【課題】低粘度、正確な分子量、及び異なった２つのポリマー末端を有する線状シロキサンポリマー、このようなシロキサンポリマーを生成する方法およびこのようなシロキサンポリマーからなるエラストマの提供。
【解決手段】１つの不飽和基末端及び１つのヒドリド基末端を有する線状シロキサンポリマーであって、シロキサンポリマーが６を超える重合度を有し、不飽和基末端とヒドリド基末端の比が実質的に１：１であるシロキサンポリマーであり、このようなシロキサンポリマーをＰｔ^０錯体などの触媒の存在下において、１５０℃未満の温度で段階成長重合を経て、エラストマーを生成する。 （もっと読む）

【課題】高温多湿下で使用された場合であっても、光半導体装置の明るさが低下し難い、光半導体装置用封止剤及び光半導体装置を提供する。
【解決手段】分子内にエピスルフィド含有基を有するシリコーン樹脂と、エピスルフィド含有基と反応可能な熱硬化剤とを含有する光半導体装置用封止剤であって、シリコーン樹脂は、平均組成式が下記式（１）で表される樹脂成分を含有し、かつエピスルフィド含有基の含有比率が３〜５０モル％であることを特徴とする光半導体装置用封止剤。
【化１】


式（１）において、ａ／（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）＝０〜０．２、ｂ／（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）＝０．３〜１．０、ｃ／（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）＝０〜０．５、ｄ／（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）＝０〜０．３を満たし、Ｒ^１〜Ｒ^６は、少なくとも１個がエピスルフィド含有基を表し、他のＲ^１〜Ｒ^６は、直鎖状若しくは分岐状の炭素数１〜８の炭化水素或いはそのフッ素化物を表す。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において、フォトレジスト膜の良好なパターン形成が可能であり、良好なドライエッチング耐性を有するエッチングマスク用ケイ素含有膜を形成でき、保存安定性が良好であり、剥離プロセスで使用される溶液で剥離が可能なケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜形成基板、更にパターン形成方法を提供する
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において成膜されるケイ素含有膜を形成するための熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物であって、少なくとも、（Ａ）酸を触媒として用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、（Ｂ）熱架橋促進剤、（Ｃ）炭素数が１〜３０の１価又は２価以上の有機酸、（Ｄ）３価以上のアルコール、（Ｅ）有機溶剤、を含むことを特徴とする熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】長期間の繰り返し使用によってもトナーやトナーに用いられる外添剤などが表面に固着しにくく、高温高湿環境下で水分の影響を適度に受け、ＤＣ接触帯電方式に用いても、長期間安定した帯電及び画像出力が可能な帯電部材を提供する。
【解決手段】最外層がオキシアルキレン基を有するポリシロキサンから形成されている帯電部材であって、該ポリシロキサン中の水酸基量（帯電部材表面にゲルマニウムプリズムを当接して顕微ＡＴＲ−ＩＲ法にて全反射の赤外線吸収強度を測定した時、Ｃ−Ｈ伸縮振動由来のピーク（２９３２ｃｍ^-1）の強度を１００とし、それに対する水酸基由来のピーク（３３５２ｃｍ^-1）の強度の大きさ）が５０．０％以上１００．０％以下であることを特徴とする帯電部材。 （もっと読む）

【課題】
重合後の相分離領域を形成する傾向を減少させる一の官能基を有する低分子量シロキサン材料を提供する。
【解決手段】
２種類のシロキサン材料が含まれる：（１）少なくとも２つのモノマー末端と、末端から等距離にある一つの重合可能な官能基とを有する対称シロキサンマクロモノマー、及び（２）少なくとも一つの重合可能な官能基末端と、ヒドロキシル、エーテル、及びポリエーテルからなる群から選択される少なくとも一つの酸素含有極性親水性末端とを有する非対称シロキサンマクロモノマー。対称シロキサンマクロモノマーは、コンタクトレンズ、組織再生足場ポリマー、蛋白への非特異的結合を低減する塗料のような生体適合性材料の形成に有用である。 （もっと読む）

【課題】透明で高い屈折率を有し、硬化時にクラックが発生しにくく、耐光性に優れた発光素子封止用樹脂組成物を提供する
【解決手段】二つ以上のオキセタニル基を含有するシルセスキオキサン樹脂と、カチオン重合開始剤と、有機基で表面修飾された金属酸化物微粒子からなる有機基修飾金属酸化物微粒子とを含有する発光素子封止用樹脂組成物とする。 （もっと読む）

【課題】高耐久で、現像効率が安定し、かつ、カブリ及び弾性層が含有する低分子量染み出しの発生を抑制する表面層を有する現像ローラであって、耐圧縮永久歪性にも優れた現像ローラの提供。
【解決手段】現像ローラの表面層が、フッ化アルキル基及びオキシアルキレン基を含有するポリシロキサンを含有し、かつ、ＳｉＯ_0.5Ｒ¹（ＯＲ²）（ＯＲ³）で示される第１のユニット、ＳｉＯ_1.0Ｒ⁴（ＯＲ⁵）で示される第２のユニット及びＳｉＯ_1.5Ｒ⁶で示される第３のユニットを有するポリシロキサンを含有する。該ポリシロキサン中の前記第１のユニットのモル数をｘ［ｍｏｌ］とし、前記第２のユニットのモル数をｙ［ｍｏｌ］とし、前記第３のユニットのモル数をｚ［ｍｏｌ］としたとき、０．６０≦｛（ｘ＋ｙ）／（ｘ＋ｙ＋ｚ）｝≦０．８０である。 （もっと読む）

ヘテロアリールの単位およびＳｉ、Ｓｎ、ＧｅまたはＰｂの単位を含む前駆体ポリマ、これらの前駆体ポリマを製造する方法、導電性ポリマを調製するためにこれらの前駆体ポリマを利用する用途が本明細書中に開示されている。 （もっと読む）

【課題】 高分子化合物自体として安定でありながら、光分解感度が優れ、しかも利用しやすい化合物を利用した光分解性高分子化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 ニトロ置換ベンジル基が末端に導入された高分子化合物に、開環重合開始剤の存在下、環状モノマーを開環付加重合反応させることにより、環状モノマーとしては環状エーテル化合物、環状エステル化合物、環状チオエーテル化合物、環状アミド化合物、環状シロキサン化合物が挙げられる、光分解性高分子化合物の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）一般式（１）及び／又は一般式（２）
Ｒ¹ＲＳｉＯ_2/2単位 （１）
Ｒ¹Ｒ₂ＳｉＯ_1/2単位 （２）
（Ｒは水素原子又は一価炭化水素基、Ｒ¹はエポキシシクロヘキシル基含有有機基。）
で示される単位と、一般式（３）
（Ｃ₆Ｈ₅）₂ＳｉＯ_2/2単位 （３）
で示される単位を有し、１分子中のＲ¹が２〜４個、Ｒ¹当量が２５０〜５００、Ｃ₆Ｈ₅含有量が３０〜４５質量％、重量平均分子量が８００〜１５００である、アルコキシ基を含有しないシリコーン化合物、（Ｂ）アクリル系ポリマー、（Ｃ）光酸発生剤を含有してなる硬質保護被膜形成用光硬化性コーティング剤、及び、上記コーティング剤による硬質保護被膜が形成された物品。
【効果】本発明の硬質保護被膜形成用光硬化性コーティング剤は、高温条件、高湿条件に放置しても収縮が殆どなく、高硬度の被膜を形成するもので、各種プラスチック表面の保護皮膜、特に光ディスクの保護膜として好適である。 （もっと読む）

【課題】 エンジニアリングプラスチックなどの樹脂の溶融成形における流動性を向上又は改善する。
【解決手段】 樹脂（例えば、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ（チオ）エーテル系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリケトン系樹脂、ポリイミド系樹脂、超高分子量ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂などの熱可塑性樹脂）に、ポリシラン化合物で構成された改質剤を添加する。前記ポリシラン化合物は、例えば、ポリアルキルアリールシラン（ポリメチルフェニルシランなど）、ポリジアリールシラン（ポリジフェニルシランなど）などであってもよい。前記改質剤は、樹脂１００重量部に対して、例えば、０．１〜５０重量部程度の割合で樹脂に添加できる。 （もっと読む）

（Ａ）少なくとも一つの脂肪族不飽和を有する化合物；（Ｂ）メチル水素シクロシロキサンと、脂肪族不飽和、ヒドロキシ官能性、またはこれらの混合物を含む反応物との白金触媒カップリング反応によって調製される、ケイ素が結合した水素原子（ＳｉＨ）を一分子あたり少なくとも一つ含む環状有機水素ケイ素架橋化合物；（Ｂ１）ケイ素が結合した水素原子を一分子あたり少なくとも一つ含む直鎖状または分枝状の非環式有機水素ケイ素架橋化合物；を含む組成物。前記組成物は、（Ｃ）白金族金属含有触媒を加えることによって剥離被覆組成物の調製に使用することができる。成分（Ｂ）及び（Ｂ１）を含む剥離被覆組成物は成分（Ｂ）のみを含む剥離被覆組成物よりも優れた硬化、より優れた接着、及びより低い剥離力を有する。 （もっと読む）

【課題】高分子量であっても迅速に輻射線硬化されるシリコーン組成物を提供する。
【解決手段】フルオロシラン停止剤を、非ヒドロキシル性溶剤中におけるリビングポリマーシロキサノレート溶液と反応させて、式、


で表わされるシロキサンマクロモノマーを形成する。 （もっと読む）

本発明は、Ｓｉ−結合ヒドロキシ基を一方の分子鎖末端でのみ有するジオルガノポリシロキサンの製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】遊離基反応性の、置換または非置換のアルキル末端ポリジメチルシロキサン組成物を合成および精製するための一般的方法を提供する。
【解決手段】異なる分子量を有する、単分散および狭分散の単官能性ポリジメチルシロキサンメタクリレート誘導体の合成と精製とを開示する。単分散または狭分散の単官能性ポリジメチルシロキサン組成物を調製するための方法は、ヘキサメチルシクロトリシロキサンを、式：ＲＬｉのアルキルリチウム化合物と反応させる工程であって、前記式中、Ｒは、１〜８個の炭素原子のアルキル基である、工程、を含む。 （もっと読む）

【課題】 ナノメータサイズの機能性色素分散構造を有機ポリマー中に構築した新規な有機薄膜の提供、及び、該有機薄膜を光記録媒体に応用して、記録体の面積自体が照射光の回折限界よりも小さく、かつ記録体がドット列化した光記録媒体とすることにより、従来の光記録媒体では実現不可能な、ピックアップレンズの回折限界を超えた記録密度で記録再生可能な超高密度光記録媒体の提供。
【解決手段】 互いに非相溶のポリマー鎖が結合したブロック共重合体により形成されたミクロ相分離構造を有し、該ミクロ相分離構造の一方の分離相を形成するポリマー鎖がポリシラン構造を有する構造体に光照射することにより分解されたポリシラン構造部分が機能性色素を含有することを特徴とする有機薄膜とそれを用いた光記録媒体。 （もっと読む）

本発明は、陽イオン方法によって硬質皮膜に架橋でき、防汚特性及び／又は防ミスト特性をさらに示す組成物に関するものである。非官能化シリカのコロイド粒子を含む該組成物は、少なくとも１種の架橋性及び／又は重合性シリコーン単量体、オリゴマー及び／又は重合体であって次式（Ｉ）の少なくとも一つの単位：Ｚ¹（Ｒ⁰）_aＳｉＯ_(3-a)/2（式中ａ＝０、１又は２であり、Ｒ⁰は、ａ＞１のときには同一又は異なるものであり、そしてアルキル、シクロアルキル、アリール、ビニル、水素又はアルコキシ基、好ましくは低級Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルを表し、Ｚ¹は、式（Ｉ）の単位の数が１以上のときには同一又は異なるものであり、そして少なくとも１個のエポキシ及び／又はアルケニルエーテル及び／又はオキセタン及び／又はジオキソラン及び／又はカーボネート反応性官能基を含む有機置換基であり、ここで、Ｚ¹は、好ましくは、少なくとも１個のエポキシ及び／又はジオキソラン反応性置換基を含む有機置換基である。）及び１分子当たり少なくとも２に等しい珪素原子の総数を含むものと、有効量の少なくとも１種の陽イオン開始剤と、随意として少なくとも１種の有機溶媒とをさらに含む。 （もっと読む）