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Fターム[4J246CA63]の内容

珪素重合体 (47,449) | Si上の一価の基 (11,590) | Siの次位にC;そのCが異種原子含有炭化水素基 (4,121) | O原子含有炭化水素基←過酸基 (2,182) | C型のエステル基含有;Si−R−COO (121)

Fターム[4J246CA63]に分類される特許

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【課題】フォトリソグラフィおよび液浸フォトリソグラフィシステムにおいて非常に適したフォトレジスト用のトップコートを提供する。
【解決手段】本発明のトップコートは、式TR3(ただしmが8、10、または12に等しい)および式QR1,R2,R3(ただしnが8、10、または12に等しい)の官能化多面体オリゴマー・シルセスキオキサン誘導体を含む組成物である。その官能基として、塩基性水溶液可溶性部分を含むことが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 シロキサン系の多孔質体の製造方法であって、孔径を容易に制御することができる方法を提供する。
【解決手段】 1)シロキサンを含有し、刺激応答性を有するゲルを得るステップ、および2)得られたゲルの溶媒の少なくとも一部を除去してシロキサンキセロゲルを得るステップを含むシロキサン系多孔質体の製造方法において、ゲルのシロキサン濃度などを調整することにより、前記多孔質体の孔径を制御する。さらに、前記ゲルの溶媒除去が凍結乾燥により行われる場合は、凍結条件を調整することにより孔径を制御する。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、応答速度の速い液晶組成物、及び該液晶組成物を含有する液晶素子の提供である。
【解決手段】 シロキサンポリマーと、フッ素原子で置換されたネマチック液晶と、二色性色素とを含む液晶組成物、及び該液晶組成物を含む液晶素子。 (もっと読む)


【課題】 硬化性シリコーン系樹脂を極めて速やかに硬化させうる硬化触媒を提供する。また、この硬化触媒と硬化性シリコーン系樹脂とを含有する樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 この硬化触媒は、三フッ化ホウ素と、1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デカ−5−エン、7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デカ−5−エン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン又は1,1,3,3−テトラメチルグアニジンよりなるものである。硬化性シリコーン系樹脂としては、従来公知の変成シリコーン樹脂やシリコーン樹脂が用いられる。具体的には、変成シリコーン樹脂及び、三フッ化ホウ素と、上記した含窒素化合物との錯体を含有する樹脂組成物である。 (もっと読む)


下記の一般式(1)で示されるオルガノシロキサンワックスを含む化粧料。


:C1〜C20のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、
アラルキル基、フッ素置換アルキル基の何れか、
:下記の(2)又は(3)式で示される(ジ)ペンタエルスリトール
高級脂肪酸ポリエステル残基を含む基


1≦m<4、1≦n<6
:C17〜C30の不飽和結合を含んでもよい直鎖脂肪族基
p,q:0〜200、r,s:0〜3、但し、0≦p+q≦200、1≦q+r+sである。
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式(I)で表されるシリコーンワックス。


:C1〜C20アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、
アラルキル基、フッ素置換アルキル基の何れか
:下記の(ジ)ペンタエリスリトールポリベヘネート残基を含む基


p,q:0〜200、r,s:0〜3、但し0≦p+q≦200、1≦q+r+sである。
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本発明は、特定の構造式のサッカライド−シロキサン共重合体、架橋剤、および任意に溶媒を含む、架橋可能な組成物に関する。本発明の組成物から形成された、架橋高分子網目状構造体、硬化したコーティング、および製品を、本発明の架橋可能な組成物の製造工程および方法、ならびにその用途とともに提供する。
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アスコルビン酸と2−ケト酸サッカライド類の新規エステル誘導を提供し、このエステルは、アスコルビン酸又は2−ケト酸サッカライド上の少なくとも1つのヒドロキシ官能基と、カルボキシ官能基含有オルガノシロキサンとの間で、又は2−ケトグロン酸とヒドロキシ官能基含有オルガノシロキサンとの間でのエステル結合形成によって導入する。同時に、それらの合成方法も提供する。この新規エステル類を含むトリートメント配合物、化粧品配合物、及びパーソナルケア配合物を、それらの制御放出形態を含めて提供する。
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脱ガス現象を低減することができるシルセスキオキサン樹脂、ポジ型レジスト組成物、レジスト積層体、レジストパターン形成方法が提供され、またイマージョンリソグラフィーに好適なシリコン含有レジスト組成物及びレジストパターン形成方法が提供される。上記シルセスキオキサン樹脂は、下記一般式[式中、R及びRは、それぞれ独立に、直鎖状、分岐状又は環状の飽和脂肪族炭化水素基;Rは単環又は多環式基を含有する炭化水素基からなる酸解離性溶解抑制基;Rは水素原子、もしくは直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基;Xは、少なくとも1つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数1〜8のアルキル基;mは1〜3の整数]で表される構成単位を有する。

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【課題】 水に不溶で塩基水溶現像液に可溶な上面反射防止コーティング材料/障壁層を提供すること。
【解決手段】 上面反射防止コーティング材料(TARC)及び障壁層、並びにそれらのリソグラフィ工程における使用法が開示される。TARC/障壁層は、特に、画像形成媒体として水を用いる浸漬リソグラフィに対して有用である。TARC/障壁層は、少なくとも1つのシリコン含有部分と少なくとも1つの塩基水溶液に可溶な部分とを備えたポリマーを含む。適切なポリマーは、構造
【化1】


を有するモノマーを含んだポリマーなど、シルセスキオキサン(梯子状又は網目状)構造を有するポリマーを含むが、ここで、R1は塩基水溶液に可溶な部分を含み、xは1から1.95まで、より好ましくは1から1.75までである。 (もっと読む)


【課題】 安定性が良好なオルガノポリシロキサンエマルジョン、及び平衡化反応時間の短いオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法を提供する。
【解決手段】 (A)環状オルガノポリシロキサン、
(B)両末端ヒドロキシル基封鎖ジオルガノポリシロキサン、
(C)両末端トリアルキルシロキシ基封鎖ジオルガノポリシロキサン
を含有し、(A),(B)成分の割合が質量比で(A)/(B)=10/90〜80/20、(C)成分の配合量が(A),(B)成分の合計100質量部に対して0.05〜5質量部、25℃の粘度が50mm2/s以下であるポリシロキサン混合物を乳化重合してなるオルガノポリシロキサンエマルジョン、及び上記ポリシロキサン混合物を(D)界面活性剤を添加した(E)水中に乳化分散させ、このエマルジョン中で上記ポリシロキサン混合物を酸性又はアルカリ性触媒の存在下で重合するオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】特に、高感度で、パターン形状に優れ、かつ焦点深度(DOF)にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物、当該感放射線性樹脂組成物における樹脂成分等として有用なポリシロキサン、および当該ポリシロキサンの合成原料等として有用なシラン化合物を提供する。
【解決手段】シラン化合物は、下記式(I)で表される。
【化1】


ポリシロキサンは、下記式(1)で表される構造単位を有するか、該構造単位と下記式(2)で表される構造単位とを有する。
【化3】


(Rはアルコキシル基等を示し、R1 は水素原子、フッ素原子、低級アルキル基等を示し、Aは2価の(置換)炭化水素基を示し、R2 は1価の酸解離性基を示す。〕
感放射線性樹脂組成物は、(A)式(1)で表される構造単位と式(2)で表される構造単位とを有するポリシロキサンおよび(B)感放射線性酸発生剤を含有する。 (もっと読む)


(i)白金族金属含有触媒存在下に、1分子につき少なくとも1つのシリコン結合水素原子を含有する少なくとも1つの有機水素シリコン化合物と、少なくとも1つの脂肪族不飽和部分を持つ少なくとも1つの化合物とを混合することにより得られる反応生成物;
(ii)少なくとも1つの末端封鎖剤;ならびに任意に
(iii)加水分解物もしくはシクロシロキサンから選ばれる、少なくとも1つの有機シロキサン
を含む混合物を、触媒存在下に加熱して、成分(i)、(ii)、および任意に(iii)の重合を起こさせ、分岐ポリマーを形成させることを含む方法。 (もっと読む)


【課題】(I)油性成分及び有機溶剤への分散性が良く、化粧料への配合が容易で、保存安定性や感触の良好な化粧料を容易に得ることができる化粧料配合用のワックス状オルガノポリシロキサンを提供すること。(II)製造が容易で、保存安定性や感触の良好な化粧料を提供すること。
【解決手段】本発明の化粧料配合用のワックス状オルガノポリシロキサンは、下記一般式(1)〔式中、Rの1つ以上は(a)炭素数17〜300の長鎖アルキル基またはヘテロ原子を含む長鎖有機基であり、(a)の基の割合は分子全体の70質量%以下である。nの数平均は50.0〜1000.0である。〕で表される化学構造を持ち、融点が30℃〜120℃である。本発明の化粧料は、(A)油性成分および/または有機溶剤と;(B)本発明のワックス状オルガノポリシロキサンとを配合してなる。
【化1】
(もっと読む)


【課題】室温下ではべたつきがなく、適度な融点を持ち、融解することにより良好な流動性を示し、これを配合してなる製品において、室温下では移行がなく、当該製品を加熱することにより十分に滲み出て、良好な離型効果を発揮させることのできるワックス状のオルガノポリシロキサンを提供すること。
【解決手段】下記一般式(1)で表される化学構造を持ち、融点が55℃〜115℃、120℃における粘度が50mPa・S以下、および50℃における針入度が15以下である。
【化1】
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ペンダントオリゴマーを有さないフォトクロミック化合物を含有する対応する組成物と比較すると、フォトクロミックポリマー組成物のかなり変化した退色速度を提供するためのフォトクロミック部分および少なくとも1つのペンダントオリゴマー基を含有する付加物であるポリマーマトリックスおよびフォトクロミック化合物を含有するフォトクロミックポリマー組成物。本発明は、フォトクロミック部分および少なくとも1つのペンダントオリゴマー基を含有する付加物であるフォトクロミック化合物に関する。 (もっと読む)


【化1】


本発明は、一般式(1)の新規化合物に関する{式中、Xは、R1、二つのA1成分に結合する基-[CO2(CH2)nCO2]-(A1は、X以外のAであり、nは2〜4である)、C(=W)R、(CR3Z)iCHR3Z、OH、O(M+g)1/g及びOC(=W)Rから選ばれ(式中、Wは酸素、硫黄、NR4及びNNR4R5から選ばれ、ZはOR6、NR6R7及びSR6から選ばれ、RはR6、OR6、O(M+g)1/g、NR6R7、NHNR6R7又はSR6であり、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、水素、所望により置換されていてもよい線状又は分岐のアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基、アリール基又はアルキルアリール基である)}。Mはランタニド、アクチニド、主族又は遷移金属から誘導される金属イオンである。Vは所望により置換されていてもよいアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基又はアリール基又はアルキルアリール基であり;eは、整数の0〜2であり;fは、整数の0〜100、gは整数の1〜4であり、iは整数の0〜6であり、tは整数の1〜20、好ましくは1〜3であり;hは0又は1である。シリケート酸素原子の遊離原子価は、一般式(1)の他の基のシリコン原子、水素、線状又は分岐のアルキル基、又は末端基、架橋メンバー又はシリコン、アルミニウム、チタニウム又は他の公知のオキソ金属架橋系を含むポリマー鎖の一つ以上により飽和されている。整数a、b、c及びdは、i)bが0の場合、a:cの比は0.00001〜100,000であり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びCの両方が常に存在し、ii)bが1以上の場合、比a:bは0.00001〜100,000であり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びBの両方が常に存在する。末端基及び/又は架橋リンカー及び/又はポリマー鎖のa+b+c+dに対する比は、0〜999:1である。本化合物は、固相抽出、固相合成、酸及び金属介在不均一触媒、金属イオン抽出及び生物分子の固定化のために、不必要な有機及び無機化合物を除去するためのスカベンジャーとして有用である。
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新しい種類のフマル酸基ならびにイタコン酸基含有プレポリマーを提供する。また、医療用具の製造に利用されるプレポリマーを含む組成を提供する。 (もっと読む)


本発明は、UVフィルター活性を有するマイクロカプセルを製造する方法であって、UV−Aおよび/またはUV−Bおよび/またはUV−Cフィルター活性を有する架橋性発色団のうち少なくとも1種、ならびに場合により、UV−Aおよび/またはUV−Bおよび/またはUV−Cフィルター活性を保有しない架橋性単量体のうち少なくとも1種を、UV−Aおよび/またはUV−Bおよび/またはUV−Cフィルター活性を有する非架橋性発色団の不在下で、架橋反応に付す方法、ならびにこの方法で得られるマイクロカプセルを提供する。 (もっと読む)


本発明は半導体または電気回路での低いk誘電性フィルムの製造方法に関し、前記方法は、一般式[(RSiO1.5(RSiO)](式中、a、bは0〜1であり、c、dは1であり、m+nは3以上であり、a+bは1であり、n、mは1以上であり、Rは水素原子またはアルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アルキニル、シクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリール基であり、それぞれ置換されているかまたは置換されてなく、Xはオキシ、ヒドロキシル、アルコキシ、カルボキシル、シリル、シリルオキシ、ハロゲン、エポキシ。エステル、フルオロアルキル、イソシアネート、アクリレート、メタクリレート、ニトリル、アミノまたはホスフィン基であり、またはタイプXの少なくとも1つの前記基を有するタイプRの置換基であり、Yはヒドロキシル、アルコキシまたはタイプO−SiZの置換基であり、Z、ZおよびZはフルオロアルキル、アルコキシ、シリルオキシ、エポキシ、エステル、アクリレート、メタクリレートまたはニトリル基であり、またはタイプRの置換基であり、同じかまたは異なり、タイプRの置換基が同じかまたは異なるだけでなく、タイプXおよびYの置換基もそれぞれ同じかまたは異なり、タイプYの置換基として少なくとも1個のヒドロキシル基を有する)の不完全に縮合した多面体のオリゴマーシルセスキオキサンをフィルムの製造のために使用することを特徴とし、更にこの方法により製造される低いk誘電性フィルムに関する。 (もっと読む)


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