【課題】剥離部材の耐久性を増大させるとともに、定着画像の画質を向上させることができる定着装置を提供すること、また、該定着装置を備えた画像形成装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の定着装置は、熱源を有する定着ローラと、該定着ローラに圧接される加圧ローラと、定着ローラの軸方向かつ定着ニップ部の記録媒体搬送方向下流側に、定着ローラに近接して配設される剥離部材とを備えている。剥離部材は、その表面に微小な凹凸が設けられた基材と、該基材の表面側に設けられた被膜とを有するものであり、基材は、表面粗さＲａが０．１〜１．０μｍであり、かつ、表面粗さＲｚが１．０〜９．０μｍであり、被膜は、下記式（Ｉ）で示される含ケイ素化合物の加水分解縮合物を含む材料で構成されたものである。
【化１】
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本発明は、シリコーン樹脂、具体的にはポリメチルビニルシロキサン樹脂の分野に関する。さらに具体的には、本発明は、少なくとも２種の異なるタイプのシロキシ単位Ｒ₃ＳｉＯ_1/2（Ｍ単位）及びＳｉＯ_4/2（Ｑ或いはＱ^OH単位）を含むポリメチルビニルシロキサン樹脂の製造方法において、次の工程：（ａ）単位Ｑを含むシロキサン樹脂をシロキサン樹脂先駆物質、好ましくは珪酸アルカリ金属の酸加水分解によって製造し、（ｂ）工程（ａ）で得られたシロキサン樹脂を非極性溶媒の存在下にハロシランで官能化させ、ここで、該官能化は、揮発性オリゴシロキサンを含む副産物（シロックス）を生じさせ、（ｃ）工程（ｂ）で生じたシロックスを非極性溶媒の溶液の状態で回収し、及び（ｄ）工程（ｂ）で官能化された樹脂を強塩基で転位させてシラノールを除去することを含み、しかも、工程（ｂ）中に生じ且つ工程（ｃ）で回収されたシロックスの少なくとも一部分を再循環させることを特徴とする、ポリメチルビニルシロキサン樹脂の製造方法に関するものである。 （もっと読む）

【課題】剥離部材の耐久性を増大させるとともに、定着画像の画質を向上させることができる定着装置を提供すること、また、該定着装置を備えた画像形成装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の定着装置は、熱源を有する定着ローラと、該定着ローラに圧接される加圧ローラと、定着ローラの軸方向かつ定着ニップ部の記録媒体搬送方向下流側に、定着ローラに近接して配設される剥離部材とを備えている。剥離部材は、基材と、該基材の表面側に設けられた被膜とを有するものであり、被膜は、下記式（Ｉ）で示される含ケイ素化合物の加水分解縮合物を含む材料で構成されたものである。
【化１】
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加水分解反応器、ＨＣｌ精製器、洗浄手段、及び分離器を有するループシステムにおいて、クロロシランが加水分解されて加水分解物にされる。方法のステップは、（ｉ）外部供給源から加水分解反応器へクロロシランを供給すること、（ｉｉ）外部供給源から洗浄手段へ水を供給すること、（ｉｉｉ）少なくとも１０重量パーセントのＨＣｌである高濃度塩酸を、洗浄手段と加水分解反応器との間で、外部供給源から加水分解反応器へ供給すること、（ｉｖ）無水塩化水素をＨＣｌ精製器から除去すること、（ｖ）加水分解物を洗浄手段から除去すること、及び（ｖｉ）０．１重量パーセントから１０重量パーセント未満のＨＣｌである低濃度塩酸をループシステムから除去することを含む。
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【解決手段】 下記一般式（１）で表されるかご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマー。
【化１】


（式中、Ｘは酸素原子を含有する炭素数１〜４０の重合性基を表す。Ｒ¹は同一でも異なってもよく、炭素数１〜２０の飽和炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜２０のオルガノキシ基、ハロゲン原子の中から選ばれる基を表す。Ｒはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜４０の非重合性一価炭化水素基を表し、同一ケイ素原子に結合したＲは互いに同一でも異なっていてもよい。）
【効果】 本発明により、溶媒や他の重合性モノマーとの相溶性を改善した新規なかご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマー及びその製造方法が提供される。また本発明の製造方法によれば、かご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマーが一段階で高純度かつ高収率で得られる。 （もっと読む）

式I(式中のR₁は加水分解可能な基、R₂は分極率を減少させる有機基、R_３は架橋性の炭化水素基である)を有するモノマーを重合してシロキサン材料を形成することによって得られる組成物を備える薄膜。また、本発明は該薄膜を製造する方法に関する。該薄膜は、集積回路装置内の低誘電率誘電体に用いることができる。新規誘電体は半導体基板トポグラフィー上で良好な局部的及び全体的平坦性を生ずる優れた平坦化性能を有し、誘電体及び酸化物ライナー蒸着後の化学機械的平坦化の必要性を減少又は除去する。
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【課題】 溶液プロセスを用いた簡便な方法により形成できるとともに、基板表面に強固に吸着でき、かつ、高い秩序性（結晶性）および高密パッキング特性を有する機能性有機薄膜およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 式；Ａ−Ｂ−Ｃ−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３（Ａは炭素数１〜１５の１価脂肪族炭化水素基；Ｂは酸素原子または硫黄原子；Ｃはπ電子共役を示す２価の有機基；Ｘ^１〜Ｘ^３は加水分解により水酸基を与える基）の有機シラン化合物を用いた機能性有機薄膜。上記有機シラン化合物のシリル基を加水分解して基板表面と反応させ、該基板に直接吸着した単分子膜を形成した後、該単分子膜上の未反応の有機シラン化合物を非水系有機溶剤を用いて洗浄除去する機能性有機薄膜の製造方法。 （もっと読む）

低熱膨張係数、高ガラス転移温度、および高弾性率の樹脂へと硬化可能なシリコーン樹脂が、実験式：
（Ｒ_３ＳｉＯ_１／２）_ａ（Ｒ_２ＳｉＯ_２／２）_ｂ（ＲＳｉＯ_３／２）_ｃ（ＳｉＯ_４／２）_ｄ
を持ち、式中：
各Ｒが、炭化水素もしくは置換炭化水素基または水素原子；
ａ＝０．０２〜０．８；
ｂ＝０〜０．４；および
ｃ＋ｄ＝０．２〜０．９８
ここで、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１．０
であり、該樹脂中のこれらシロキサン単位の少なくとも２モル％が、式Ｒ’_３ＳｉＯ_１／２、ＲＲ’_２ＳｉＯ_１／２、またはＲ’_２ＳｉＯ_２／２であり、式中、各Ｒ’がアルケニル基であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電気・電子材料においては、絶縁性、耐熱性、耐久性、成形性等の更なる改善が求められていて、そのためにかご型構造を有するシルセスキオキサンを主鎖とし、結合の位置が明確に限定され、成形性に優れた共重合体が望まれている。本発明は、従来の化合物を用いる場合には困難であった、主鎖にかご型構造を有するシルセスキオキサンを有する共重合体を提供することを目的とする。
【解決手段】式（１）で示される構成単位を有するケイ素化合物。式（１）において、ｍは１〜３０の整数であり、Ｒ^０はアリールまたはシクロアルキルであり、Ｒ^１およびＲ^２は独立してアルキル、アリールまたはアリールアルキルであり、Ｒ^３は−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−Ｏ−、エチルフェニルまたはフェニルエチルである。

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【課題】
ArF露光のような短波長露光での透過性がよく、さらに、微細加工に使用される中間層材料として好適な新規シリコーン共重合体を提供する。
【解決手段】
下記一般式
【化１】


（式中、Ａは脂肪族炭化水素基を示し。ｎは１〜５の整数を示す）
で示される水酸基を有する繰り返し単位と下記一般式
【化２】


（式中、Ｒは脂肪族炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位を含むシリコーン共重合体を提供する。 （もっと読む）

第一の対向面と第二の対向面とを有する基材；第一の対向面の上に重ねられている第一の電極層；第一の電極層の上に重ねられている発光エレメント（発光エレメントには正孔輸送層及び発光／電子輸送層が含まれており、正孔輸送層及び発光／電子輸送層は互いの上に直接重ねられ、かつ正孔輸送層には硬化ポリシロキサンが含まれ、硬化ポリシロキサンは、フィルムを形成するためにシリコーン組成物を適用する工程、及び前記フィルムを硬化する工程により製造され、前記シリコーン組成物には、カルバゾリル基、フルオロアルキル基、及びペンタフルオロフェニルアルキル基から選択される基を有するポリシロキサンが含まれる）；及び発光エレメントの上に重ねられている第二の電極層、を含む有機発光ダイオード。
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ポリカルボシラン官能性付加支持体は、表面オキシド基または表面ヒドロキシル基を包含する表面を有する支持体と、それに共有結合したポリカルボシラン層を含むことができる。該ポリカルボシラン層は、連続ポリカルボシラン基のウェブを包含することができ、ここで、該ポリカルボシラン基の炭素結合シラン部分はアルキレン部分である。場合により、追加の一つまたは複数のポリカルボシラン層を、該ポリカルボシラン層に適用することができる。 （もっと読む）

例えば半導体素子などにおける層間絶縁膜として好適に用いることができ、かつ、比誘電率が小さく、機械的強度や密着性に優れ、均一な膜質を有する膜を形成することができるポリマーの製造方法、ポリマー、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、および絶縁膜を提供する。
本発明のポリマーの製造方法は、（Ａ）ポリカルボシランの存在下、（Ｂ）加水分解性基含有シランモノマーを加水分解縮合することを含み、前記（Ａ）ポリカルボシランが、以下のポリマー（Ｉ）である。
（Ｉ）（ａ）下記一般式（１）で表される化合物と、（ｂ）下記一般式（２）で表される化合物および下記一般式（３）で表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種とを、有機溶媒中でアルカリ金属およびアルカリ土類金属の少なくとも一方の存在下にて反応させて得られるポリマー（Ｉ）：
Ｒ^１_ｋＣＸ_４−ｋ ・・・・・（１）
Ｒ^２_ｋＳｉＹ_４−ｋ ・・・・・（２）
Ｒ^３_ｍＹ_３−ｍＳｉＣＲ^４_ｎＸ_３−ｎ ・・・・・（３）
（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は同一または異なり、それぞれ１価の有機基または水素原子を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｙはハロゲン原子またはアルコキシ基を示し、ｋは０〜３の整数を示し、ｍおよびｎは同一または異なり、０〜２の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】ロール・トゥ・ロールプロセスでの使用に適応した高温安定性の平坦化フレキシブル誘電基板及びそれに用いる誘電被膜を提供すること。
【解決手段】式：［Ｒ_xＳｉＯ_(4-x)/2］_n（ここで、ｘ＝１〜４、Ｒはメチル、フェニル、ヒドリド、ヒドロキシ、アルコキシ又はこれらの組み合わせ（ただし、１＜ｘ＜４）で表されるシリコーン組成物を含む、導電性基板上に用いられる誘電被膜である。Ｒはまた、アルキル又はアリール基、アリールエーテル、アルキルエーテル、アリルアミド、アリールアミド、アルキルアミノ及びアリールアミノラジカルから独立して選ばれた他の１価ラジカルからなる。誘電被膜は網目構造を有する。光起電基板がまた開示され、その表面上に誘電被膜が設けられた導電性材料を含む。 （もっと読む）