【課題】腐食や黄変など光デバイス劣化を誘引する不純物の塩素成分の含有量が著しく少ない硬化性シリコーンとその合成法を提供すること。
【解決手段】アルコキシケイ素化合物を加水分解縮合させることによってシリコーンを合成するシリコーンの合成法において、原料としてアルコキシケイ素化合物を用い、塩基性触媒によりアルコキシケイ素化合物を加水分解縮合した後、二酸化炭素により合成反応液を中和して硬化性シリコーンを得る。二酸化炭素を中和剤として用いるので、不純物である塩素成分の含有量を著しく低減することができる。また、二酸化炭素による中和は合成反応液に二酸化炭素ガスを吹き込むことによって行うことが簡便で好ましい。 （もっと読む）

【課題】半田耐熱性に優れ、かつ成形時における離型性、連続成形性、樹脂硬化物表面の外観、金型汚れ性等とのバランスに優れるエポキシ樹脂組成物及び半導体装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）フェノール樹脂系硬化剤、（Ｃ）ポリカプロラクトン基を有するオルガノポリシロキサン（ｃ１）、及び／又は、ポリカプロラクトン基を有するオルガノポリシロキサン（ｃ１）とエポキシ樹脂との反応生成物（ｃ２）、並びに（Ｄ）一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサンを含むことを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ArF露光のような短波長露光での透過性がよく、さらに、微細加工に使用される中間層材料として好適な新規シリコーン共重合体を提供する。
【解決手段】下記一般式


（式中、Ａは縮合多環式炭化水素基を示す）で示される繰り返し単位と縮合多環式炭化水素基のかわりに脂肪族炭化水素基を有する繰り返し単位を含むシリコーン共重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】高い透明性を有し、硬化性、耐光性、耐熱性、接着性、耐熱衝撃性に優れた硬化物を形成でき、光半導体封止材用として好適なシロキサン誘導体を提供し、そしてこの硬化物からなる光半導体封止材を提供する。
【解決手段】エポキシ基を含有するＴ単位構造主量の新規なシロキサン誘導体及び該シロキサン誘導体を重合してなる硬化物。この硬化物は光半導体封止材として有用である。該シロキサン誘導体は、エポキシ基と加水分解基を含有するシランの加水分解縮合により得られる。 （もっと読む）

【課題】感光性組成物、特に、二層、あるいは多層レジストに好適な感光性組成物、感光性組成物に好適な樹脂、および該樹脂の製造に好適な化合物、該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解して脱離する基を有する特定のシロキサン単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物、該樹脂、および該樹脂の製造に好適な化合物、および該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】主鎖にシロキサン基を有する有機反射防止膜形成用ポリマー及びこれを含む有機反射防止膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】有機反射防止膜形成用ポリマーは、下記化学式で表される。


［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコール基又はエポキシ基であり、Ｒ_１は各々独立して水素原子、ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサン、カルボキキシル基、炭素数１〜１０のアルコール基又はエポキシ基を有するエステル基含有基である。］ （もっと読む）

【課題】メロシアニン誘導体。
【解決手段】式（１）


（式中、
Ｌ₁、Ｌ₂及びＬ₃は、それぞれ互いに独立して水素原子を表し；又はＬ₁及びＬ₃は結合し
て炭素環を形成し得；
Ｒ₃及びＲ₄は、それぞれ互いに独立してＣＮ；−ＣＯＲ₅；−ＣＯＯＲ₅；−ＣＯＮＲ₅Ｒ₆；炭素原子数１乃至２２のアルキル基；炭素原子数２乃至２２のアルケニル基；炭素原子数２乃至２２のアルキニル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルケニル基；炭素原子数７乃至２０のアラルキル基；炭素原子数１乃至２０のヘテロアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロヘテロアルキル基；炭素原子数３乃至１８のヘテロアラルキル基；炭素原子数６乃至２０のアリール基；炭素原子数１乃至１２のアルキルカルボニルアミノ−炭素原子数６乃至２０のアリール基；炭素原子数２乃至１２のヘテロアリール基；又は−Ｘ₂−Ｓｉｌ₂を表し；
ｎは１乃至４の数を表し；
ｎ＝１であるとき、
Ｒ₁及びＲ₂は、それぞれ互いに独立して水素原子；炭素原子数１乃至２２のアルキル基；ヒドロキシ−炭素原子数１乃至２２のアルキル基；炭素原子数２乃至２２のアルケニル基；炭素原子数２乃至２２のアルキニル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルケニル基；炭素原子数７乃至２０のアラルキル基；炭素原子数１乃至２０のヘテロアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロヘテロアルキル基；炭素原子数６乃至２０のアリール基；炭素原子数３乃至１８のヘテロアラルキル基；炭素原子数２乃至１２のヘテロアリール基；−（ＣＨ₂）_u−ＳｉＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀；又は−Ｘ₁−
Ｓｉｌ₁を表し；
ｎ＝２であるとき、
Ｒ₁及びＲ₂は、それぞれ炭素原子数１乃至６のアルキレン基；又は、Ｒ₁及びＲ₂のうち一方が炭素原子数１乃至６のアルキレン基を表し、そして他方がｎ＝１で定義されているものを表し；
ｎ＝３であるとき、
Ｒ₁及びＲ₂のうち一方が三価の基を表し、そして他方がｎ＝１で定義されているものを表し；
ｎ＝４であるとき、
Ｒ₁及びＲ₂のうち一方が四価の基を表し、そして他方がｎ＝１で定義されているものを表し；
Ｒ₅及びＲ₆は、それぞれ互いに独立して水素原子；炭素原子数１乃至２２のアルキル基、炭素原子数２乃至２２のアルケニル基；炭素原子数２乃至２２のアルキニル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルケニル基；炭素原子数７乃至２０のアラルキル基；ＣＯＲ₇；炭素原子数１乃至２０のヘテロアルキル基；
炭素原子数３乃至１２のシクロヘテロアルキル基；炭素原子数３乃至１８のヘテロアラルキル基；炭素原子数６乃至２０のアリール基；炭素原子数１乃至５のアルコキシ基−炭素原子数６乃至２０のアリール基；−（ＣＨ₂）_t−ＳＯ₃Ｈ；−（ＣＨ₂）_v−（ＣＯ）−Ｏ
Ｒ₇；−（ＣＨ₂）_t−Ｏ−炭素原子数６乃至１０のアリール基；炭素原子数２乃至１２の
ヘテロアリール基；−（ＣＨ₂）_u−ＳｉＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀；又は−Ｘ₂−Ｓｉｌ₂基を表し；
Ｒ₇は水素原子；炭素原子数１乃至２２のアルキル基；炭素原子数２乃至２２のアルケニ
ル基；炭素原子数２乃至２２のアルキニル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルケニル基；炭素原子数７乃至２０のアラルキル基；炭素原子数１乃至２０のヘテロアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロヘテロアルキル基；炭素原子数３乃至１８のヘテロアラルキル基；炭素原子数６乃至２０のアリール基；又は炭素原子数２乃至１２のヘテロアリール基を表し；
Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀は、それぞれ互いに独立して炭素原子数１乃至２２のアルキル基；炭素原子数６乃至２０のアリール基；炭素原子数１乃至２２のアルコキシ基；又はＯ−炭素原子数６乃至２０のアリール基を表し；
又は、
Ｌ₃及びＲ₁、Ｒ₃及びＲ₄、Ｒ₁及びＲ₂、Ｒ₅及びＲ₆は結合して１、２、３又は４員の炭素環、又は、Ｎ、Ｏ及び／又はＳ−ヘテロ環を形成し得、それらはさらに他の芳香環と融合し得、そしてＮ−ヘテロ環の各Ｎ原子は非置換であるか又はＲ₁₁で置換され得、
そして、各アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はシクロアルキレン基は非置換であるか又は１つ以上のＲ₁₂で置換され得、
そして各アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基またはアラルキレン基は非置換であるか又は１つ以上のＲ₁₃で置換され得、
Ｒ₁₁はＲ₁₄；ＣＯＲ₁₄；ＣＯＯＲ₁₄；又はＣＯＮＲ₁₄Ｒ₁₅を表し；
Ｒ₁₂は水素原子、ＯＨ；ＮＲ₁₆Ｒ₁₇；Ｏ−Ｒ₁₆；Ｓ−Ｒ₁₆；ＣＯ−Ｒ₁₆；Ｏ−ＣＯ−Ｒ₁₆；オキソ；チオノ；ＣＮ；ＣＯＯＲ₁₆；ＣＯＮＲ₁₆Ｒ₁₇；ＳＯ₂ＮＲ₁₆Ｒ₁₇；ＳＯ₂Ｒ₁₆；ＳＯ₃Ｒ₁₆；ＳｉＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀；ＯＳｉＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀；ＰＯＲ₈Ｒ₉；又は−Ｘ₃−Ｓｉｌ₃基を
表し；
Ｒ₁₃は、炭素原子数１乃至１２のアルキルチオ基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルキルチオ基；炭素原子数１乃至１２のアルケニルチオ基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルケニルチオ基；炭素原子数１乃至１２のアルコキシ基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルコキシ基；炭素原子数１乃至１２のアルケニルオキシ基；又は非置換の若しくは１つ以上のＲ₁₂で置換された炭素原子数３乃至１２のシクロアルケニルオキシ基；ハロゲン原子；ＣＮ；ＳＨ；ＯＨ；ＣＨＯ；Ｒ₁₈；ＯＲ₁₈；ＳＲ₁₈；Ｃ（Ｒ₁₈）＝ＣＲ₁₉Ｒ₂₀；Ｏ−ＣＯ−Ｒ₁₉；ＮＲ₁₈Ｒ₁₉；ＣＯＮＲ₁₈Ｒ₁₉；ＳＯ₂ＮＲ₁₈Ｒ₁₉；ＳＯ₂Ｒ₁₈；ＣＯＯＲ₁₈；ＯＣＯＯＲ₁₈；ＮＲ₁₉ＣＯＲ₂₀；ＮＲ₁₉ＣＯＯＲ₂₀；ＳｉＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀；ＯＳｉＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀；Ｐ（＝Ｏ）Ｒ₈Ｒ₉；又は−Ｘ₄−Ｓｉｌ₄基を表し；
Ｒ₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉及びＲ₂₀は、それぞれ互いに独立して水素原子；炭素原子数１乃至２２のアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルキル基；炭素原子数２乃至１２のアルケニル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルケニル基；炭素原子数６乃至２０のアリール基；炭素原子数２乃至１２のヘテロアリール基；炭素原子数７乃至１８のアラルキル基；又は炭素原子数３乃至１８のヘテロアラルキル基を表し；
Ｒ₁₄及びＲ₁₅、Ｒ₁₆及びＲ₁₇、及び／又はＲ₁₈及びＲ₁₉は結合して非置換の、又は炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換されたピロリドン環、ピペリジン環、ピペラジン環又はモルホリン環を形成し得；
Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃及びＸ₄は、それぞれ互いに独立してリンカーを表し；
Ｓｉｌ₁、Ｓｉｌ₂、Ｓｉｌ₃及びＳｉｌ₄は、それぞれ互いに独立してシラン−、オリゴシロキサン又はポリシロキサン部分を表し；
ｔは０乃至１２の数を表し；
ｕは０乃至１２の数を表し；そして
ｖは０乃至１２の数を表す。）で表されるものに対応するメロシアニン誘導体を開示する。該化合物は化粧品用途における紫外線吸収剤として有用である。 （もっと読む）

【解決手段】ヒンダードアミノ基含有シラノール化合物及びそのシラノール縮合体を含有する水溶液。
【効果】本発明の光安定化基（ヒンダードアミノ基）含有シラノール化合物及びそのシラノール縮合体を含有する水溶液は、使用の際にアルコールの生成がなく、高い沸点、低い蒸気圧を有し、かつ水溶液のままで長期保存が可能である。また、使用時には水で希釈して使用できるといった特徴を持つ水溶液として、光安定化基を含有するシランカップリング剤や表面処理剤といった用途で非常に有用である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、優れた放熱性、絶縁性を有する成形物を提供することを課題とする。
【解決手段】金属アルコキシドおよび／または類金属アルコキシドの溶液と、片末端または両末端に該アルコキシドと反応可能な官能基を有するポリオルガノシロキサンの溶液または片末端または両末端に該アルコキシドと反応可能な官能基を有する液状ポリオルガノシロキサンとを混合し、反応を行なって液状有機・無機ハイブリッド低縮合物あるいは有機・無機ハイブリッド低縮合物の溶液を調製し、該液状有機・無機ハイブリッド低縮合物または有機・無機ハイブリッド低縮合物の溶液に無機充填材を添加して２５℃のアスカーＣ硬度を２０以上９０以下のペースト状成形材料を調製し、該ペースト状成形材料を上型と下型とからなる成形装置の下型上に載置し、プレス成形によって所定の形状に成形すると共に該ペースト状成形材料に含まれる揮発成分を外界に逃散せしめかつ該有機・無機ハイブリッド低縮合物を硬化せしめる。 （もっと読む）

【解決手段】一部メチレン基が酸素に置換されていてもよいノルボルナン骨格と珪素原子とが直接結合された構造を有する側鎖を持ったシルセスキオキサンユニットを含有する縮合度が実質的に100％であるシルセスキオキサン系化合物混合物であり、該ノルボルナン骨格の珪素が結合していない側のジメチレン鎖が１つ以上の水素以外の置換基により置換されており、かつ、該ジメチレン鎖上の、より嵩高い置換基がｅｘｏ位を占める異性体の比率の方が高い側鎖を持ったシルセスキオキサンユニットを含有する。
【効果】本発明は、特に化学増幅ポジ型レジスト組成物に好適な実質的に100％の縮合度を持つシルセスキオキサン系化合物あるいはその混合物を与える。更に、本発明により得られる100％の縮合度を持つシルセスキオキサン系化合物混合物を用いたレジスト組成物は、従来のものに比較して、高い解像性、特に微小な繰り返しパターンの形成に対し高い性能を有する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも1つの重合可能なビニル部分を有する親水性二カチオン性シロキサン・プレポリマーに関するものである。このプレポリマーにより、架橋密度と弾性率が小さくなっているが他の特性は犠牲にされないコンタクト・レンズおよび／または生体医学装置が得られる。 （もっと読む）

【課題】ポリシロキサン抗菌剤を提供すること。
【解決手段】開示されるのは、主鎖に少なくとも３個、例えば４個ないし３０００個の、Ｓｉ原子を含有することを特徴とするオリゴ−又はポリシロキサンであって、またその少なくとも１つが、Ｏ原子の開結合（ｏｐｅｎ ｂｏｎｄ）がオリゴ−又はポリシロキサン主鎖の他のＳｉ原子に結合され、また前記Ｓｉ原子の開結合がオリゴ−又はポリシロキサン主鎖の他のＯ原子か又はＲ’₁に結合されるところの、式Ｉ
【化１】


（式中、
Ｒ₁及びＲ’₁は、独立して、炭素原子数１ないし１０のアルキル基を表し、
Ｒ₂及びＲ₃は、独立して、炭素原子数１ないし１８のアルキレン基を表し、
Ｘは、Ｏ、ＮＲ₄、Ｎ（ＣＯＲ’₅）、ＣＯＮＲ’₄ 、ＯＣＯＮＲ’₄から選択される二価
のスペーサー基を表し、
Ｙは、ＯＣＯＲ₅、ＮＨＣＯＲ₅、ＮＨＲ₄、ＣＯＯＲ₅、ＣＯＮＨＲ₄、ＮＲ’₄Ｒ₄から選
択され、
Ｒ₄は、少なくとも１つのアリール部分を含有する炭素原子数６ないし１８の有機残基か
ら選択され、
Ｒ’₄は、Ｒ₄に対して定義される通りであり、又はＨ、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数７ないし２０のフェニルアルキル基、炭素原子数４ないし１２のシクロアルキル基から選択され、
Ｒ₅はＲ₇−Ｚを表し、
Ｒ’₅は、Ｒ₅に対して定義される通りであり、又はＨ、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数７ないし２０のフェニルアルキル基、炭素原子数４ないし１２のシクロアルキル基から選択され、
Ｒ₇は、フェニレン基、炭素原子数４ないし１２のシクロアルキレン基、Ｏ、ＮＲ’₄によって中断され得る炭素原子数１ないし２０のアルキレン基を表し、又は未置換のもしくは置換されたフェニレン基又は炭素原子数４ないし１２のシクロアルキレン基を表し、
Ｚは、ハロゲン原子又はＮ⁺Ｒ₈Ｒ₉Ｒ₁₀を表し、
Ｒ₈、Ｒ₉及びＲ₁₀は、独立して、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数７ないし２０のフェニルアルキル基、炭素原子数４ないし１２のシクロアルキル基、未置換の又は置換されたアリール基を表し、又はＲ₈、Ｒ₉及びＲ₁₀のうちの２つは、一緒になって結合され、ピペリジン環のような４ないし６個の炭素原子からなる四級化脂肪族、置換された又は未置換のＮ複素環を形成し、又は全てのＲ₈、Ｒ₉及びＲ₁₀は、一緒になって結合され、それらが結合する窒素原子と一緒になって、４ないし７個の炭素原子からなる置換された又は未置換のN複素環系を形成する。）で表される部分に含有される。新規な化合
物は抗菌剤として効果的である。 （もっと読む）

【課題】新規なシルセスキオキサン系組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ＨＳｉＯ_３／２単位及びＲＳｉＯ_３／２単位を有するシルセスキオキサン樹脂（式中、Ｒは酸解離性基を示す。）と、（ｂ）７−ジエチルアミノ−４−メチルクマリンと、を含有するシルセスキオキサン系組成物。このシルセスキオキサン系組成物は、基板上にパターン形状を形成する際のポジ型レジスト組成物として有用であり、特に１９３ｎｍ及び１５７ｎｍの多層（すなわち２層）フォトリソグラフィ用途において有用である。 （もっと読む）

本発明は、第一の段階において、一般式ＨＯ（Ｒ_２ＳｉＯ）_ｍ（ＨＲＳｉＯ）_ｎＨ （Ｉ）のＯＨ末端の主として線状のシロキサン（１）と、ｋ＝０の時、Ｈ_２Ｃ＝ＣＲ^３−Ｚ （２ａ）およびｋ＝１の時、Ｒ^４Ｃ≡Ｃ−Ｚ （２ｂ）の群から選択された式Ｃ_ｆＨ_{２ｆ−２ｋ−１}−Ｚ （ＩＩ）の有機化合物（２）とを反応させ、かつ第二の段階において、第一の段階において得られた一般式ＨＯ（Ｒ_２ＳｉＯ）_ｍ（（Ｚ−Ｃ_ｆＨ_{２ｆ−２ｋ}）ＲＳｉＯ）_ｎ−ｏ（ＨＲＳｉＯ）_ｏＨ （ＩＩＩ）［式中、ｏは、０でありまたは１〜１０の整数である］のシロキサンジオール（３）を縮合し、その際、基および添え字は請求項１の中で示された意味を有することを特徴とする、高分子量のシロキサンポリマーの製造法に関する。 （もっと読む）

本発明は、他の性質を低減させずに、架橋密度および弾性率が減少したコンタクトレンズおよび／または生物医学用具が得られる、２つの重合性ビニル部分の代わりに１つの重合性ビニル部分を持つ親水性ジカチオンシロキサンプレポリマーに関する。 （もっと読む）

【課題】レジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、特に、焦点深度（ＤＯＦ）に優れ、かつ現像欠陥が著しく低減された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸解離性基含有シロキサン樹脂および（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有し、形成された被膜に露光したのち加熱処理したとき、該被膜の未露光部の水との接触角（α）と露光部の水との接触角（β）との差（α−β）が（α−β）＞５度を満たすことを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で表される含フッ素ケイ素化合物。


(Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Ｙは二価の有機基を表す。Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Ｒ¹、Ｒ²は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。)
【効果】本発明は、膨潤によるパターン崩壊を極力抑制して微細パターン形成を可能とする適度な酸性を有し、かつ、有機膜へのパターン転写の際のエッチング条件に対し優れたエッチング耐性を実現するために必要十分な数のフッ素置換によりこの適度な酸性を実現するケイ素化合物とシリコーン樹脂を提供し、このため、特にＡｒＦ露光における二層レジストの原料として好適である。 （もっと読む）

【解決手段】(A)式(1)、(2)、(3)の化合物を含む加水分解性シランモノマー混合物の共加水分解・縮合により得たシリコーン樹脂、
(B)酸発生剤、
(C)含窒素有機化合物、
(D)有機溶剤
を含有するレジスト組成物。


R⁵R⁶_qSiX_3-q (2)
R⁷R⁸_rSiX_3-r (3)
(R¹、R²、R³は水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基で、少なくとも一つはフッ素原子を含む。R⁴は炭化水素基、R⁵は官能基として酸分解性保護基で保護されたカルボキシル基を持つ有機基、R⁶はR⁴と同定義、R⁷は官能基としてラクトン環を有する有機基、R⁸はR⁴と同定義。Xは水素原子、塩素原子、臭素原子又はアルコキシ基、pは0又は1、qは0又は1、rは0又は1。)
【効果】本発明のレジスト組成物は、従来の近接位炭素がフッ素化されたアルコールを極性基とする組成物と同等以上の解像性を示し、酸素反応性エッチングにおけるエッチング選択比の問題もなく、ArF露光の２層レジスト法に好適である。 （もっと読む）

【解決手段】(A)式(1)〜(3)の化合物を含む加水分解性シランモノマー混合物の共加水分解・縮合により得たシリコーン樹脂、
(B)酸発生剤、
(C)含窒素有機化合物、
(D)有機溶剤
を含有するレジスト組成物。


R³R⁴_qSiX_3-q (2)
R⁵R⁶_rSiX_3-r (3)
(R¹はフッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基。R²は炭化水素基、R³は官能基として酸分解性保護基で保護されたカルボキシル基を持つ有機基、R⁴はR²と同定義、R⁵は官能基としてラクトン環を有する有機基、R⁶はR²と同定義。Xは水素原子、塩素原子、臭素原子又はアルコキシ基、pは0又は1、qは0又は1、rは0又は1。)
【効果】本発明のレジスト組成物は、従来の近接位炭素がフッ素化されたアルコールを極性基として使用したレジスト組成物に対し同等以上の解像性を示し、酸素反応性エッチングにおいて有機材料である下層膜との間でエッチング選択比がとれないという問題を解決でき、ArF露光における2層レジスト法に好適である。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジストとして、ポリシロキサンに基づく良好な特性とレジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、ラインエッジラフネス、焦点深度等に優れたポリシロキサンの提供。
【解決手段】下記の一般式（Ｉ）


（Ｒ^２は１価の酸解離性基）及び、ケイ素原子に直接水素原子が結合したシロキサン単位、さらにケイ素原子に炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を介して、炭素数１〜２０のアルコキシ基、シアノ基又は水酸基が結合したシロキサン単位で表される構造単位を有するポリシロキサン、並びに当該ポリシロキサン、及び感放射線性酸発生剤を含有してなる感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）