【課題】ポッティング成型が可能であり、無色透明で耐久性に優れ、しかも、はんだリフローやヒートサイクルに対してクラックを生じにくい光半導体封止材を形成しうる光半導体用封止用組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）エポキシ当量が１５０〜６００ｇ／モルでありかつガラス転移温度が−８０℃〜１５０℃であるポリスチレン換算重量平均分子量５００〜１，０００，０００のエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンおよび（Ｂ）エポキシ当量が６００ｇ／モルを超えそして１，６００ｇ／モル以下でありかつガラス転移温度が−５０℃以下であるポリスチレン換算重量平均分子量５００〜１，０００，０００のエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンならびに（Ｃ）シクロヘキサントリカルボン酸および／またはその無水物を含有する光半導体封止用組成物。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐光性、耐熱性に優れ、長期間使用してもクラックや剥離を生じることなく半導体発光デバイスを封止し、蛍光体を保持することのできる、新規な半導体発光デバイス用部材を提供する。
【解決手段】Ｍ^m+Ｘ_nＹ¹_m-nで表わされる化合物を加水分解・重縮合して得られる重縮合物を乾燥して、固体Ｓｉ−ＮＭＲにおいて、全ケイ素に対する、Ｄⁿ化合物のケイ素のモル比が３０％以上であり、３量体及び４量体のＤ²環状物の合計モル比が０．１％以上１５％以下であり、ケイ素含有率が２０重量％以上である半導体発光デバイス用部材を作製する。
（ただし、Ｍはケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタンを表わし、Ｘは加水分解性基を表わし、Ｙ¹は１価の有機基を表わし、ｍはＭの価数を表わす１以上の整数を表わし、ｎはＸ基の数を表わす１以上の整数を表わす。但し、ｍ≧ｎ。） （もっと読む）

【課題】透明性、耐光性、耐熱性、耐リフロー性及び耐温度サイクル性に優れ、長期間使用してもクラックや剥離を生じることなく半導体発光デバイスを封止し、蛍光体を保持することのできる、新規な半導体発光デバイス用部材を提供する。
【解決手段】固体Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルにおいて、ピークトップの位置がケミカルシフト−４０ｐｐｍ以上０ｐｐｍ以下の領域にあり、ピークの半値幅が０．３ｐｐｍ以上、３．０ｐｐｍ以下であるピーク、及び、ピークトップの位置がケミカルシフト−８０ｐｐｍ以上−４０ｐｐｍ未満の領域にあり、ピークの半値幅が０．３ｐｐｍ以上５．０ｐｐｍ以下であるピークからなる群より選ばれるピークを、少なくとも１つ有するとともに、ケイ素含有率が２０重量％以上であり、シラノール含有率が０．１重量％以上、１０重量％以下であり、デュロメータタイプＡによる硬度測定値（ショアＡ）が５以上９０以下である。 （もっと読む）

本発明は有機ポリシロキサンの製造方法に関し、第一の工程ではクロロシランを、加水分解可能な塩素１ｍｏｌにつき０．００２〜０．６ｍｏｌの水、および加水分解可能な塩素１ｍｏｌにつき０．３〜１．６ｍｏｌのアルコールと反応させ、その際、アルコールに対する水のモル比は０．００１〜１．５であり、第二の工程では、第一の工程で得られた反応混合物を、場合によっては水に不溶性の、０．９ｋｇ／ｌより小さい比重の有機溶媒と混合し、ケイ素成分１ｍｏｌにつき０．２〜１００ｍｏｌの量の水を計量供給し、第三の工程では、第二工程の反応終了後に水性アルコール相が分離される。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、画像部の画像抜け（画像の欠損）防止性に優れ、保存性に優れる感光性平版印刷版材料、この感光性平版印刷版材料を与える感光性組成物、及びこの感光性平版印刷版材料を用いた平版印刷版材料の画像形成方法を提供することにある。
【解決手段】 活性光線の照射により酸を発生し得る酸発生剤、該酸により重合可能な基を有する化合物、アルカリ可溶性高分子結合剤及びシロキサングリコール共重合体を含有することを特徴とする感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】被覆時、加熱等して硬化時にクラックがはいらず、真空紫外光領域〜近赤外光領域で光透過率が優れたシリカ系ガラスとなるハイドロジェンポリシロキサン等を提供する。
【解決手段】環状ジハイドロジェンポリシロキサン、特定のシロキサン単位式等を有するハイドロジェンポリシロキサン、加水分解縮合によるそれらの製造方法、これらポリシロキサンを型内で硬化させることによる１７０ｎｍ以上の真空紫外光領域〜紫外光領域で光透過率９０〜１００％であり可視光領域〜１７００ｎｍ以下の近赤外光領域で光透過率９８〜１００％であるシリカ系ガラス成形体の製造方法、該シリカ系ガラス成形体、該シリカ系ガラスからなる光学素子、これらポリシロキサンを光学部材に被覆し硬化させることによる該シリカ系ガラス膜層を有する光学素子の製造方法、該シリカ系ガラス膜層を有する光学素子。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜に適した、誘電率特性、膜強度に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物。


式中、Ｒ¹は水素原子または非加水分解性基を表し、Ｘは加水分解性基を表す。Ｒ²は水素原子または置換基を表す。ｍは３または４であり、ｎは０〜３の整数であるが、式（Ｉ）で表される分子内には、Ｘとして少なくとも１つの加水分解性基が存在する。Ｒ¹、Ｒ²、Ｘの各々について、複数存在するときは同じでも異なっていてもよい。 （もっと読む）

【課題】オルガノシロキサンが結合したイミドを高純度、高収率で製造する方法の提供。
【解決手段】トリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンと、ジカルボン酸無水物とを反応させることにより、アミド酸トリオルガノシリルエステルを得た後、脱トリオルガノシラノール反応により、閉環イミド化させる、式（５）のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法。


（Ａ¹はＣ１〜２０の二価有機基、Ａ²はＣ２〜４０の二価有機基。Ｓｘはケイ素数２〜２，０００のオルガノシロキサニル基を表す。αは該オルガノシロキサニル基の価数を表し、１〜１００の整数。） （もっと読む）

【課題】 半導体素子などに用いられる層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能であり、かつ誘電率特性、膜強度に優れた膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される化合物またはその重合物を含む膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法
【化１】


一般式（I）中、
Ｒ¹およびＲ²は各々独立に水素原子または置換基を表し、複数個存在するＲ¹およびＲ²のうち少なくとも１つは一般式（II）で表される基を表す。
ｍは４〜３０の整数を表す。
（Ｒ³）₃−Ｓｉ−Ｏ− (II)
一般式（II）中、Ｒ³は水素原子または置換基を表す。
複数個存在するＲ¹〜Ｒ³のうち、少なくとも１つは重合性基を表す。
ただし、Ｒ¹〜Ｒ³は水酸基および加水分解性基を表さない。 （もっと読む）

【課題】硬度、耐擦傷性に優れた新規な感光基含有アルコキシシラン化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるアルコキシケイ素化合物同士またはこれと、式（２）で示されるアルコキシケイ素化合を塩基性触媒の存在下共加水分解縮合させることにより得られる（メタ）アクリル基含有ケイ素化合物（Ａ）。ＸＲ^１_ａＳｉ（ＯＲ^２）_３−ａ （１）（式中、Ｘは（メタ）アクリル基を含む有機基、Ｒ^１はＣ１〜Ｃ１０のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０の置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表す。ａは０または１の整数。Ｒ^２はＣ１〜Ｃ４のアルキル基を表す。）Ｒ^３_ｂＳｉ（ＯＲ^４）_４−ｂ（２）（式中、Ｒ^３はＣ１〜Ｃ１０のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０の置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表す。ｂは０〜２の整数である。Ｒ^３が複数である場合、複数のＲ^３は互いに同一であっても異なっていても良い。Ｒ^４はＣ１〜Ｃ４のアルキル基を表す。） （もっと読む）

本発明は、使用前に２構成型系（ＲＴＶ−２）の形を有し、室温において加硫して、広範な基材に対して熱処理後にさえ自己粘着性であるエラストマーになることができるオルガノポリシロキサン組成物の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐紫外線性、光透過性に優れ、厚膜形成可能なシロキサン系縮合物、これを含有するポリシロキサン組成物を提供すること。
【解決手段】本発明に係るシロキサン系縮合物は、特定の重量平均分子量を有する２官能のポリシロキサンと、特定の重量平均分子量を有する多官能のシロキサンポリマーとを有機溶媒中で脱アルコール反応させることにより製造することができる。 （もっと読む）

【課題】 建築分野をはじめとする様々な分野において、塗料や接着剤等に適用可能な紫外線硬化性樹脂組成物や該紫外線硬化性樹脂組成物を含有する紫外線硬化型塗料及び該紫外線硬化型塗料を塗装した塗装物を提供すること。
【解決手段】 シラノール基および／または加水分解性シリル基、並びに重合性二重結合を有するポリシロキサンセグメント（ａ１）と、該ポリシロキサンセグメント（ａ１）以外の重合体セグメント（ａ２）とを有する複合樹脂（Ａ）及び光開始剤（Ｂ）を含有する紫外線硬化性樹脂組成物、該紫外線硬化性樹脂組成物を含有する紫外線硬化性塗料及び該紫外線硬化性塗料を塗装して得られる塗装物。 （もっと読む）

【課題】基体への塗布或いは含浸に適した架橋された硬質又はエラストマーのオルガノポリシロキサンの分散液並びに該分散液の簡単かつ安全に実施される製造方法を提供する。
【解決手段】架橋されたオルガノポリシロキサンの分散液の製造方法において、好ましくはポリジメチルシロキサンジオール及び／又は３−（２−アミノエチルアミノ）プロピル−メチルシロキシ単位を有するポリジメチルシロキサンジオールと架橋点を形成させるための三官能性シラン、好ましくはＮ−モルホリノメチルートリメトキシシランとを、分散剤、乳化剤及び、場合により反応に直接関与しない更なる物質の存在下に反応させる。 （もっと読む）

本発明は、吸収紙の分野、特に、新規な柔らかな感触の防水性、再パルプ化性及び親水性の紙並びにこの紙の製造方法に関する。この紙は、湿潤強度を改善させる少なくとも１種の樹脂（Ａ）及び随意として少なくとも１種の湿潤強度促進剤（Ｂ）の有効量を含む紙パルプから製造され、この場合に、該紙パルプ又は紙と、少なくとも１種のポリオルガノシロキサン（Ｃ）であって、１分子当たり、珪素原子に直接結合した少なくとも１個の官能基Ｖ（該官能基Ｖは、立体障害ピペリジニル官能基を有する基である）によって置換された少なくとも１種のシロキシル単位を含むものを含む組成物（Ｄ）とを接触させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 新規な有機高分子シロキサン、及び前記有機高分子シロキサンを触媒として使用し、触媒の活性が低下することなく長期間連続的にオレフィンオリゴマーを製造する方法を提供する。
【解決手段】 細孔径９〜５００Åの細孔容積に対し細孔径２０〜５００Åのメソポーラス部の細孔容積の存在割合が０〜２０％であり、表面のシラノール基（ＳｉＯＨ）が活性水素をもたない官能基に置換され、かつ、スルホン酸基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン、
並びに、前記有機高分子シロキサンを触媒とし、この触媒にオレフィンを接触させることを特徴とするオレフィンオリゴマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】新規なエポキシシランオリゴマーの製造方法の提供。
【解決手段】当該方法は、２つ又は３つのアルコキシ基を有する反応グリシドキシシラン及び／又は脂環式エポキシシランと、任意にグリシドキシ及び脂環式エポキシシラン以外の共重合性シランを、触媒の存在下で１．５当量未満の水と反応させる方法であって、前記水が反応工程の間連続的に供給されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物、その加水分解物、またはそれらの縮合物を含む組成物。


式中、Ｒ¹は水素原子または置換基である。Ｒ²は水素原子、あるいは水酸基または加水分解性基を有するシリル基であり、かつ分子中少なくとも１つは水酸基または加水分解性基を有するシリル基である。ｍは５〜３０の整数。 （もっと読む）

水を添加し、打設された、セメント組成物の乾燥収縮を減少させる方法であり、液体の少なくとも１つであり、水および水溶性アルカリの少なくとも１つに溶解する、少なくとも１つのシロキサン化合物を、打設する前に組成物へ添加することを含む、前記方法。 （もっと読む）

【課題】 単離が容易で、粒度分布がシャープであり、エマルジョン状態では安定なポリオルガノシロキサン粒子を簡便な方法で短時間に製造する。
【解決手段】 下記化学式（１）で表されるテトラオルガノアンモニウム塩を用いて塩基性条件下でオルガノシロキサンを乳化重合する。
（Ｒ¹Ｒ²Ｎ（Ｒ³）₂）_nＸ （１）
（Ｒ¹は炭素数６以上のアルキル基、Ｒ²は芳香族基を含む炭素数６以上の炭化水素基、Ｒ³は炭素数４以下のアルキル基（ただし２個のＲ³は互いに異なっていても同一であっても良い）、Ｘはアニオン性基、ｎは１〜３の整数） （もっと読む）