【解決手段】（Ａ）水酸基又は加水分解性基を有するジオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）下記一般式（１）


（Ｒ、Ｒ¹及びＲ²は一価炭化水素基で、ａは２又は３。）
で表されるシリルケテンアセタール型化合物、その部分加水分解縮合物又はそれらの混合物、
（Ｃ）微粉末シリカ、煙霧質シリカ、シリカエアロゲル、沈降シリカ、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、炭酸亜鉛、炭酸マグネシウム、カーボン、及びこれらの表面をシラン処理したものから選ばれる１種又は２種以上の充填剤、
（Ｄ）有機金属触媒
を含有してなる室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
【効果】本発明の室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、特に耐湿性、耐水性、耐寒性に優れた硬化物を与え、更に例えば６ヶ月間の貯蔵後でも、空気中に曝すと速やかに硬化して、優れた上記物性を示す。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＨ官能基を分解することなく分枝ヒドロシロキサンを製造するための簡単な１段階方法を提供する。
【解決手段】１以上の低分子量ＳｉＨ−官能性シロキサン、１以上の低分子量ＳｉＨ−のないシロキサン、１以上のテトラアルコキシシラン、及び任意選択により１以上のトリアルコキシシランの混合物を、水を添加し、かつ、ブレンステッド酸性イオン交換体の存在下で反応させることにより、液体状の分枝ＳｉＨ−官能性シロキサンを製造する方法（当該反応は１つのプロセス工程で行われることを特徴とする）による。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光透過率、耐光性及び耐熱性、光屈折率、機械的強度などの特性において優れており、成形する場合、殆ど収縮のないＬＥＤ封止用シロキサン樹脂を製造することのできるＬＥＤ封止用シロキサン樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、有機アルコキシシランと有機シランジオールとの非加水縮合反応、または、有機アルコキシシラン及び金属アルコキシドの混合物と、有機シランジオールとの非加水縮合反応によって製造される有機オリゴシロキサンハイブリッドを含有するＬＥＤ封止用樹脂組成物を提供する。前記の有機オリゴシランハイブリッドは、縮合度の高い無機網目構造を有し、少なくとも１つ以上の有機基または有機官能基を包含する。また、本発明は、前記のＬＥＤ封止用樹脂組成物を使用してＬＥＤのカプセル化物質とすることができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、側鎖にアルキルスルホンアミド基を含有する構成単位、およびそれぞれ他の特定構造を有する２種類の構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。 （もっと読む）

【課題】有機チタノシリケートを含む塗料組成物であっても劣化しにくく、また、耐候性に優れた被膜を形成することができる新規の塗料組成物を提供する。
【解決手段】本発明の塗料組成物は、Ｍ−Ｏ−Ｍ（Ｍは珪素原子または金属原子をそれぞれ独立に示す）で表される結合を含む珪素および金属の酸化物からなるとともに少なくとも一部の珪素原子に結合している有機基をもち、金属原子の少なくとも一部がチタン原子である有機チタノシリケートを溶媒に溶解させてなる塗料組成物であって、さらに、ラジカル捕捉能および／または酸化防止能を有する安定剤を含むことを特徴とする。チタン原子の遷移による酸化雰囲気の形成を防止したり、ラジカルを捕捉したりする安定剤を添加することにより、被膜の劣化が防止される。そして、安定剤の添加により、被膜の劣化の防止のみならず、耐候性の向上も達成される。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒、塩基性極性溶媒、界面活性剤の存在下において、アルコキシシランおよび有機化アルコキシシランの自己組織化により得られることを特徴とする表面が有機修飾され、粒子径の制御された球状シリカを提供する。
【解決手段】有機溶媒、塩基性極性溶媒、界面活性剤の存在下において、アルコキシシラン（Ａ）および有機化アルコキシシラン（Ｂ）の自己組織化により得られることを特徴とする表面が有機修飾された球状シリカの製造法。 （もっと読む）

【課題】有機無機複合体を容易に回収することが可能な新規の合成方法を提供する。
【解決手段】Ｍ−Ｏ−Ｍ（Ｍは珪素原子または金属原子をそれぞれ独立に示す）で表される結合を含む珪素および金属の酸化物からなるとともに少なくとも一部の珪素原子に結合している有機基をもつ有機無機複合体の合成方法であって、
１以上のアルコキシ基をもち有機基と共有結合で結合した珪素原子を有するオルガノアルコキシシランおよび金属原子を含む金属化合物を極性溶媒である第一溶媒に溶解して原料溶液を調製する調製工程と、
オルガノアルコキシシランと金属化合物とを加水分解するとともに脱水縮合させて有機無機複合体を合成する反応工程と、
反応工程後の溶液に該溶液と相溶しない第二溶媒を加えて有機無機複合体を第二溶媒に溶解させた後、第二溶媒と相溶しない溶液を除去する除去工程と、
を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＨ官能性分岐シロキサンを調製する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、１種またはそれ以上の低分子量ＳｉＨ官能性シロキサン、１種またはそれ以上の、ＳｉＨ基を含まない低分子量シロキサン、および１種またはそれ以上のトリアルコキシシランの混合物を、少なくとも１種のブレンステッド酸触媒の存在下に水を加えて転化させることによる、ＳｉＨ官能性分岐シロキサンの調製方法であって、この反応が、１回の処理工程で実施されることを特徴とする方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】シラン系化合物を採用した有機電解液及びリチウム電池を提供する。
【解決手段】リチウム塩と、高誘電率溶媒を含む有機溶媒と、特定構造式のシラン系化合物と、を含む有機電解液により、電解質の分解を抑制してサイクル特性が改善され、寿命の劣化を抑制しうる。 （もっと読む）

【課題】高い誘電率の絶縁膜を形成することができ、しかも表面平滑性が損なわれがたい、シルセスキオキサン系絶縁材料を提供する。
【解決手段】下記の式（１）で示す構造を有するポリシルセスキオキサンを含むことを特徴とする。
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【課題】
【解決手段】 化学式（２）を有する発色団置換ポリオルガノシロキサンを含むシリコーン液体であって、ｘは６０〜２０００の範囲の整数でありｙは５〜１００の範囲の整数であり、ｘ：ｙの比は約１０：１〜約２０：１の範囲内であり、Ｘは光安定化発色団である、シリコーン液体。 （もっと読む）

【課題】
半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいて用いられるレジスト下層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】 半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいてフォトレジストの下層に使用されるレジスト下層膜を電子線照射によって硬化する組成物であって、重合性物質を含むレジスト下層膜形成組成物。前記重合性物質が電子線照射により重合可能な反応性基を少なくとも一つ有する化合物である。電子線照射による重合可能な反応性基が、炭素と炭素の不飽和多重結合を有する反応性基、又はエポキシ基を有する反応性基である。炭素と炭素の不飽和多重結合を有する反応性基が、アクリレート基、メタクリレート基、又はビニルエーテル基である。 （もっと読む）

【課題】新規なポリシラン化合物及びその合成方法の提供、並びに上記化合物を用いた、硬化（重合）速度が高く、保存安定性に優れる紫外線硬化型のインク組成物の提供。上記インクを用いたインクジェット記録方法、上記インクが収容されてなる容器及び記録装置の提供。
【解決手段】下記式１で表される構造を有する紫外線硬化型インク組成物。
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本発明の主題は、
ａ）コア−オルガノポリシロキサンポリマーＡ、コポリマーの全質量に対して１０〜９５質量％、
ｂ）式
（Ｒ₃ＳｉＯ_1/2）_w（Ｒ₂ＳｉＯ_2/2）_x・（Ｒ₁ＳｉＯ_3/2）_y・（ＳｉＯ_4/2）_z
［式中、ｗ＝０〜２０Ｍｏｌ％、ｘ＝０〜９９．５Ｍｏｌ％、ｙ＝０．５〜１００Ｍｏｌ％、ｚ＝０〜５０Ｍｏｌ％である］
の単位からなるポリジアルキルシロキサンシェルＢ、コポリマーの全質量に対して０．５〜３０質量％、
ｃ） モノオレフィン系不飽和モノマー又はポリオレフィン系不飽和モノマーのオルガノポリマーからなるシェルＣ、コポリマーの全質量に対して０〜８９．４５質量％及び
ｃ） モノオレフィン系不飽和モノマーのオルガノポリマーからなるシェルＤ、コポリマーの全質量に対して０．０５〜８９．５質量％
から構成され、
上記式中、Ｒは、請求項１に記載した意味合いを有し、かつ、この粒子は、１０〜３００ｎｍの平均粒径及び単峰性の粒径分布を有し、
但し、ポリジアルキルシロキサンシェルＢ中で少なくとも５％の残基Ｒは、アルケニル残基、アシルオキシアルキル残基及びメルカプトアルキル残基から選択される意味合いを有する、との条件付きである、
エラストマーの粒子形状のコア−シェルコポリマー及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】優れた柔軟性、平滑性を付与することができ、さらには黄変化、経時安定性の低化、風合いや感触などの優れた繊維処理剤を提供する。
【解決手段】[R_bSiO_(4-b)/2]単位及び[R_cASiO_(3-c)/2]単位を構成単位とするアミノシリコーンを有効成分とする繊維処理剤。
（ここで、Rは炭素数が１〜20の非置換または置換の１価炭化水素基である。Ａは式-R¹-NR²R³ で示され、R¹は炭素数１〜10の２価の分岐鎖を有する炭化水素基であり、R²、R³ は水素原子または非置換または置換の炭素数１〜20の１価炭化水素基である。さらにｂ＝１〜３、ｃ＝０〜２である。） （もっと読む）

【課題】メロシアニン誘導体。
【解決手段】式（１）


（式中、
Ｌ₁、Ｌ₂及びＬ₃は、それぞれ互いに独立して水素原子を表し；又はＬ₁及びＬ₃は結合し
て炭素環を形成し得；
Ｒ₃及びＲ₄は、それぞれ互いに独立してＣＮ；−ＣＯＲ₅；−ＣＯＯＲ₅；−ＣＯＮＲ₅Ｒ₆；炭素原子数１乃至２２のアルキル基；炭素原子数２乃至２２のアルケニル基；炭素原子数２乃至２２のアルキニル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルケニル基；炭素原子数７乃至２０のアラルキル基；炭素原子数１乃至２０のヘテロアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロヘテロアルキル基；炭素原子数３乃至１８のヘテロアラルキル基；炭素原子数６乃至２０のアリール基；炭素原子数１乃至１２のアルキルカルボニルアミノ−炭素原子数６乃至２０のアリール基；炭素原子数２乃至１２のヘテロアリール基；又は−Ｘ₂−Ｓｉｌ₂を表し；
ｎは１乃至４の数を表し；
ｎ＝１であるとき、
Ｒ₁及びＲ₂は、それぞれ互いに独立して水素原子；炭素原子数１乃至２２のアルキル基；ヒドロキシ−炭素原子数１乃至２２のアルキル基；炭素原子数２乃至２２のアルケニル基；炭素原子数２乃至２２のアルキニル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルケニル基；炭素原子数７乃至２０のアラルキル基；炭素原子数１乃至２０のヘテロアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロヘテロアルキル基；炭素原子数６乃至２０のアリール基；炭素原子数３乃至１８のヘテロアラルキル基；炭素原子数２乃至１２のヘテロアリール基；−（ＣＨ₂）_u−ＳｉＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀；又は−Ｘ₁−
Ｓｉｌ₁を表し；
ｎ＝２であるとき、
Ｒ₁及びＲ₂は、それぞれ炭素原子数１乃至６のアルキレン基；又は、Ｒ₁及びＲ₂のうち一方が炭素原子数１乃至６のアルキレン基を表し、そして他方がｎ＝１で定義されているものを表し；
ｎ＝３であるとき、
Ｒ₁及びＲ₂のうち一方が三価の基を表し、そして他方がｎ＝１で定義されているものを表し；
ｎ＝４であるとき、
Ｒ₁及びＲ₂のうち一方が四価の基を表し、そして他方がｎ＝１で定義されているものを表し；
Ｒ₅及びＲ₆は、それぞれ互いに独立して水素原子；炭素原子数１乃至２２のアルキル基、炭素原子数２乃至２２のアルケニル基；炭素原子数２乃至２２のアルキニル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルケニル基；炭素原子数７乃至２０のアラルキル基；ＣＯＲ₇；炭素原子数１乃至２０のヘテロアルキル基；
炭素原子数３乃至１２のシクロヘテロアルキル基；炭素原子数３乃至１８のヘテロアラルキル基；炭素原子数６乃至２０のアリール基；炭素原子数１乃至５のアルコキシ基−炭素原子数６乃至２０のアリール基；−（ＣＨ₂）_t−ＳＯ₃Ｈ；−（ＣＨ₂）_v−（ＣＯ）−Ｏ
Ｒ₇；−（ＣＨ₂）_t−Ｏ−炭素原子数６乃至１０のアリール基；炭素原子数２乃至１２の
ヘテロアリール基；−（ＣＨ₂）_u−ＳｉＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀；又は−Ｘ₂−Ｓｉｌ₂基を表し；
Ｒ₇は水素原子；炭素原子数１乃至２２のアルキル基；炭素原子数２乃至２２のアルケニ
ル基；炭素原子数２乃至２２のアルキニル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルケニル基；炭素原子数７乃至２０のアラルキル基；炭素原子数１乃至２０のヘテロアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロヘテロアルキル基；炭素原子数３乃至１８のヘテロアラルキル基；炭素原子数６乃至２０のアリール基；又は炭素原子数２乃至１２のヘテロアリール基を表し；
Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀は、それぞれ互いに独立して炭素原子数１乃至２２のアルキル基；炭素原子数６乃至２０のアリール基；炭素原子数１乃至２２のアルコキシ基；又はＯ−炭素原子数６乃至２０のアリール基を表し；
又は、
Ｌ₃及びＲ₁、Ｒ₃及びＲ₄、Ｒ₁及びＲ₂、Ｒ₅及びＲ₆は結合して１、２、３又は４員の炭素環、又は、Ｎ、Ｏ及び／又はＳ−ヘテロ環を形成し得、それらはさらに他の芳香環と融合し得、そしてＮ−ヘテロ環の各Ｎ原子は非置換であるか又はＲ₁₁で置換され得、
そして、各アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はシクロアルキレン基は非置換であるか又は１つ以上のＲ₁₂で置換され得、
そして各アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基またはアラルキレン基は非置換であるか又は１つ以上のＲ₁₃で置換され得、
Ｒ₁₁はＲ₁₄；ＣＯＲ₁₄；ＣＯＯＲ₁₄；又はＣＯＮＲ₁₄Ｒ₁₅を表し；
Ｒ₁₂は水素原子、ＯＨ；ＮＲ₁₆Ｒ₁₇；Ｏ−Ｒ₁₆；Ｓ−Ｒ₁₆；ＣＯ−Ｒ₁₆；Ｏ−ＣＯ−Ｒ₁₆；オキソ；チオノ；ＣＮ；ＣＯＯＲ₁₆；ＣＯＮＲ₁₆Ｒ₁₇；ＳＯ₂ＮＲ₁₆Ｒ₁₇；ＳＯ₂Ｒ₁₆；ＳＯ₃Ｒ₁₆；ＳｉＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀；ＯＳｉＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀；ＰＯＲ₈Ｒ₉；又は−Ｘ₃−Ｓｉｌ₃基を
表し；
Ｒ₁₃は、炭素原子数１乃至１２のアルキルチオ基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルキルチオ基；炭素原子数１乃至１２のアルケニルチオ基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルケニルチオ基；炭素原子数１乃至１２のアルコキシ基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルコキシ基；炭素原子数１乃至１２のアルケニルオキシ基；又は非置換の若しくは１つ以上のＲ₁₂で置換された炭素原子数３乃至１２のシクロアルケニルオキシ基；ハロゲン原子；ＣＮ；ＳＨ；ＯＨ；ＣＨＯ；Ｒ₁₈；ＯＲ₁₈；ＳＲ₁₈；Ｃ（Ｒ₁₈）＝ＣＲ₁₉Ｒ₂₀；Ｏ−ＣＯ−Ｒ₁₉；ＮＲ₁₈Ｒ₁₉；ＣＯＮＲ₁₈Ｒ₁₉；ＳＯ₂ＮＲ₁₈Ｒ₁₉；ＳＯ₂Ｒ₁₈；ＣＯＯＲ₁₈；ＯＣＯＯＲ₁₈；ＮＲ₁₉ＣＯＲ₂₀；ＮＲ₁₉ＣＯＯＲ₂₀；ＳｉＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀；ＯＳｉＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀；Ｐ（＝Ｏ）Ｒ₈Ｒ₉；又は−Ｘ₄−Ｓｉｌ₄基を表し；
Ｒ₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉及びＲ₂₀は、それぞれ互いに独立して水素原子；炭素原子数１乃至２２のアルキル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルキル基；炭素原子数２乃至１２のアルケニル基；炭素原子数３乃至１２のシクロアルケニル基；炭素原子数６乃至２０のアリール基；炭素原子数２乃至１２のヘテロアリール基；炭素原子数７乃至１８のアラルキル基；又は炭素原子数３乃至１８のヘテロアラルキル基を表し；
Ｒ₁₄及びＲ₁₅、Ｒ₁₆及びＲ₁₇、及び／又はＲ₁₈及びＲ₁₉は結合して非置換の、又は炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換されたピロリドン環、ピペリジン環、ピペラジン環又はモルホリン環を形成し得；
Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃及びＸ₄は、それぞれ互いに独立してリンカーを表し；
Ｓｉｌ₁、Ｓｉｌ₂、Ｓｉｌ₃及びＳｉｌ₄は、それぞれ互いに独立してシラン−、オリゴシロキサン又はポリシロキサン部分を表し；
ｔは０乃至１２の数を表し；
ｕは０乃至１２の数を表し；そして
ｖは０乃至１２の数を表す。）で表されるものに対応するメロシアニン誘導体を開示する。該化合物は化粧品用途における紫外線吸収剤として有用である。 （もっと読む）

【課題】安定であり、ゲル化が起こり難く、厚膜としてもクラックが生じ難い官能性基含有高分子量オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】加水分解性基を有するシラン化合物を第一次の加水分解および縮合に供してオルガノポリシロキサンを得ることと、該オルガノポリシロキサンをさらに第二次の加水分解および縮合に供することとを含む、ポリスチレン換算の重量平均分子量が3×10⁴以上である高分子量オルガノポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 優れた透明性と機械的強度とを兼ね備え、なおかつその透明性が室温付近だけでなく、温度が上昇しても高い透明性を維持する光学材料用シリコーン系組成物を提供すること。
【解決手段】 （Ａ−１）体積平均粒径が０．０１〜２．０μｍのシリコーンゴム粒子に、（Ａ−２）アルコキシシラン縮合物が被覆した、（Ａ）シリコーンコア−アルコキシシラン縮合物シェル構造を有するシリコーン系重合体粒子、（Ｂ）分子中にアルケニル基を少なくとも１つ有するポリオルガノシロキサン、（Ｃ）オルガノハイドロジェンポリシロキサン、（Ｄ）ヒドロシリル化触媒、（Ｅ）接着性付与剤を含有することを特徴とする光学材料用シリコーン系組成物。 （もっと読む）

【課題】耐光性に優れ、かつ、配向特性に優れ、しかも液晶パネルの長期信頼性も十分に確保できる配向膜を提供する。また、このような配向膜を効率良く製造することが可能な配向膜の形成方法を提供するとともに、この配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供する。
【解決手段】液晶分子の配向を制御する配向膜である。少なくとも有機ケイ素材料で形成され、この有機ケイ素材料は、籠形構造または部分開裂籠形構造を有するポリシルセスキオキサンからなる。このポリシルセスキオキサンは、その分子内に液晶分子との親和性を向上させる親和性付与基と、液晶分子の配向を制御する配向性付与基とを有し、かつ、シラノール基中の水素が置換基により置換されて不活性化されている。 （もっと読む）

【課題】レジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、特に、焦点深度（ＤＯＦ）に優れ、かつ現像欠陥が著しく低減された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸解離性基含有シロキサン樹脂および（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有し、形成された被膜に露光したのち加熱処理したとき、該被膜の未露光部の水との接触角（α）と露光部の水との接触角（β）との差（α−β）が（α−β）＞５度を満たすことを特徴とする。 （もっと読む）