【課題】有機成分を含まない高純度の二酸化ケイ素膜を形成するために有用な二酸化ケイ素前駆体および二酸化ケイ素前駆体組成物を提供すること。
【解決手段】上記二酸化ケイ素前駆体は、下記示性式（１）
（Ｈ_２ＳｉＯ）_ｎ（ＨＳｉＯ_１．５）_ｍ（ＳｉＯ_２）_ｋ （１）
（式（１）中、ｎ、ｍおよびｋはそれぞれ数であり、ｎ＋ｍ＋ｋ＝１としたとき、ｎは０．５以上であり、ｍは０を超えて０．３以下であり、ｋは０〜０．２である。）
で表され、１２０℃において固体状であるシリコーン樹脂である。
上記二酸化ケイ素前駆体組成物は、上記シリコーン樹脂および有機溶媒を含有する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、透明性などのポリシランが持つ高い基本物性を有し、かつ絶縁性、屈折率、撥水性などの諸特性が自由に調整可能なポリシラン化合物を提供すること。
【解決手段】分子内にフッ素含有基を有するフッ素含有ポリシラン化合物であって、該フッ素含有基の少なくとも１個が、酸素原子を介して主鎖のケイ素原子に結合している、フッ素含有ポリシラン化合物。 （もっと読む）

一段階同時加水分解によってシロキサン系組成物の新しい群を形成するためのプロセス及びそこから形成される組成物。シロキサン系組成物は、Ｃ＝Ｃ結合及びＳｉ−Ｈ結合を用いて官能化される。Ｃ＝Ｃ結合及びＨは、シロキサン系組成物のＳｉ−Ｏ主鎖のＳｉにそれぞれ直接結合される。Ｃ＝Ｃ結合は、ビニル基又はフェニル置換基のような芳香族基のものでよい。Ｃ＝Ｃ結合置換基は、シロキサン流体又はアルキル若しくはアリール官能基を含む有機化合物を要せず、標準的な脱水素カップリング触媒による架橋結合を形成するために必要な官能性をもたらす。このプロセスは、シロキサン系組成物又は樹脂中の所望のケイ素、炭素、水素及び酸素の比を調整するために、原料モノマーとして比率が変動する各シランを提供する。シロキサン系組成物は、他の材料の製造で、前駆体又は代替樹脂として使用してもよい。 （もっと読む）

【課題】取り扱いが容易で、低エネルギーで露光可能であり、ポジ型感光性材料として有用であり、高い透明性、耐熱性、および絶縁性を有し得る薄膜を形成可能なポリシラン化合物を提供すること。
【解決手段】フェノール性水酸基含有基およびカルボキシル基含有基のうちの少なくとも一方を有するポリシラン化合物であって、該フェノール性水酸基含有基およびカルボキシル基含有基のうちの少なくとも１個が、酸素原子を介して主鎖のケイ素原子に結合している、ポリシラン化合物。 （もっと読む）

【課題】シリコーン樹脂の優れた特徴を保持し、かつ高度な耐衝撃性を有する新規なオルガノポリシロキサン化合物、およびこのオルガノポリシロキサンを用いた耐衝撃性に優れた樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ＲＳｉＯ_3/2単位（式中、ＲはＳｉに結合可能な有機基、水素基から選ばれる置換基を示す。）及びＳｉＯ_4/2単位の少なくとも一方からなる構造を必須成分とし数平均分子量が１０００以上のオルガノポリシロキサン重合体に、Ｒ₂ＳｉＯ_2/2単位（式中、ＲはＳｉに結合可能な有機基、水素基から選ばれる置換基を示す。）を５０モル％以上含むオルガノシロキサン鎖を反応させたオルガノポリシロキサン化合物および該オルガノポリシロキサン化合物を含有する樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、ジシリロキサン（disilyloxane）単位を含むシリコーン樹脂、シリコーン樹脂を含有するシリコーン組成物、及び、シリコーン樹脂の硬化生成物または酸化生成物からなる被覆基板に関する。前記シリコーン樹脂は、例えば、式：［Ｏ_{（３−ａ）／２}Ｒ^１_ａＳｉ−ＳｉＲ^１_ｂＯ_{（３−ｂ）／２}］_ｖ（Ｒ^１_３ＳｉＯ_１／２）_ｗ（Ｒ^１_２ＳｉＯ_２／２）_ｘ（Ｒ^１ＳｉＯ_３／２）_ｙ（ＳｉＯ_４／２）_ｚ（ここで、各Ｒ^１は独立して−Ｈ、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり；ａは０、１、または２であり；ｂは０、１、２、または３であり；０．０１≦ｖ＜０．３、ｗは０から０．８までであり；ｘは０から０．９９までであり；ｙは０から０．９９までであり；ｚは０から０．９９までであり；およびｖ＋ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）を有する。 （もっと読む）

【課題】太陽電池の光劣化よる透光性・絶縁性低下を防ぐ太陽電池用硬化性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】下記平均組成式：Ｒ¹_a(ＯＸ)_bＳｉＯ_(4-a-b)/2（式中、Ｒ¹は独立に、炭素原子数１〜６のアルキル基、アルケニル基又はアリール基であり、Ｘは式：−ＳｉＲ²Ｒ³Ｒ⁴（ここで、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は独立に、非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で表される基と、炭素原子数１〜６のアルキル基、アルケニル基、アルコキシアルキル基もしくはアシル基又はこれらの二種以上の基との組み合わせであり、ａは1.00〜1.5の数であり、ｂは０＜ｂ＜２を満たす数であり、但し、ａ＋ｂは1.00＜ａ＋ｂ＜２である。）で表される、ポリスチレン換算の重量平均分子量が５×10⁴以上であるシリル化オルガノポリシロキサンと、縮合触媒と、を含有することを特徴とする太陽電池用硬化性オルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

【解決手段】(１)一般式(ｉ)で表わされるモノメチルシランの１種又は２種以上の混合物と、
ＣＨ₃ＳｉＣｌ_m(ＯＲ’)_3-m (ｉ)
(Ｒ’は炭素数３〜１０のアルキル基又はアリール基を表し、ｍ＝０，１又は２である。)
(２)ＣＨ₃ＳｉＣｌ₃以外のクロルシランと
をモル比として(１)／(２)＝５／９５〜１００／０の割合で用いたシラン原料を、
(Ａ)水と、
(Ｂ)水と混合、静置すると水と２相に分離する有機溶媒と
からなる溶媒混合物を撹拌しているところに、上記シラン原料中の加水分解性基Ｓｉ−Ｘ(Ｘ＝Ｃｌ及びＯＲ’)に対する(Ａ)成分の水のモル比が水／Ｓｉ−Ｘ＝５〜５０の範囲を満たすように加え、反応させることを特徴とする分子鎖末端にＳｉＯＨ基を有するシリコーン樹脂の製造方法。
【効果】本発明の製造方法によれば、末端がＳｉＯＨ基で封鎖されたシリコーン樹脂を経済的にも有利で、環境に問題を与えることなく、容易に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】従来技術を改善し、特に簡単でかつできる限り水素を発生せずにシリコーン樹脂の製造を実施できる方法を提供する。
【解決手段】１成分のＨ−シロキサン含有の付加架橋可能なシリコーン樹脂の製造方法において、反応器で完全脱塩水と芳香族溶剤及びアルキルエステルの溶剤混合物とを装入し、前記装入物に撹拌しながらクロロシラン混合物を添加し、温度は５０℃を超過せず、シリコーン樹脂を含有する反応混合物の水相を分離し、シリコーン樹脂を含有する相を１ないし複数の洗浄工程で洗浄して、残留ＨＣｌ含量を減らし、シリコーン樹脂の最後の洗浄工程に、ｐＨ値７．００〜８．５０にある塩基の０．０１〜１．０％水溶液を添加し、かつ洗浄を温度２０〜５０℃で実施する。 （もっと読む）

銅インジウム二セレン化物（ＣＩＳ）をベースとする光起電デバイスが、銅、インジウムおよびセレンを含むＣＩＳをベースとする太陽光吸収体層を備える。このＣＩＳをベースとする光起電デバイスはさらに、シリコーン組成物から形成される基板を備える。この基板は、シリコーン組成物から形成されるため、可撓性であると共に、デバイスの最大効率が得られるよう５００℃を超えるアニール温度に十分に耐えることができる。
（もっと読む）

銅インジウム二セレン化物(CIS)をベースとする光起電デバイスが、銅、インジウムおよびセレンを含むCISをベースとする太陽光吸収体層を備える。このCISをベースとする光起電デバイスはさらに、シリコーン組成物から形成されるシリコーン層と、金属箔層とを備える基板とを備える。この基板は、シリコーン層および金属箔層の存在により、可撓性であると共に、デバイスの最大効率が得られるよう500℃を超えるアニール温度に十分に耐えることができる。
（もっと読む）

【課題】比誘電率が低く、かつ、ＣＭＰ耐性および薬液耐性に優れた絶縁膜を形成することができるポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物と、（Ｂ）下記一般式（２）で表される化合物および下記一般式（３）で表される化合物から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物を、（Ｃ）塩基性化合物の存在下で共縮合することを含む。
【化１】


・・・・・（１） （もっと読む）

【課題】吸湿性および比誘電率が低く、エッチング耐性および薬液耐性に優れ、かつ、機械的強度に優れた絶縁膜を形成することができる絶縁膜形成用組成物、ポリマーおよびその製造方法、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、（Ａ）下記一般式（１）で表される少なくとも１種のシランモノマーと、（Ｂ）加水分解性基含有シランモノマーと、（Ｃ）加水分解性基含有カルボシランとを、塩基性触媒の存在下で共縮合することによって得られたポリマーと、有機溶剤と、を含有する。
【化１】


・・・・・（１） （もっと読む）

ヘテロアリールの単位およびＳｉ、Ｓｎ、ＧｅまたはＰｂの単位を含む前駆体ポリマ、これらの前駆体ポリマを製造する方法、導電性ポリマを調製するためにこれらの前駆体ポリマを利用する用途が本明細書中に開示されている。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板のエッチング処理された内周端面上に形成される被膜の厚みを大きくする。
【解決手段】中央に円孔を有する円板状ガラス板の内周端面をエッチング処理し、その内周端面に有機ポリシラザン化合物を含有する液を塗布し、焼成する工程を有し、その化合物が構造単位−Ｓi（Ｒ^１）（Ｒ^２）−（ＮＨ）−および構造単位−Ｓi（Ｒ^３）（Ｒ^４）−Ｏ−を有し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はいずれも、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基およびアルコキシ基からなる群から選ばれる基または水素であり、Ｒ^１およびＲ^２のいずれか１以上とＲ^３およびＲ^４のいずれか１以上とは前記群から選ばれる基である磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

アリールホスホン酸で置換されたオリゴマー状およびポリマー状のシロキサン
本発明は、ホスホン酸基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン、その製造方法、シリルホスホネート基及び／又はアルキルホスホネート基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン、ポリ−ホスホン酸基及び／又は少なくとも一種のシリルホスホネート基及び／又はアルキルホスホネート基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサンを含む少なくとも一種の本発明のオリゴマー状またはポリマー状のシロキサンと、少なくとも一種の他のポリマーを含む混合物、少なくとも一種の本発明のホスホン酸基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン及び／又は少なくとも一種の本発明のシリルポリホスホネート基及び／又はアルキルポリホスホネート基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサンまたは本発明に係る混合物を含む膜、フィルムまたは複合化物、ホスホン酸基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン及び／又はシリルホスホネート基及び／又はアルキルホスホネート基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン、または本発明の混合物のいろいろな利用に関する。 （もっと読む）

【課題】繊維などの蛍光（あるいは蛍光増白）に応用できる蛍光発色基を有する構造が導入されたポリオルガノシロキサンを提供する。
【解決手段】反応性の置換基を有するポリオルガノシロキサンに、蛍光（あるいは蛍光増白）に応用できる構造を有する化合物を２価以上の反応性を持つ反応性置換基で連結させる。 （もっと読む）

【課題】
有機溶媒との相溶性が高く、また、シラノール基が極めて少なく、分子量分布が狭い低分子ポリオルガノシルセスキオキサン及びその製造方法の提供。
【解決手段】
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が５００〜２０，０００であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜３．０の範囲で占められ、式〔１〕及び式〔２〕
で表される繰り返し単位、並びに式〔３〕で表される末端基を有し、上記式〔１〕中の３つの酸素原子が結合したケイ素原子が７０ｍｏｌ％以上、上記式〔２〕中の２つの酸素原子と１つの水酸基が結合したケイ素原子が３０ｍｏｌ％以下であり、上記式〔３〕中の１つの酸素原子と２つの水酸基が結合したケイ素原子が１ｍｏｌ％以下で構成されてなることを特徴とするポリオルガノシルセスキオキサン。 （もっと読む）

本発明は、ａ）一般式（Ｉ）ＣＦ₃（ＣＦ₂）_n（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）_yＸ_3-y（Ｉ）［式中、Ｘは塩素、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ及びｎ−プロポキシの系列からの基であり、ｎは３、４、５、６、７、８及び９の系列からの数であり、ｙは０又は１である］の少なくとも１種の加水分解可能なフルオロアルキルシラン、ｂ）ＨＣｌ、ｃ）水、ｄ）イソプロパノール、及びｅ）ドデカンの成分をベースとし、かつシラン成分（ａ）：水のモル比が１：４．５〜１：９であることを特徴とする特別なコーティング組成物に関する。本発明は更に、そのような組成物の製造法、及び、滑らかな無機基材表面に耐摩耗性及び耐候性の易洗浄性コーティングを施与するための該組成物の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】 感光性樹脂組成物の感光剤成分として有用である新規なシルセスキオキサン骨格を有するキノンジアジドスルホン酸エステル誘導体を提供し、またその前駆体のフェノール誘導体を該組成物における添加物として提供する。
【解決手段】 ４〜１２個のケイ素と、それぞれのケイ素に結合している酸素及び一価のＲとによって構成される基本構造を含み、端部に前記酸素を有していてもよく、端部の前記酸素にはＲが結合していてもよいし、また端部の二つの前記酸素に、二つのＲが結合している一つのケイ素が結合していてもよいシルセスキオキサン誘導体のＲの少なくとも一つに、特定のキノンジアジドスルホン酸系の基か又は水酸基を含有する特定の基を導入して、ポジ型感光性組成物における感光性化合物又は添加用化合物とする。 （もっと読む）