【解決手段】 （Ａ）一分子中に２個以上の脂肪族不飽和結合を有するオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）一分子中に２個以上のケイ素原子に結合する水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、
（Ｃ）白金族金属系触媒、
（Ｄ）離型剤
を必須成分として含有し、硬化物が無色透明となることを特徴とするレンズ成形用シリコーン樹脂組成物。
【効果】 本発明のレンズ成形用シリコーン樹脂組成物によれば、金型からの離型性に優れ、しかも無色透明で、耐熱性に優れたシリコーンレンズを形成でき、これはＬＥＤ発光装置用等として好適なものである。 （もっと読む）

低誘電率重合体は、一般式I：(Ｒ¹-Ｒ²)_n-Ｓｉ-(Ｘ¹)_4-n（ここで、Ｘ¹はそれぞれ独立して水素及び無機脱離基から選択され、Ｒ²は任意の基であって１〜６個の炭素原子を有するアルキレン又はアリーレンを備え、Ｒ¹はポリシクロアルキル基であり、ｎは整数１〜３である）で表される化合物から誘導された単量体単位を備える。重合体は優れた電気的及び機械的特性を有する。 （もっと読む）

【課題】生成物中に残留しない触媒を用いて、生成物の後加工または使用の場合に望ましくない効果をまねくことのない、櫛状にトリオルガノシロキシ基で官能化された線状オルガノポリシロキサンの選択的な合成を可能にする方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）のトリオルガノシロキシ基を有するオルガノポリシロキサンを製造する方法の場合に（ａ）第１の工程で一般式（ＩＩ）のＳｉＨ基を有するオルガノポリシロキサン（Ａ）を周期律表の第ＶＩＩＩ副族の金属およびその化合物の群から選択された触媒（Ｂ）の存在下および場合によっては助触媒（Ｋ）の存在下で水と反応させ、一般式（ＩＩＩ）のＳｉ−ＯＨを有する中間生成物に変え、（ｂ）第２の工程でこうして得られたＳｉＯＨ基を有する中間生成物をＳｉＯＨ基に対して反応性の基を有するシラン（Ｄ）と反応させる。 （もっと読む）

【課題】光エレクトロニクス材料として有用な新規な高分子化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるシルセスキオキサン骨格をポリマー主鎖中に有する高分子化合物を提供する。
化１


式（１）において、Ｘ及びＹは独立して水素原子、または炭素数１〜４０の１価有機基を示す。 （もっと読む）

【課題】 低い誘電率の絶縁材料を形成できる化合物、該化合物を含有する絶縁材料形成用組成物、該組成物より得られる絶縁材料を提供する。
【解決手段】下記一般式(１)で表される化合物、その加水分解物および／または縮合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化１】


一般式（１）中、Ｒ₁〜Ｒ₈は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。ただし、Ｒ₁〜Ｒ₈で表される基のうち少なくとも１つは、置換基として下記一般式（２）で表わされる基を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。
【化２】


一般式（Ｓ２）中、Ｘは加水分解性基を表し、Ｒ₉はアルキル基、アリール基又はヘテ
ロ環基を表す。ｍは１〜３の整数を表わす。 （もっと読む）

【課題】 光反応性基を有する新規なシルセスキオキサン重合体およびその製造方法の提供、並びに屈折率変換材料および光−熱エネルギー変換蓄積材料の提供。
【解決手段】 シルセスキオキサン重合体は、下記式（１）で表される繰り返し単位により構成され、その製造方法は、特定の繰り返し単位により構成される重合体と特定の化合物とを反応させる。
【化１】


〔式中、Ｒ¹ は、下記式（ａ）で表される基を示す。ｎは繰り返し数である。〕
【化２】


〔式中、Ｒ² は、下記式（イ）〜式（リ）のいずれかで表される基を示す。〕
【化３】


〔式（ホ）において、Ｒ³ は、水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のシクロアルコキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基または−ＣＦ₃ 基を示す。式（チ）において、Ｒ⁴ は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基またはジメチルアミノ基を示す。〕 （もっと読む）

本発明は、電子材料、光学材料、コーティング材料、シーリング材料または触媒担持体として有用であり、さらに高分子材料の難燃性、耐熱性、耐候性、耐光性、電気絶縁性、表面特性、硬度、力学的強度、または耐薬品性などの各種物性を向上させるための添加剤としても利用できる新規な有機ケイ素化合物およびポリシロキサンを提供する。即ち本発明は、式（１）で示される有機ケイ素化合物、および該有機ケイ素化合物を単量体として含有するポリシロキサンである。

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【課題】 本発明は、高分子鎖を有する高純度フラーレンを、工業的に有利に製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明は、フラーレンと一般式
【化１】


［式中、Ｒは高分子鎖を示す。ｎは１〜１０の整数を示す。］
で表されるマクロアゾ開始剤とを反応させて、一般式
ＨＯ−Ｒ− （２）
［式中、Ｒは前記に同じ。］
で表される高分子鎖を有するフラーレンを製造する方法である。 （もっと読む）

撥油性、撥水性、および汚れ抵抗性を基材に付与するのに有用な組成物であって、ポリフルオロアルキルスルホニルハライドを式ＩＩ、ＩＩＩ、またはＩＶの化合物
式ＩＩ：
（Ｅ−（Ｏ）_ｑ）_３Ｓｉ−Ｏ−（Ｓｉ（Ｒ^２）_２−Ｏ）_ｍ−［Ｓｉ（Ｒ^３−ＮＨＲ^４）（Ｒ^２）Ｏ］_ｎ−Ｓｉ−（（Ｏ）_ｑ−Ｅ）_３
式ＩＩＩ：
ＨＲ^４Ｎ−Ｒ^３−Ｓｉ（Ｒ^２）_２−Ｏ−［Ｓｉ（Ｒ^２）_２−Ｏ］_ｍ−［Ｓｉ（Ｒ^３−ＮＨＲ^４）（Ｒ^２）Ｏ］_ｎ−Ｓｉ（Ｒ^２）_２−Ｒ^３−ＮＨＲ^４
式ＩＶ：
ＨＲ^４Ｎ−Ｒ^３−Ｓｉ（Ｒ^２）_２−Ｏ−［Ｓｉ（Ｒ^２）_２−Ｏ］_ｍ−Ｓｉ−（（Ｏ）_ｑ−Ｅ）_３
（式中、
それぞれのＲ^２は、独立に、Ｃ_１〜Ｃ_８のアルキルであり、
それぞれのＲ^３は、独立に、炭素と、酸素と、任意選択的に窒素、酸素、および硫黄のうちの少なくとも１つとを含む２価の基であり、
それぞれのＲ^４は、独立に、ＨまたはＣ_１〜Ｃ_８のアルキルであり、
それぞれのＥは、独立に、Ｃ_１〜Ｃ_８の分枝状または線状アルキルであり、
それぞれのｑは、独立に、０または１であり、
ｎ／（ｍ＋ｎ）が０、または最高約０．７の値を有する正の分数であり、かつポリマー粘度が、２０℃の温度において０．１ｓ^−１のせん断速度下で１００００ｍＰａ．ｓ以下であるように、ｍは正の整数であり、ｎは独立に、０または正の整数である）と接触させることによって製造されたポリマーを含む組成物。 （もっと読む）

【課題】連続的な塔を含む製造の利点を３次元の架橋されたアルコキシに乏しいオルガノポリシロキサン（シリコーン樹脂）のためにも可能にする塔処理を提供する。
【解決手段】反応ユニットに恒常的にハロゲンシラン、アルコール及び水を、反応ユニット内に常に、添加されたハロゲンシランのＳｉ−ハロゲン単位により消費され得るのよりも多い水が含まれているような量で添加することを特徴とする、オルガノポリシロキサンの製造法。 （もっと読む）

【課題】 界面活性剤として化学産業の分野で広く用いることのできる新規なホスホリルコリン基含有シロキサン化合物及び、その製造方法を提供すること。
【解決手段】 式（１）
【化１】


（式中、Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はホスホリルコリン基を有する特定の基であり、ｎは０〜１００の整数である。Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、少なくともいずれか一方はホスホリルコリン基を有する特定の基である。）で示されるホスホリルコリン基含有シロキサン化合物。 （もっと読む）

酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含み、前記（Ａ）成分が、（ａ１）下記一般式（Ｉ）で表される構成単位、（ａ２）下記一般式（ＩＩ）で表される構成単位、および（ａ３）下記一般式（ＩＩＩ）で表される構成単位を有するシルセスキオキサン樹脂（Ａ１）、又は（ａ１）下記一般式（Ｉ）で表される構成単位、および（ａ２’）下記一般式（ＩＩ’）で表される構成単位を有するシルセスキオキサン樹脂（Ａ２）を含有してなるポジ型レジスト組成物。下記一般式において、Ｒ^１は炭素数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキレン基を表し、Ｒ^２は炭素数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキレン基を表し、Ｒ^３は酸解離性溶解抑制基を表し、Ｒ^６は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ^７は炭素数１〜５のアルキル基または水素原子を表し、Ｒ^８は炭素数５〜１５の脂環式炭化水素基を表す。

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【課題】電子材料、光学材料、コーティング材料、シーリング材料または触媒担持体として有用であり、さらに高分子材料の難燃性、耐熱性、耐候性、耐光性、電気絶縁性、表面特性、硬度、力学的強度、または耐薬品性などの各種物性を向上させるための添加剤としても利用できる新規な有機ケイ素化合物およびポリシロキサンの提供。
【解決手段】式（１）で示される有機ケイ素化合物、および該有機ケイ素化合物を単量体として含有するポリシロキサン。
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式：
（ＨＳｉＯ_３／２）_ａ（ＲＳｉＯ_３／２）_ｂ（ＳｉＯ_４／２）_ｃ
式中、Ｒが、Ｚ、Ｚ（ＣＨ_２）_ｎ、もしくはＺＯ（ＣＨ_２）_ｎであり、ここで、Ｚが、フェニルもしくは置換フェニル基であり、ｎが、値１〜６を持ち、ａが、値０．０１〜０．７を持ち、ｂが、値０．０５〜０．７を持ち、ｃが、値０．１〜０．９を持ち、ａ＋ｂ＋ｃ≒１
を持っているシロキサン樹脂。本シロキサン樹脂は、抗反射コーティング組成物において、有用である。 （もっと読む）

式：（ＰｈＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_mＨＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_n（ＭｅＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_p（ＲＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_q（式中、Ｐｈはフェニル基であり、Ｍｅはメチル基であり、Ｒはエステル基及びポリエーテル基から選択され、ｘは０、１又は２の値を有し、ｍは０．０５〜０．９５の値を有し、ｎは０．０５〜０．９５の値を有し、ｐは０．０５〜０．９５の値を有し、ｑは０．０１〜０．３０の値を有し、ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ≒１である）を有する反射防止膜を形成するのに有用なシルセスキオキサン樹脂。 （もっと読む）

本発明は、式（１−０）で示されるシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体である。


Ｒ^０；水素，アルキル，シクロアルキル，アリール，アリールアルキル、
Ｒ^１；塩素，Ｒ^０，−ＣＮを有する基、
Ｘ ；反応性の基又はＲ^１（ただしＸの少なくとも２つは反応性の基）
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本発明は、式（１−０）で示されるシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体である。


Ｒ^０；水素，アルキル，シクロアルキル，アリール，アリールアルキル、
Ｙ ；式（ａ）又は式（ｂ）で示される基、 Ｚ；−Ｏ−，−ＣＨ_２−，単結合、
Ｘ ；反応性の基又はＲ^０（ただしＸの少なくとも１つは反応性の基）
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【課題】表面の疎水性／疎油性仕上げのための高性能なコーティング原料を提供する。
【解決手段】新規フルオロシラン縮合生成物、それらの製造方法および表面改質のための使用方法。 R_F-CH₂-CH₂-SiX₃ (A)で表され、そしてこの式の中で、 R_Fが完全にまたは部分的にフッ素化されたアルキルラジカルであり、 XがClまたはO-C_nH_2n+1であり、そして nが1から20までの整数である、含フッ素（fluorous）シラン (A) を、 式 (B) 、 R(OH)_m(NH₂)_p (B)で表され、そしてこの式の中で、 RがC-およびH-含有有機ラジカルであり、mおよびpが 条件a) m > 2かつp = 0、または 条件b) m > 1かつp > 1、のどちらか一方の条件に付される1種または2種以上のアルコールと反応させることによって製造することができる化合物。 （もっと読む）

【課題】 分子量分布が極めて狭い状態に制御され、重合体として充分な高分子量を有するポリシロキサンを提供すること。
【解決手段】 重量平均分子量［Ｍｗ］が２５００より大きく、分子量分布（重量平均分子量［Ｍｗ］と数平均分子量［Ｍｎ］との比）Ｍｗ／Ｍｎが１．０〜２．５であることを特徴とするポリシロキサン。該ポリシロキサンは、アルコキシシラン化合物及び／又はクロロシラン化合物の加水分解−重縮合反応を、常に塩基性条件下で行なうことにより得ることができる。 （もっと読む）

脱ガス現象を低減することができるシルセスキオキサン樹脂、ポジ型レジスト組成物、レジスト積層体、レジストパターン形成方法が提供され、またイマージョンリソグラフィーに好適なシリコン含有レジスト組成物及びレジストパターン形成方法が提供される。上記シルセスキオキサン樹脂は、下記一般式［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、直鎖状、分岐状又は環状の飽和脂肪族炭化水素基；Ｒ^３は単環又は多環式基を含有する炭化水素基からなる酸解離性溶解抑制基；Ｒ^４は水素原子、もしくは直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基；Ｘは、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜８のアルキル基；ｍは１〜３の整数］で表される構成単位を有する。

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