【課題】 透明基板の表面上に設けた際に十分な機械強度を有するシリカ系被膜を提供する。
【解決手段】 上記課題を解決するシリカ系被膜は、透明基板上に形成するためのシリカ系被膜であって、その弾性率が５ＧＰａ以上であるものである。 （もっと読む）

【課題】 改良されたポリウレタン軟質成形フォームの製造。
【解決手段】 ウレタン触媒、発泡剤として水、場合により気泡開放剤、および式：
Ｍｅ₃Ｓｉ(ＯＳｉＭｅ₂)_x(ＯＳｉＭｅＧ)_yＯＳｉＭｅ₃
｛式中、ｘは１〜４.５の平均値を有し、そしてｙは０.７５〜７.５の平均値を有し、ｘ／ｙの値は０.２５〜５であり、そしてｘ＋ｙの値は５よりも大きく９までであり、Ｇは式−Ｄ(ＯＲ'')_mＡ［ここで、Ｄは二価の有機結合基であり、Ｒ''はアルキレン基であり、ｍは１〜５の平均値を有し、そして Ａは−ＯＲ'''または−ＯＯＣＲ'''基（ここで、Ｒ'''はメチル、エチルならびに メチルおよびエチルの組合せからなる群から選ばれる）を示す］を有する基である｝を有するシリコーン界面活性気泡安定剤の存在下で、有機ポリイソシアネートをポリオールと反応させることからなる。 （もっと読む）

【課題】 低い誘電率を有する絶縁膜を形成可能な絶縁材料形成用組成物および当該組成物より得られる絶縁膜。
【解決手段】 一般式（１）で表される化合物、その加水分解およびその縮合物から選ばれる少なくとも１種以上のシラン化合物に、一般式（２）で表される化合物を添加して、加水分解、縮合して得られる化合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化１】


一般式（１）中、Ｘ¹は、加水分解性基を表し、Ｒ¹は、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、ｎ₁は１〜３の整数を表し、ｍ₁は２以上の整数を表す。Ｌ¹は、単結合または２価の連結基を表し、Ａは、かご型構造を含有する基を表す。
【化２】


一般式（２）中、Ｘ₂は、加水分解性基を表わし、Ｒ₂〜Ｒ₄は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基又はビニレン基を表わす。 （もっと読む）

本発明は、電子材料、光学材料、コーティング材料、シーリング材料または触媒担持体として有用であり、さらに高分子材料の難燃性、耐熱性、耐候性、耐光性、電気絶縁性、表面特性、硬度、力学的強度、または耐薬品性などの各種物性を向上させるための添加剤としても利用できる新規な有機ケイ素化合物およびポリシロキサンを提供する。即ち本発明は、式（１）で示される有機ケイ素化合物、および該有機ケイ素化合物を単量体として含有するポリシロキサンである。

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【課題】電子材料、光学材料、コーティング材料、シーリング材料または触媒担持体として有用であり、さらに高分子材料の難燃性、耐熱性、耐候性、耐光性、電気絶縁性、表面特性、硬度、力学的強度、または耐薬品性などの各種物性を向上させるための添加剤としても利用できる新規な有機ケイ素化合物およびポリシロキサンの提供。
【解決手段】式（１）で示される有機ケイ素化合物、および該有機ケイ素化合物を単量体として含有するポリシロキサン。
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【課題】 優れた紫外線吸収性を示し、アルコキシシリル基を有する新規な紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法、並びに耐熱性及び耐水性に優れ、該化合物を安定にコーティング膜中に保持することが可能なコーティング組成物、及びこの組成物の硬化皮膜にて被覆してなる被覆物品を提供する。
【解決手段】 式（１）又は（２）の紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物。
【化１】


［Ｒ¹はアルキル基又はアリール基、Ｒ²はアルキル基、Ｒ³¹は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アリール基又はアシロキシ基、Ｒ³²〜Ｒ³⁴は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基又はアルコキシ基、Ｒ³⁵はエステル結合含有二価有機基、Ｒ³⁶は二価炭化水素基、ａは０〜２、Ｚは式（３）
【化２】


の基、Ｒは水素原子又は一価炭化水素基、Ｒ²はアルキル基、０＜ｍ≦１、０≦ｎ≦２、０≦ｐ＜３、０≦ｑ≦３、０＜ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＜４］ （もっと読む）

式：（ＰｈＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_mＨＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_n（ＭｅＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_p（ＲＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_q（式中、Ｐｈはフェニル基であり、Ｍｅはメチル基であり、Ｒはエステル基及びポリエーテル基から選択され、ｘは０、１又は２の値を有し、ｍは０．０５〜０．９５の値を有し、ｎは０．０５〜０．９５の値を有し、ｐは０．０５〜０．９５の値を有し、ｑは０．０１〜０．３０の値を有し、ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ≒１である）を有する反射防止膜を形成するのに有用なシルセスキオキサン樹脂。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性および耐熱水性を付与する透明な熱硬化型オルガノシロキサン樹脂塗料の調製方法、および該塗料で表面を保護されたポリカーボネート樹脂成形体を提供する。
【解決手段】 コロイダルシリカと下記式（１）で表わされるアルコキシシランの加水分解物とを縮合反応させたオルガノシロキサン樹脂塗料を調製するにあたり、シリカ微粒子の平均粒子径が１０〜７０ｎｍであり、且つその粒子径に基づく変動係数が２０〜４０％になるように反応させることを特徴とす調製方法。


（但し、式中Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、またはメタクリロキシ基、アミノ基、グリシドキシ基、３，４−エポキシシクロヘキシル基からなる群から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ^３は炭素数１〜４のアルキル基、ｍ、ｎはそれぞれ０、１、２のいずれかの整数、ｍ＋ｎは０、１、２のいずれかの整数である） （もっと読む）

【課題】
イオン伝導性置換基を有するオルガノポリシロキサンからなる導電性シリコーン材料であって、特にコーティング剤として製膜性が良好であり、かつ耐熱性に優れ、表面抵抗値の経時変化が少ない伝導性シリコーン材料、および該材料からなる導電性コーティング膜を提供する。
【解決手段】
メルカプト基を有しないシラン化合物Ａおよびメルカプト基を有するシラン化合物Ｂを、反応系に供給し、共加水分解および重縮合を進行させて、オルガノポリシロキサンのゾル溶液を得る工程と、
該ゾル溶液を乾燥させて固化させて固化物を得る工程と、
該固化物のメルカプト基を酸化させる工程と
を含む方法によって得られるオルガノポリシロキサンからなる導電性シリコーン材料、ならびに該導電性シリコーン材料からなる導電性コーティング膜。 （もっと読む）

【解決手段】 酸存在下、極性溶媒を含む溶媒中で、下記一般式（１）で表されるアルコキシシランと水を反応させることを特徴とする下記一般式（２）で表されるかご状オリゴシロキサンを製造する方法。
Ｒ¹Ｓｉ（ＯＲ²）₃ （１）
（Ｒ¹ＳｉＯ_3/2）_n（Ｒ¹ＳｉＯ₂Ｈ）₃ （２）
（一般式（１）及び（２）において、Ｒ¹は水素原子、炭素原子数１〜２０の置換又は非置換の炭化水素基又はケイ素原子数１〜１０のケイ素原子含有基から選ばれる。ＯＲ²は炭素原子１〜６のアルコキシル基である。ｎは２〜１０の整数である。）
【効果】 本発明によれば、酸存在下極性溶媒を含む溶媒中でアルコキシシランを水と反応させることで、高純度かつ容易に目的とするシラノール基を有するかご状オリゴシロキサンを製造できる。また、本発明で製造したかご状オリゴシロキサンは、新規な電子材料、光学材料、電子光学材料、触媒担体、又は樹脂改質剤の反応中間原料として極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】 水が無い状態、又は低水分下でも、プロトン伝導性に優れ、熱安定性・化学安定性が高く、かつ製造が容易で低コストであるプロトン伝導材料を提供する。又、水が無い状態、又は低水分下で高温動作に対応し得る燃料電池を実現する。
【解決手段】 イオン交換基１当量当たりの乾燥重量（ＥＷ）が２５０以下、好ましくは、ＥＷが２００以下であるプロトン伝導材料。
【化１】
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【課題】 塗布均一性に優れ、熱的に安定な酸化物被膜を形成することができる酸化物被膜形成用塗布液、均一で熱的に安定な酸化物被膜の製造法及び均一で熱的に安定な酸化物被膜を有する半導体装置の製造法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）一般式（Ｉ）
【化１】


（式中Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ′は炭素数１〜３のアルキル基、ｍは０、１または２を意味する）で表されるアルコキシシラン化合物を溶媒の存在下に加水分解及び縮重合させ、加水分解によって生成する１価アルコールを除去してなる酸化物被膜形成用塗布液、この塗布液を、基体表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成することを特徴とする酸化物被膜の製造法及びこの塗布液を、半導体素子表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成して酸化物被膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造法。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ
（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ原子、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉ原子を含む基又は有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）
で表される化合物、その化合物の多量体、及び／又はその化合物の部分縮合物を必須成分としてを加水分解縮合して得られ、Ｓｉ原子１モルに対する、Ｓｉ原子に結合しているＨ、Ｆ、Ｂ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ及びＣ原子からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子の総含有割合が０．９０〜０．２０である樹脂を含むシロキサン樹脂、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び（ｃ）成分：非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有する。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：シロキサン樹脂と、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤と、（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒と、有機酸及び／又は無機酸とを含有してなる放射線硬化性組成物であり、非プロトン性溶媒がエーテルアセテート系溶媒又はエーテル系溶媒を含むものである。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）：
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ
（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ原子、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉ原子を含む基又は有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）
で表される化合物、その化合物の多量体、及び／又はその化合物の部分縮合物を必須成分としてを加水分解縮合して得られる樹脂を含むシロキサン樹脂、（ｂ）：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び（ｃ）：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有してなり、上記化合物が、テトラアルコキシシラン及びトリアルコキシシランを含むものである。 （もっと読む）

【課題】金属表面に任意量のシリケート化合物を強固に結合させ得るシリケート化合物付与剤及び金属表面に該付与剤からなる層を形成してなる複合金属材を提供する。
【解決手段】１）金属アルコキシドと、２）互いに重合可能な官能基を有するシリケート化合物との縮重合体からなる、金属表面へのシリケート化合物付与剤及び金属表面に該付与剤からなる層を形成してなる複合金属材。 （もっと読む）

【課題】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなる有機無機ハイブリッド構造を有するシリカ系メソ構造体であるにも拘らず、十分な柔軟性を有しており、柔軟性が高く強度に優れた自立膜を形成することができ、しかも機能性の高い種々の有機基を骨格内に導入することが可能なシリカ系メソ構造体を提供すること。
【解決手段】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなり、１ｎｍ以上のｄ値に相当する回折角度に１本以上のピークを有するＸ線回折パターンを示すシリカ系メソ構造体であって、Ｔサイト骨格成分の存在割合（Ｔモル％）と、Ｄサイト骨格成分の存在割合（Ｄモル％）と、Ｓサイト骨格成分の存在割合（Ｓモル％）とが、Ｔ≠０の場合は下記数式（Ｆ１）、Ｔ＝０の場合は下記数式（Ｆ２）：
｛（Ｄ＋Ｓ）／（Ｔ＋Ｄ＋Ｓ）｝≧０．１ （Ｆ１）
｛Ｓ／（Ｄ＋Ｓ）｝≦０．９］ （Ｆ２）
で表される条件を満たしていることを特徴とするシリカ系メソ構造体。 （もっと読む）

【課題】 従来のポーラス膜と同等又はそれ以下の比誘電率を有し、しかも十分に機械強度に優れたシリカ系硬化被膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 上記課題を解決する本発明のシリカ系硬化被膜の形成方法は、基板上に形成されたシリカ系被膜上に第１の触媒を含有する液体を塗布する第１工程と、第１工程の後にシリカ系被膜を硬化してシリカ系硬化被膜を得る第２工程とを有するものである。 （もっと読む）

本発明は、粒状物およびモノリス、その製造方法、およびその使用、例えば、クロマトグラフィー分離材料を含む多孔性無機／有機の均質な共重合体ハイブリッド材料に関する。 （もっと読む）

少なくとも一つの複素環を有し、プロトン交換膜（ＰＥＭ）の製造に使用できるポリマー、ポリマー先駆体及び他の材料を記載する。代表的な例において、該複素環はフッ素化されたイミダゾール環である。該複素環は低い値のｐＫａを有するために選択でき、及びトリアゾール環、他の窒素含有複素環又はこれらの誘導体であってもよい。ポリマー及び複合物が優秀なプロトンで伝導性をもって調製された。これら材料の適用は、燃料電池及び他のイオン伝導性用途を含む。 （もっと読む）