【課題】本発明は、光透過率、耐光性及び耐熱性、光屈折率、機械的強度などの特性において優れており、成形する場合、殆ど収縮のないＬＥＤ封止用シロキサン樹脂を製造することのできるＬＥＤ封止用シロキサン樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、有機アルコキシシランと有機シランジオールとの非加水縮合反応、または、有機アルコキシシラン及び金属アルコキシドの混合物と、有機シランジオールとの非加水縮合反応によって製造される有機オリゴシロキサンハイブリッドを含有するＬＥＤ封止用樹脂組成物を提供する。前記の有機オリゴシランハイブリッドは、縮合度の高い無機網目構造を有し、少なくとも１つ以上の有機基または有機官能基を包含する。また、本発明は、前記のＬＥＤ封止用樹脂組成物を使用してＬＥＤのカプセル化物質とすることができる。 （もっと読む）

【課題】ポリシルセスキオキサン共重合体、その製造方法、これを利用するポリシルセスキオキサン共重合体薄膜、及びこれを利用する有機電界発光表示装置を提供。
【解決手段】アルコキシフェニルトリアルコキシシラン、アルコキシフェニルアルキルトリアルコキシシラン、アルコキシカルボニルフェニルトリアルコキシシラン及びアルコキシカルボニルフェニルアルキルトリアルコキシシランよりなる群から選択されたいずれか１つの単量体と、両端に反応サイトを有するα、ω−ビストリアルコキシシリル化合物単量体とを有機溶媒／水の混合溶媒の中で酸または塩基触媒を使用して共重合して製造されたポリシルセスキオキサン共重合体、その製造方法、これを利用したポリシルセスキオキサン共重合体薄膜、及びこれを利用した有機電界発光表示装置。 （もっと読む）

【課題】高い架橋密度によりフィルムが脆化することなく、良好な初期引っ掻き耐性を有
するだけでなく引っ掻き耐性が高く維持されるトップコートを提供することを、本発明の
課題とする。
【解決手段】（ａ）少なくとも１個の反応性官能基を含む１種以上のポリシロキサン；多
数の粒子；及び、任意に、ポリシロキサン（ａ）のいずれかの反応性官能基と反応する少
なくとも１個の官能基を含む１種以上の硬化剤を含有する組成物を提供することによって
、上記課題が解決された。更に、前述の塗料組成物多−成分複合材料を基材及び塗装され
た基材に塗布する工程、が提供される。この塗料組成物を調製する工程も提供される。本
発明の塗料組成物多−成分複合材料は、屋外暴露後、引っかき抵抗性の保持が可能である
高度の引っかき抵抗性の着色−プラス−透明塗料を提供する。 （もっと読む）

【課題】ケイ素原子１つに２つのカルボキシル基が結合されており、カルボキシル基の反応性が高く、且つ油剤との親和性が高いオルガノポリシロキサンを提供する。
【解決手段】下記平均組成式（１）で表されるオルガノポリシロキサン。


ここでＲ^２は下記式（２）で表される基であり、ｃが０の場合にはＲ^２は該オルガノポリシロキサンの少なくとも一の末端に結合されており、


Ｒ^３は下記式（３）で表される基であり、


ａは１．５〜２．５の数、ｂは０．００１〜１．５の数、ｃは０〜１．５の数である。 （もっと読む）

【課題】膜厚の減少及びクラックの発生を抑制しながら、パターニングされたシリカ系被膜を優れた解像性で比較的容易に形成することを可能にする感光性樹脂組成物を製造する方法の提供。
【解決手段】（ａ）成分：下記一般式（１）で表される１種以上のシラン化合物を加水分解縮合して得られる縮合体であるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：前記シロキサン樹脂を溶解する溶媒と、（ｃ）成分：ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとを含有する溶液を、３０℃〜１４０℃に加熱する工程を備える、感光性樹脂組成物の製造方法。
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ（１）［式（１）中、ｎは０〜２の整数を示し、Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基等を示し、Ｘは加水分解性基を示す。］ （もっと読む）

【課題】有機チタノシリケートを含む塗料組成物であっても劣化しにくく、また、耐候性に優れた被膜を形成することができる新規の塗料組成物を提供する。
【解決手段】本発明の塗料組成物は、Ｍ−Ｏ−Ｍ（Ｍは珪素原子または金属原子をそれぞれ独立に示す）で表される結合を含む珪素および金属の酸化物からなるとともに少なくとも一部の珪素原子に結合している有機基をもち、金属原子の少なくとも一部がチタン原子である有機チタノシリケートを溶媒に溶解させてなる塗料組成物であって、さらに、ラジカル捕捉能および／または酸化防止能を有する安定剤を含むことを特徴とする。チタン原子の遷移による酸化雰囲気の形成を防止したり、ラジカルを捕捉したりする安定剤を添加することにより、被膜の劣化が防止される。そして、安定剤の添加により、被膜の劣化の防止のみならず、耐候性の向上も達成される。 （もっと読む）

【課題】熱伝導性充填剤の高充填が可能で、オイルブリードの発生し難い熱伝導性シリコーングリース組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）２５℃における粘度が１０〜１００００ｍＰａ・ｓであり、側鎖および／または分子鎖末端に式（１）：‐ＣＯＯＸ で表される基を有するポリオルガノシロキサン、および（Ｂ）熱伝導性充填剤を含有する。ただし、式（１）中、Ｘは水素原子、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜１０の一価炭化水素基、または、式（２）：−ＳｉＲ^１_ａＹ_３−ａ （Ｒ^１は置換または非置換の炭素原子数１〜１０の一価炭化水素基、Ｙは炭素原子数１〜４のアルコキシ基、ａは０〜３の整数である。））で表される基のいずれかである。 （もっと読む）

【解決手段】被加工基板上に、化学増幅ポジ型レジスト組成物を塗布し、レジスト膜を形成する工程、該膜に第１ポジ型パターンを得る工程、更に該ポジ型パターンに反転膜形成用組成物に使用される有機溶剤への耐性を与える工程、第２化学増幅ポジ型レジスト材料で反転膜を形成し、該膜に第２ポジ型パターンを得る工程を含み、更に第２ポジ型レジストパターンを得るアルカリ現像液工程において、上記アルカリ性現像液に可溶に反転された第１ポジ型パターンが、第２パターンを得る工程中に溶解除去、反転転写される工程を含むダブルパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ヒドロキシ基含有溶剤や高極性溶剤を用い反転用膜の第２レジスト膜を成膜しても、第１ポジ型レジストパターンにダメージを与えず、間隙に第２レジスト材料を埋め込むことができ、第１ポジ型パターンを現像液でアルカリ可溶除去でき、簡易な工程で高精度なポジネガ反転を行うことができる。 （もっと読む）

本発明は、反射防止コーティング材において有用であるシルセスキオキサン樹脂であって、シルセスキオキサン樹脂は、次の単位(Ph(CH₂)_rSiO_(3-x)/2(OR')_x)_m、(HSiO_(3-x)/2(OR')_x)_n、(MeSiO_(3-x)/2(OR')_x)_o、(RSiO_(3-x)/2(OR')_x)_p、(R¹SiO_(3-x)/2(OR')_x)_qからなり、式中、Phはフェニル基であり、Meはメチル基であり;R'は、水素原子、または1から4個の炭素原子を有する炭化水素基であり;Rは、ヒドロキシル生成基から選択され;R¹は、置換フェニル基、エステル基、ポリエーテル基、メルカプト基、および反応性または硬化性の有機官能基から選択され;rは、0、1、2、3、または4の値を有し;xは、0、1、または2の値を有し;樹脂において、mは0から0.95の値を有し;nは0.05から0.95の値を有し;oは0.05から0.95の値を有し;pは0.05から0.5の値を有し;qは0から0.5の値を有し;m+n+o+p+q≒1であるシルセスキオキサン樹脂に関する。 （もっと読む）

【課題】 毛髪等に十分なしっとり感、滑らかさ等のコンディショニング効果を付与し、更にその効果の持続性を改善しうるオルガノポリシロキサン化合物の提供。
【解決手段】 主鎖を構成するオルガノポリシロキサンセグメントのケイ素原子の少なくとも一つに、一般式（１）で表されるウレタン結合含有基が結合してなる、オルガノポリシロキサン化合物、その製造法、並びにこのオルガノポリシロキサン化合物を含有する化粧料。
【化１】


（式中、Ｘ及びＹはＣ_1-10の２価の炭化水素基、ｄは０〜１０の数、Ｇはグリセリンカーボネートから誘導される基等を示す。） （もっと読む）

【課題】 層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、かつ形成されるシリカ系被膜がクラック耐性、耐熱性及び解像性に優れる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 （ａ）成分：下記一般式（１）で表される化合物を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：上記（ａ）成分が溶解する溶媒と、（ｃ）成分：ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルと、（ｄ）成分：微粒子と、を含有し、上記（ａ）成分の配合割合が、組成物の固形分全体を基準として５〜８０質量％であり、上記（ｄ）成分の配合割合が、組成物の固形分全体を基準として５〜５０質量％である、感光性樹脂組成物。



［式（１）中、Ｒ^１は有機基を示し、Ａは２価の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、同一分子内の複数のＸは同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】溶解性が良く、重合開始剤及び顔料として有用な新規な高分子過酸化物、該高分子過酸化物を含有してなる重合開始剤、該高分子過酸化物から得られる高分子ラジカルを顔料の表面にグラフト化させた顔料及び該顔料を含有する顔料組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される高分子過酸化物。
（もっと読む）

反射防止コーティングに有用なシルセスキオキサン樹脂であって、式：（ＰｈＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＲ’）_x）_m（ＨＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＲ’）_x）_n（ＭｅＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＲ’）_x）_o（ＲＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＲ’）_x）_p（Ｒ²ＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＲ’）_x）_q（式中、Ｐｈはフェニル基であり、Ｍｅはメチル基であり、Ｒは硫黄含有有機官能基から選ばれ、Ｒ’は水素原子又は１〜４個の炭素原子を有する炭化水素基であり、Ｒ²はエステル基、ポリエーテル基及びポリエチレンオキシド基から選ばれ、ｘは０、１又は２の値を有し、ｍは０．０１〜０．９７の値を有し、ｎは０．０１〜０．９７の値を有し、ｏは０．０１〜０．９７の値を有し、ｐは０．０１〜０．９７の値を有し、ｑは０〜０．９６の値を有し、且つｍ＋ｎ＋ｏ＋ｐ＋ｑ≒１）を有するシルセスキオキサン樹脂。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１個のシリコーンイオノマーを含む熱可塑性エラストマーに関する。このような熱可塑性エラストマーは再加工および／または再利用することができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有するレジスト下層膜を形成することができ、且つ、保存安定性に優れたレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、下記式（１）で表される繰り返し単位、及び下記式（２）で表される繰り返し単位を含有する樹脂と、溶剤と、を含む。
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【課題】電気・電子材料、例えば、半導体デバイス、多層配線基板の製造用として有用なポリオルガノシロキサン及びそれを用いた感光性樹脂組成物で、優れたキュア残膜率を有し、アルカリ現像可能な樹脂膜を形成することが可能なポリオルガノシロキサン及び感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定シラノール化合物（ａ）、特定アルコキシシラン（ｂ）、及び特定酸無水物構造を含むアルコキシシラン（ｃ）を触媒の存在下、積極的に水を添加することなく縮合させる方法で得られるポリオルガノシロキサン、及びこれを含有する感光性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】レジストとの良好なマッチング特性を有するレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を実現する。
【解決手段】本発明のレジスト下層膜形成用組成物は、硫黄原子を含む１価の有機基を有する繰返し単位を有するシロキサンポリマー成分を含有することで、レジストとのマッチング特性が良好なレジスト下層膜を形成し得る。 （もっと読む）

【課題】より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であるとともに、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高いパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）レジスト層を選択的に露光した後、現像して第一のパターンを形成する工程と、（２）隣接する第一のパターンどうしの間に、ポリシロキサンを含む樹脂成分及び溶媒を含有するとともに、酸発生剤から発生する酸の作用により架橋可能な樹脂組成物からなる未架橋埋め込み部を形成する工程と、（３）未架橋埋め込み部の所定領域を架橋させて、第一のパターン、第一の架橋部、未架橋埋め込み部、及び第二の架橋部がこの順で配列して繰り返す配列構造を形成する工程と、（４）第一のパターン及び未架橋埋め込み部を除去して第二のパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】防汚性、防曇性に優れ、良好な耐摩擦性を有する親水膜を形成するのに用いられる親水性膜形成用組成物を提供すること。また、該親水性膜形成用組成物により形成された親水膜を備えた、防汚性、防曇性及びその耐摩擦性に優れた表面を有する親水性部材を提供すること。
【解決手段】ポリマーの両末端に加水分解性シリル基を有し、且つポリマーを構成する全モノマー中、親水性官能基を有するモノマーの含有量が５０モル％以上である親水性ポリマー（Ａ）を含有することを特徴とする親水性膜形成用組成物。 （もっと読む）

ヒドロキシル官能性カルバモイルオルガノシリコーン化合物、それに基づく防食性のおよび／もしくは接着促進のコーティング剤組成物、該コーティング剤組成物を用いる金属コーティング方法、ならびに生じるコートされた金属商品が提供される。
なし （もっと読む）