が得られる。任意で、新規パターンを下層へ転写することができる。
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シルセスキオキサン樹脂をパターン形成フォトレジストの上に塗布し、硬化して、パターン表面の上に硬化シルセスキオキサン樹脂を生成する。その後、ＣＦ_４を含有する反応性イオンエッチングレシピを用い、シリコン樹脂をフォトレジスト材料の上面まで「エッチングバック」し、有機系フォトレジストの上面全体を露出する。その後、Ｏ_２を含有する第２反応性イオンエッチングレシピを用い、有機フォトレジストをエッチング除去する。結果、フォトレジスト中にパターン形成したポストのサイズ及び形状のビアホールを有するシリコン樹脂膜が得られる。任意で、新規パターンを下層へ転写することができる。
（もっと読む）

【課題】光透過性と表面保護、防汚染性、耐候性等を同時に満足するガラス用コーティング剤を提供すること。
【解決手段】中和された酸基を有する重合体セグメント（Ａ）と、ポリシロキサンセグメント（Ｂ）とが化学結合してなる複合樹脂（ＡＢ）のポリシロキサンセグメント（Ｂ）と、アルキル基の炭素数が１〜３のアルキルトリアルコキシシランの縮合物（ｃ）由来のポリシロキサンセグメント（Ｃ）とが珪素−酸素結合を介して結合している複合樹脂（ＡＢＣ）が水性媒体中に溶解又は分散してなる複合樹脂（ＡＢＣ）の水性化物、及び、前記複合樹脂（ＡＢＣ）の硬化剤（Ｄ）を含有することを特徴とするガラス板用水性コーティング剤。 （もっと読む）

【課題】上記事情から、本発明の目的は、光硬化性を有し、かつ耐熱透明性に優れた硬化物を与える硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】 必須成分として（Ａ）アルケニル基を有する化合物、（Ｂ）ＳｉＨ基を有し、かつ、下記式（Ｘ１）〜（Ｘ３）で表される各構造と、フェノール性水酸基と、カルボキシル基とからなる群から選ばれる少なくとも一種を同一分子内に有する変性ポリオルガノシロキサン化合物（Ｃ）光活性型白金錯体硬化触媒を含有する硬化性組成物。
【化１】
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【課題】屈折率が高く、透明性、耐熱性が良好な硬化物を得ることができる熱硬化性組成物を提供する。
【解決手段】式（１−ａ）で表される構成単位と、式（１−ｂ）で表される構成単位とからなる液状有機ケイ素化合物による。


上記式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³はそれぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルから選択される基であり、ｎは２〜５０の整数である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明性、基材との接着性、耐熱性、および耐熱衝撃性のバランスに優れたシリコーン系硬化組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）シリコーン系重合体粒子、
（Ｂ）アリール基を含有しないオルガノハイドロジェンポリシロキサン、
（Ｃ）アリール基を含有しないアルケニル基含有オルガノポリシロキサン、
（Ｄ）ヒドロシリル化触媒、及び
（Ｅ）１分子中にアリール基を少なくとも１つ含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン（ｅ−１）、１分子中にアリール基を少なくとも１つ含有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサン（ｅ−２）から選ばれる少なくとも１つのオルガノポリシロキサン、
を含有することを特徴とするシリコーン系組成物。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、耐熱黄変性などに優れた熱硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）で表される化合物がヒドロシリル化反応することによって得られる有機ケイ素化合物、ならびに該化合物と硬化剤を含む熱硬化性樹脂組成物。
（Ａ） １分子中にSi-H基を２個以上有する、分子量が１００〜５０００００のシルセスキオキサン。
（Ｂ） １分子中にアルケニルを２個以上有する、分子量が１００〜５０００００のシリコーンおよび／またはシルセスキオキサン。
（Ｃ） １分子中にエポキシまたはオキセタニルを１個以上と、炭素数が２〜１８のアルケニルとを有する化合物。 （もっと読む）

【課題】埋め込み性が良好で、有機材料に対して高いエッチング選択比を有し、微細な反転パターンを良好な形状で形成できる反転パターン形成用材料、および該反転パターン形成用材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、レジスト組成物を用いてレジストパターンを形成する工程（ｉ）と、前記レジストパターンが形成された前記支持体上に、反転パターン形成用材料を塗布してパターン反転用被膜を形成する工程（ｉｉ）と、前記レジストパターンをエッチングにより除去し、反転パターンを形成する工程（ｉｉｉ）と、を備えるパターン形成方法であって、前記反転パターン形成用材料が、下記式（ｘ０−１）で表される構成単位を有し、シリコン含有量が１５質量％超のシロキサンポリマーを含有することを特徴とする。
［化１］
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アミノアルコキシ変性シルセスキオキサン（アミノＡＭＳ）、及び／または、メルカプトシランまたはブロックメルカプトシランを含むアミノｃｏ−ＡＭＳ化合物は、めっき金属ワイヤまたはめっきされていない金属ワイヤのゴムストックへの接着性を向上させる優れた接着剤である。アミノＡＭＳ及び／またはアミノ／メルカプタンｃｏ−ＡＭＳ接着剤は、全ての種類のゴムについて使用でき、コバルト、樹脂、高濃度の硫黄など（これらに限定されない）の、特別な接着性添加剤をゴム加硫物に添加する必要がない。特に、ワイヤをゴムへ結合させる接着剤としてのアミノＡＭＳ及び／またはアミノ／メルカプタンｃｏ−ＡＭＳ化合物の使用は、強化材の接着性能を向上させ、時間の経過による分解、特に熱老化及び／又は熱−酸化老化の、特に水存在下での腐食に対して耐性を有する、十分な結合を得ることができる。また、アミノＡＭＳ及び／またはアミノ／メルカプタンｃｏ−ＡＭＳ化合物を含有する加硫ゴム組成物は、埋め込まれた被覆されていないスチールの、湿度老化後の接着性を、アミノアルコキシ変性シルセスキオキサンを含有しない加硫ゴム組成物と比べて、向上させた。 （もっと読む）

【課題】シート状基材表面に高速塗工時にミスト発生量が少ない無溶剤型剥離性硬化皮膜形成性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】
(A)粘度が２５〜１,０００ｍＰa・ｓであり、アルケニル基を有するジオルガノポリシロキサン：１００重量部、(B)粘度が１０,０００ｍＰａ・ｓ以上であり、脂肪族不飽和基含有量が０.１モル％以下であるジオルガノポリシロキサン：０.５〜１５重量部、
(C）平均シロキサン単位式〔1〕: (ＳｉＯ_4/2)(Ｒ^aＲ^b₂ＳｉＯ_1/2)_x 〔1〕
で示される分岐状オルガノシロキサンオリゴマーとジオルガノシロキサンオリゴマーとの平衡重合体であり、１より多いＳｉＯ_4/2単位を有する分岐状オルガノポリシロキサン：０.５〜５重量部
(D)粘度が１〜１,０００ｍＰa・ｓであるオルガノハイドロジェンポリシロキサン所定量、及び、(Ｅ）ヒドロシリル化反応触媒：触媒量からなり、粘度が５０〜２,０００ｍＰa・ｓである無溶剤型剥離性硬化皮膜形成性オルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）