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【課題】誘電特性および機械的強度に優れた有機シリコン酸化膜を形成することができる膜形成用組成物、およびこの膜形成用組成物を用いて形成された有機シリコン酸化膜を備えた絶縁膜、およびこの有機シリコン酸化膜を備えた半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一の態様によれば、下記一般式(I)で表される化合物またはその加水分解脱水縮合物を含むことを特徴とする、膜形成用組成物が提供される。
3−mSiRSiR3−n (I)
(式中、RおよびRは水素原子または1価の置換基であり、Rは炭素数4の脂環構造を含む2価の基あるいはその誘導体であり、XおよびXは加水分解性基であり、mおよびnは0〜2の整数である。) (もっと読む)


【課題】汚れが付き難い、目立ち難い、及び、拭き取り易いという3つの要求のバランスが取れた表面を与える表面処理剤を提供することを目的とする。
【解決手段】下記式(1)で示されるパーフルオロポリエーテル残基含有ポリオルガノシロキサン及びそれを含む表面処理剤である。



[式(1)中、Rfは2価のパーフルオロポリエーテル残基、QはRf基とZとを連結する2価の基、Zはシロキサン結合を3個以上有する3〜11価のポリオルガノシロキサン残基、Rは炭素数8〜40の1価の有機基、nは1〜8の整数、Aは下記式(2)に示した基であり、kは1〜9の整数、但し、n+k=(Zの価数−1)である。



(式(2)中、R’は炭素数1〜4のアルキル基、又はフェニル基、Xは加水分解性基であり、aは2又は3、bは2〜10の整数である。)] (もっと読む)


【課題】もろい材料からなる型を用いての転写成型プロセスに適した、優れた成型性を有する高屈折率感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記(a)〜(d)成分:(a)式:RSi(OH)で示されるシラノール化合物、式:RSi(OR4−a−bで示されるアルコキシシラン化合物、及び触媒を混合し、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン100質量部、(b)光重合開始剤0.1〜30質量部、(c)紫外線吸収剤、及びヒンダードアミンを含む光安定剤からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物0.1〜20質量部、及び(d)1分子内に1つ又は2つの(メタ)アクリロイル基を有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物10〜1000質量部、を含む感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】耐光性に優れ、簡便な方法で形成が可能な反射防止能を有する積層体を提供する。
【解決手段】基材と、オルガノシランを含むシラン化合物(a1)の硬化物から得られるポリオルガノシロキサン(A)および金属酸化物粒子(B)とを含有する下記式(1)の層(I)と、オルガノシランを含むシラン化合物(c1)の硬化物から得られるポリオルガノシロキサン(C)を含有する下記式(2)の層(II)とを有する積層体。
Si(OR4−n (1)
Si(OR4−m (2) (もっと読む)


【課題】耐クラック性、パターニング性および耐熱性に優れる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】下記成分(A)及び(B)を含有することを特徴とする感放射線性組成物。
(A)下記一般式(1)で表される加水分解性シラン化合物、該加水分解性シラン化合物の加水分解物、及び該加水分解物の縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種


[一般式(1)中、Rは、炭素数1〜12のアルキル基等である。Rは、置換基を有してもよい炭素数2〜30のアルキレン基等である。Xは加水分解性基である。Aは4価の有機基を示す。pは各々独立に0〜2の整数であり、qは各々独立に1〜3の整数であり、かつp+q=3である。]
(B)光酸発生剤 (もっと読む)


【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を基板上に形成した場合に、得られたパターン膜の柔軟性を高めることができ、従ってパターン膜の耐久性を高めることができる感光性組成物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される少なくとも1種のシラン化合物を重合させることにより得られたシロキサンポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記式(1)で表される少なくとも1種のシラン化合物に、下記式(1)で表され、かつ下記式(1)中のpが2であるシラン化合物が含まれており、上記シロキサンポリマーの重量平均分子量が500〜60000の範囲内にあり、上記シロキサンポリマーの固形分酸価が5〜800KOHmg/gの範囲内にある感光性組成物。
Si(X)(R)4−p ・・・式(1)
上記式(1)中、Xは加水分解性基を表し、Rは炭素数1〜30の非加水分解性の有機基を表し、pは1〜4の整数を表す。 (もっと読む)


【課題】 基材に対する密着性に優れるとともに、耐熱性、耐薬品性に優れた硬化物の得られる硬化性樹脂組成物を得る。
【解決手段】 本発明の硬化性樹脂組成物は、下記式(1)
【化1】


(式中、Raは水素原子又は炭素数1〜7のアルキル基を示し、Aは単結合又は2価の炭化水素基を示す。Rb、Rcは炭素数1〜6のアルキル基等を示し、Rdは炭素数1〜6のアルキル基を示す。xは0又は1であり、yは1〜10の整数である)で表される一種又は複数種のアルコキシシリル基含有ビニル単量体aのみをモノマー成分とする重合体Aと、前記式(1)で表されるアルコキシシリル基含有ビニル単量体a、3〜5員の環状エーテル基を有するビニル単量体b、及び側鎖にε−カプロラクトン開環重合鎖部を有するヒドロキシル基含有ビニル単量体cをモノマー成分として含有してなる共重合体Bとを含む。 (もっと読む)


【課題】生成された加硫物の機械的性質を劣化させることなく(例えば、係数低下)、製造工程においてゴムの粘性を改善する化合物を提供すること。
【解決手段】本発明において使用されるポリオルガノシロキサンは、3以上のシロキサンユニットを有すると共に、(i)1以上の炭素−炭素多重結合を有する1以上の有機基R、及び(ii)炭素原子5〜50個の鎖長を有する1以上の炭化水素基Rを有する。 (もっと読む)


【課題】 触媒層表面に存在する疎水剤の流出を防止し、長時間の耐水性が良い触媒層、膜電極接合体、燃料電池、及び触媒層の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の第一は、白金及び金を含む触媒構造体と、プロトン伝導性電解質と、疎水性基及び−SHを含む基を有するシロキサン重合体と、を有し、
前記シロキサン重合体の−SHを含む基の硫黄原子と前記触媒構造体が有する金とがチオール結合によって結合していることを特徴とする触媒層。 (もっと読む)


改善された相溶性を有し、改善された日焼け防止を提供するパーソナルケア組成物が、組成物に50モルパーセントを超えるMe3SiO1/2およびPrSiO3/2両単位(式中、Meはメチルであり、Prはプロピルである)を有する液状シリコーン樹脂を含むことによって得られる。パーソナルケア組成物を構成する成分のさらなる相溶性を可能することが望まれるならば、液状シリコーン樹脂はまた、PhSiO3/2またはPh2SiO2/2単位(式中、Phはフェニルである)またはこれらの混合を含め得る。 (もっと読む)


【課題】混合前の液状組成物は各々低粘度であるものの、これら液状組成物を混合した際に増粘して良好な作業性を与え、なおかつ硬化後の皮膜物性に影響を与えにくい、混合硬化型硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、エポキシ樹脂の硬化剤、水及び下記式で表されるアルキルシリケート化合物を含む液状組成物とからなることを特徴とする、混合増粘型硬化性樹脂組成物を用いる。少なくとも二つの液状組成物を混合することによって硬化する硬化性樹脂組成物であって、これら液状組成物が(A)エポキシ樹脂と下記式で示されるシリケート化合物を含む液状組成物と、(B)エポキシ樹脂の硬化剤と水とを含む液状組成物とからなることが好ましい。
(もっと読む)


【課題】十分な解像度を持ち、露光マージンが広く、平坦化性能に優れ、高温の加熱工程を経ても高い透明性を維持することができ、金属配線を経時劣化することのない配線隔壁形成用感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、(A)(a−1)アリール基を有するアルコキシシラン化合物50〜99重量%、(a−2)アルキル基を有するシラン化合物1〜45重量および(a−3)その他のアルコキシシラン化合物0〜5重量%を重縮合してなるポリシロキサンならびに(B)放射線の照射を受けて酸を発生する化合物を含有する。 (もっと読む)


【課題】弾性率、機械強度等の基本的性能に加えて、特に耐熱性や低誘電性、低誘電正接等の特性に優れ、高温環境下においても各種物性の低下が低い成型体を形成できる繊維複合樹脂組成物として、特に自動車等の構造部材用途、スポーツ製品用途、プリント配線基板等の実装用途等に好適に使用することができる熱硬化性樹脂組成物、繊維複合樹脂組成物及びそれを硬化して得られる成型体を提供する。
【解決手段】繊維複合樹脂組成物を調製するために用いられる熱硬化性樹脂組成物であって、上記熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂及び下記平均組成式(m)で表されるシラン化合物(I)を必須成分として含有し、熱硬化性樹脂組成物を100質量%とすると、シラン化合物(I)が5〜80質量%であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
XaYbZcSiOd (m)
式中、Xは、同一若しくは異なって、イミド結合を有する有機骨格を表す。Yは、同一若しくは異なって、水素原子、水酸基、ハロゲン原子及びOR基からなる群より選ばれる少なくとも1種を表す。Rは、同一若しくは異なって、アルキル基、アシル基、アリール基及び不飽和脂肪族残基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を表し、置換基があってもよい。Zは、同一若しくは異なって、イミド結合を有さない有機基を表す。aは、0でない3以下の数であり、bは、0又は3未満の数であり、cは、0又は3未満の数であり、dは、0でない2未満の数であり、a+b+c+2d=4である。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、硬化反応を円滑に行うことが出来、未反応や低分子シロキサンが揮発することがないか、揮発量が極めて微量となる、ハイブリッド組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】 シリケート化合物と、末端をシリケート変性したポリジメチルシロキサンとを有する混合物を、加水分解反応および縮合反応によって得られるハイブリッド組成物により、低分子シロキサンを含まないハイブリッド組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】はんだリフロー工程等の高温条件下でもパッケージ基材からの剥離等が発生しない硬化体を与える光半導体封止用重合体およびその製造方法を提供すること、およびmm単位の膜厚を有する硬化体を形成した場合でも十分な硬化性とクラック耐性とを併せ持つ光半導体封止用重合体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】下記(i)(ii)工程を含む、重量平均分子量が1000〜100000の範囲にある光半導体封止用重合体の製造方法。(i)特定の構造を有するエポキシ基含有アルコキシシラン(A)と、重量平均分子量が1000〜20000の範囲にあるヒドロキシ末端ポリジメチルシロキサン(B)とを塩基性化合物または金属キレート化合物の存在下反応させる工程、(ii)工程(i)で得られた生成物を塩基性化合物または金属キレート化合物の存在下、水と反応させる工程。 (もっと読む)


【課題】数ミクロンまたはそれ以下の平均粒径を有することにより分離能に優れる、実用可能な液体クロマトグラフィーカラム充填剤用シリカゲルを提供する。
【解決手段】水より極性の低い有機溶媒と水との混合溶媒中で、アルコキシシラン化合物又はその誘導体を、触媒の存在下、加水分解し、得られた反応混合物にマイクロ波を照射することにより得られるシリカゲル粒子を備える液体クロマトグラフィーカラム充填剤用シリカゲル。 (もっと読む)


【課題】高プロトン伝導性を有し、燃料遮断性及び耐久性にも優れるプロトン伝導性膜の提供。
【解決手段】ケイ素−酸素結合を有する架橋性化合物(A’)、ケイ素−酸素−ケイ素結合を形成し得る基及び重合性不飽和二重結合を有するシラン化合物(α)、酸基及び重合性不飽和二重結合を有する酸基含有化合物(β)及び重合開始剤を混合して、重合性組成物を調製する第一工程と、該重合性組成物を成膜する第二工程と、成膜した重合性組成物を重合させる第三工程とを有し、前記構造体(A’)が、下記一般式(1’)で表され、前記重合開始剤として、10時間半減期温度が異なる複数種類の重合開始剤を使用することを特徴とするプロトン伝導性膜の製造方法。
〔化1〕
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【課題】有機ポリマーとのハイブリッド化に汎用的に使用でき、しかも、得られるハイブリッド樹脂の性能に悪影響を及ぼすような化合物を含有しない有機溶剤可溶性のジルコノシロキサンの簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】アルコキシシシラン化合物(a)またはアルコキシシラン化合物(a)を含有する混合物(A)に、アルコキシジルコニウム化合物(b)またはアルコキシジルコニウム化合物(b)を含有する混合物(B)ならびに水または水と水溶性有機溶剤の混合物(C)を添加することによりアルコキシシラン化合物(a)とアルコキシジルコニウム化合物(b)の部分共加水分解縮合を行うことを特徴とする有機溶剤可溶性のジルコノシロキサンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】
膜厚5μmでもRaが0.01以下、Rmaxが0.10以下の優れた平滑性を持ち、かつ、高クラック耐性、高透過性、高耐熱性、高耐溶剤性の特性を有する膜を形成できる特性を有する新規シリコーン重合体を提供する。液晶表示素子や半導体素子等の電子部品の絶縁膜材料として有用なシリコーン重合体を提供する。

【解決手段】
下記一般式
【化1】


(式中、Rはナフタレン環を有する炭化水素基を示す。)
で示される繰り返し単位を有するシリコーン重合体。 (もっと読む)


【課題】優れた耐候性、耐汚染性、耐クラック性を発揮し、かつ透明性も良好な有機・無機複合体を形成可能な有機・無機複合組成物を提供する。
【解決手段】無機酸化物粒子(A)、水溶性樹脂(B)、及び下記式(1)で表される原子団を1分子中に3〜20個有する多官能シラン(C)により構成される有機・無機複合組成物を提供する。
1nSiX3-nA− ・・・(1)
ここで、前記式(1)中、R1は、水素又は炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基を表し、これらの置換基上には、ハロゲン基、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基等の官能基を有していてもよい。
Xは加水分解基を表し、nは0〜2の整数である。
Aはメチレン基を2〜20個含む基であり、置換基を有してもよい。 (もっと読む)


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